Ograniczanie wyników
Czasopisma help
Autorzy help
Lata help
Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 103

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  ion implantation
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
EN
The wettability of nitrogen and argon implanted WC-Co indexable knives used for wood-based material machining. An attempt was made to examine the effect of the depth profiles of the implanted ions on the wettability of ion implanted WC-Co tools used for wood-based material machining. The tests were carried for two types of the tool surfaces, i.e. initial and polished, two commonly used gases, i.e. nitrogen and argon, and for the values of the parameters, possible to control in the case of classic ion implanters. Four depth profiles were modelled for two different values of the acceleration voltage, two for each implanted element. The modelling parameters were selected so that the two modelled depth profiles for both implanted elements were similar. The wettability tests were carried using a computer-supported test stand. The obtained results did not confirm the hypothesis about the relationship between the wettability and the position and the shape of the depth profiles.
PL
Zwilżalność implantowanych azotem i argonem narzędzi WC-Co, wykorzystywanych w obróbce materiałów drewnopochodnych. Podjęto próbę sprawdzenia wpływu profili głębokości implantowanych jonów na zwilżalność implantowanych jonowo narzędzi WC-Co, stosowanych do obróbki materiałów drzewnych. Badania przeprowadzono dla dwóch rodzajów powierzchni narzędzi, tj. wyjściowej i polerowanej, dwóch powszechnie stosowanych gazów, tj. azotu i argonu oraz dla wartości parametrów możliwych do uzyskania w przypadku klasycznych implantatorów jonów. Zamodelowano cztery głębokościowe profile dla dwóch różnych wartości napięcia przyspieszającego, po dwa dla każdego implantowanego pierwiastka. Parametry modelowania dobrano tak, aby dwa modelowane profile głębokości dla obu implantowanych pierwiastków były podobne. Badania zwilżalności były prowadzone na wspomaganym komputerowo stanowisku testowym. Uzyskane wyniki nie potwierdzają hipotezy o zależności między zwilżalnością a położeniem i kształtem głębokościowych profili implantowanych pierwiastków.
EN
Modelling of the similar depth profiles of two different kinds of ions, implanted to WC-Co tools, used in wood-based material machining. An attempt was made to model the similar depth profiles of ions of two commonly used gases, i.e., nitrogen and argon, for the parameter values possible to obtain using classical implanters. Modelling was executed in two stages. Similar profiles were obtained for the acceleration voltage value of 35 kV in the case of nitrogen and the sum of the acceleration voltages of 65+32.5 kV in the case of argon. The difference in the obtained profile parameter values, such as: the peak volume dopant concentration of the implanted element, the projected range and the range straggling, was less than 1%.
PL
Modelowanie podobnych głębokościowych profili dwóch różnych rodzajów jonów, implantowanych do narzędzi WC-Co, wykorzystywanych w obróbce materiałów drewnopochodnych. Podjęto próbę modelowania tożsamych głębokościowych profili implantowanych jonów dwóch powszechnie stosowanych gazów, tj. azotu i argonu, dla wartości parametrów możliwych do uzyskania w przypadku klasycznych implantatorów. Modelowanie było prowadzone dwuetapowo. Tożsame profile zostały uzyskane dla wartości napięcia przyspieszającego na poziomie 35 kV w przypadku azotu i sumy napięć 65+32,5 kV w przypadku argonu. Różnica w wartości znaczących parametrów uzyskanych profili, takich jak: maksymalna koncentracja objętościowa implantowanego pierwiastka, zasięg rzutowany oraz rozrzut zasięgu, była mniejsza niż 1%.
3
Content available remote Modification of semiconducting copper oxide thin films using ion implantation
EN
The article describes method of Cr+ ion implantation with energy of 10 keV and 15 keV. This method can be used to modify thin film semiconductors. Simulations of implantation process were performed using the Stopping and Range of Ions in Matter software, taking into account different energies of the ion beam. The apparatus diagrams of ion implantation and magnetron sputtering processes are presented. Optical and structural properties of non-implanted and implanted Cu4O3 and CuO films were studied.
PL
W artykule opisana została metoda implantacji jonami Cr+ o energii 10 keV i 15 keV, która może być stosowana do modyfikacji cienkich warstw półprzewodnikowych. Wykonano symulacje procesu implantacji z wykorzystaniem programu Stopping and Range of Ions in Matter uwzględniając różne energie wiązki jonów. Przedstawiono schematy aparatury implantatora oraz układu do rozpylania magnetronowego cienkich warstw. Optyczne i strukturalne właściwości nieimplantowanych i zaimplantowanych warstw Cu4O3 i CuO zostały zbadane.
EN
Wettability of the surface of bacterial cellulose film modified with low energy ion implantation The paper presents the preliminary results of the modification on the water wettability of cellulose, using ion implantation method. Two kinds ions of the noble gases, i.e. helium and argon were implanted with fluences of 1e15 nand 1e16 cm-2, and with the ion energy of 60 keV. The measurements of the contact angle values show the different influence of both types ions on the hydrophobicity of the modified cellulose, but the hydrophobicity of implanted cellulose increases in all cases. The real investigations were supplemented with the modelling results of the depth profiles of the implanted ions and the main parameters of the modelled peaks.
PL
Zwilżalność powierzchni celulozy bakteryjnej modyfikowanej metodą implantacji jonów. Artykuł przedstawia wstępne wyniki modyfikacji na zwilżalność wodą implantowanej jonami celulozy. W badaniach wykorzystano dwa rodzaje gazów szlachetnych, tj. hel i argon. Implantowane dawki wynosiły 1e15 i 1e16 cm-2, a energia jonów 60 keV. Pomiary kąta zwilżania pokazują różny wpływ obydwu typów jonów na hydrofobowość modyfikowanej celulozy, jednakże hydrofobowość wzrasta we wszystkich przypadkach. Badania zostały uzupełnione wynikami modelowania głębokosciowych profili implantowanych jonów i głównych parametrów modelowanych pików.
EN
Thermal desorption of Ar implanted with energies 150 keV and 100 keV with fluence 1×10^16 cm^-2 into GaAs is considered. A sudden release of Ar is observed in temperature range 1100 -1180 K as a single narrow peak in TDS (Thermal Desorption Spectroscopy) spectra. This is accompanied by a strong background signal from atmospheric Ar trapped in various parts of the spectrometer. Desorption peak shift analysis allows estimation of desorption activation energy values - these are 3.6 eV and 2.5 eV for implantation energies 150 keV and 100 keV, respectively. These results are comparable to that measured for Ar implanted into germanium target.
EN
A new approach to application the internal evaporator in an arc discharge ion source is presented, namely a crucible with a plug made of feeding substance. This solution is suitable especially for high-melting point metallic feeding substances. The ion source was tested using Ni and Cr. Basic ion source characteristics, i.e. dependences of ion current and discharge voltage on discharge and filament currents as well as on the external magnetic field flux density are shown and discussed in order to find optimal working conditions. The maximal ion currents were 18 μA for Ni+ and 38μA for Cr+. The stability of the ion current was also tested. It was proven that ion source is able to provide intense ion beam current long enough to perform irradiations with the fluence of ~5×1015 cm-2 confirming the usefulness of the design for ion implantation purposes.
EN
Thick (0.125 mm) sheet samples of PET were irradiated with 150 keV Cs+ ion beam with fluences in the range from 10^13 cm^-2 up to 10^16 cm^-2). Raman and UV-VIS spectroscopy measurements shown destruction of numerous bonds within the polymer – this effect intensifies with fluence. Raman spectroscopy shows the presence of amorphous graphitelike structures as the broad G band appears in the collected spectrum. The analysis of absorbance spectra also confirms formation of numerous carbon clusters leading to a formation of vast conducting structures in the modified layer of the polymer. One can observe the decrease of optical bandgap from 3.85 eV (typical for pristine PET) to 1.05 eV for the sample implanted with the highest fluence, the effect is weaker than for lighter alkali metal ions. The estimated average number of C atom in a clusters reaches in such case values close to 1100. The changes in the polymer structure lead to intense reduction of electrical sheet resistivity of the modified samples by ~ 8 orders of magnitude in the case of severely modified sample. The dependence of resistivity on temperature has also been measured. The plots of ln(σ) vs 1/T show that band conductivity or nearest neighbor hopping between conducting structures prevail in the considered case
EN
Rare earth (RE) elements are important for the optical tuning of wide bandgap oxides (WBO) such as β-Ga2O3 or ZnO, because β-Ga2O3:RE or ZnO:RE show narrow emission lines in the visible, ultra-violet and infra-red region. Ion implantation is an attractive method to introduce dopant into the crystal lattice with an extraordinary control of the dopant ion composition and location, but it creates the lattice damage, which may render the dopant optically inactive. In this research work, we investigate the post-implantation crystal lattice damage of two matrices of wide-bandgap oxides, β-Ga2O3 and ZnO, implanted with rare-earth (RE) to a fluence of 5 x 10^14, 1 x 10^15 and 3 x 10^15 atoms/cm^2, and post-growth annealed in Ar and O2 atmosphere, respectively. The effect of implantation and annealing on both crystal lattices was investigated by channeling Rutherford backscattering spectrometry (RBS/C) technique. The level of crystal lattice damage caused by implantation with the same RE fluences in the case of β-Ga2O3 seems to be higher than in the case of ZnO. Low temperature photoluminescence was used to investigate the optical activation of RE in both matrices after performed annealing.
9
Content available The oxidation of WC-Co knives in wood extract
EN
The oxidation of WC-Co knives in wood extract. The virgin WC-Co knives for wood machining and those implanted with Mg, Cr, Zn and Ni were corroded in pH 4 wood extract. A change of oxygen content throughout the experiment was determined using EDS method. The obtained results suggest a passivation of the corroded WC-Co material implanted with selected elements.
PL
Utlenianie noży WC-Co w ekstrakcie drzewnym. Wyjściowe noże WC-Co do obróbki drewna oraz noże implantowane jonami Mg, Cr, Zn i Ni zostały poddane korozji w ekstrakcie drzewnym o wartości pH 4. Zmianę zawartości tlenu w trakcie eksperymentu oznaczono metodą EDS. Uzyskane wyniki sugerują wystąpienie zjawiska pasywacji utlenianego materiału WC-Co implantowanego wybranymi pierwiastkami.
EN
The article is devoted to the assessment of the geometrical structure of the surface as well as the mechanical and tribological properties of the surface layers obtained in the process of ion implantation. The titanium alloy Ti6Al4V used in biotribological systems was implanted with nitrogen and argon ions. Investigations of the geometrical structure of the surface before and after the tribological tests were carried out using confocal microscopy. The hardness of the tested materials was determined by the instrumental indentation method using a Vickers indenter. A nanotribometer was used for tribological tests. The tests were carried out in a reciprocating motion under conditions of technically dry friction and friction with the lubrication of Ringer's solution. SEM scanning microscopy was used to determine the width of the wear pattern and the wear mechanism. The conducted research showed that the hardness of the tested materials increased as a result of ion implantation. The tribological tests showed that the use of ion implantation improves the tribological properties, and the dominant wear mechanism was abrasive wear.
PL
Artykuł poświęcony jest ocenie struktury geometrycznej powierzchni oraz właściwości mechanicznych i tribologicznych warstw wierzchnich uzyskiwanych w procesie implantacji jonowej. Stop tytanu Ti6Al4V stosowany systemach biotribologicznych implantowano jonami azotu i argonu. Badania struktury geometrycznej powierzchni przed i po testach tribologicznych przeprowadzano przy użyciu mikroskopii konfokalnej. Twardość badanych materiałów wyznaczano metodą instrumentalnej indentacji przy zastosowaniu wgłębnika Vickersa. Do testów tribologicznych wykorzystano nanotribometr. Badania realizowano w ruchu posuwisto-zwrotnym w warunkach tarcia technicznie suchego oraz tarcia ze smarowaniem roztworem Ringera. Mikroskopię skaningową SEM wykorzystano do określenia szerokości śladu wytarcia oraz mechanizmu zużywania. Przeprowadzone badania wykazały, że w wyniku implantacji jonowej nastąpił wzrost twardości badanych materiałów. Testy tribologiczne wskazały, że zastosowanie implantacji jonowej wpływa na poprawę właściwości tribologicznych, a dominującym mechanizmem zużywania było zużycie ścierne.
11
Content available remote Termodesorpcja argonu implantowanego do germanu
PL
Badano termodesorpcję Ar zaimplantowanego do germanu (z energią 100 keV i 150 keV, dawka 2×1016 cm-2). Zaobserwowano gwałtowne uwolnienia Ar w temperaturach 790-840 K w postaci wąskich wierzchołków w widmach TDS, co świadczy najprawdopodobniej o uwalnianiu Ar zgromadzonego w postaci bąbli we wnękach w Ge. Analiza przesunięć położenia wierzchołków pozwoliła oszacować wartości energii aktywacji desorpcji – wynosi ona 3.2 eV (100 keV) i 2.2 eV (150 keV) - znacznie więcej niż uzyskane w przypadku He implantowanego do Ge.
EN
Thermal desorption of Ar implanted into germanium (with energies 100 keV and 150 keV, fluence 2×1016 cm-2) was studied. Sudden release of Ar was observed as narrow peaks in temperature range 790-840 K in TDS spectra, which may be assigned to the release of gas trapped as bubbles in cavities in the Ge lattice. The analysis of peak shifts enabled estimation of desorption activation energies - it is 3.2 eV (100 keV) and 2.2 eV (150 keV) - these values are much larger than those measured for He implanted into Ge.
12
Content available remote Modyfikacja właściwości folii PET przy wykorzystaniu naświetlania jonami K+
PL
Cienkie (3 m) folie PET implantowano jonami K+ (150 keV, dawki 1014 cm-2, do 1016 cm-2. Zaobserwowano niszczenie różnego rodzaju wiązań chemicznych i powstanie struktur grafitopodobnych a także wzrost absorbancji modyfikowanych próbek w widmie UV-VIS oraz zwężenie przerwy energetycznej z około 4 eV aż do 0.55 eV (1016 cm-2). Implantacja spowodowała spadek oporności powierzchniowej warstwy zmodyfikowanej o około 6 rzędów wielkości oraz wzrost stałej dielektrycznej folii: od kilku procent dla dawki 1014 cm-2 do ~65 % dla dawki 1016 cm-2.
EN
Thin (3 m) PET foils were implanted with K+ ions (150 keV, fluences from 1014 cm-2 to 1016 cm-2). Destruction of various chemical bonds and formation of graphite-like structures as well as the increase of absorbance in UV-VIS spectra and narrowing of the energy bandgap from ~4 eV to 0.55 eV (1016 cm-2) were observed. Ion implantation leads to the reduction of sheet resistance by 6 ordes of magnitude as well as to the increase of dielectric constant of the sample by several percent (1014 cm-2) up to 65 % for the maximal fluence.
EN
This work presents results of comparative studies of the optical absorption coefficient spectra of ion implanted layers in silicon. Three nondestructive and noncontact techniques were used for this purpose: spectroscopic ellipsometry (SE), modulated free carriers absorption (MFCA) and the photo thermal radiometry (PTR). Results obtained with the ellipsometric method are the proof of correctness of the results obtained with the MFCA and PTR techniques. These techniques are usually used for investigations of recombination parameters of semiconductors. They are not used for investigations of the optical parameters of semiconductors. Optical absorption coefficient spectra of Fe+ and Ge+ high energy and dose implanted layers in silicon, obtained with the three techniques, are presented and compared.
EN
The paper presents the results of investigations on the tribological properties of cutting tools after ion implantation. The research focused on the inserts made out of nitride ceramics IS9 (Si3N4 with additives) and combined ceramics IN22 (Al2O3 + TiCN) available on the market. The inserts rake surfaces were covered with yttrium and rhenium coatings by means of ion implantation with different dozes. Both unimplanted and coated surfaces underwent tribological tests of the block-on ring type. The experiments demonstrated that, in general, ion implantation with rhenium (Re+) and yttrium (Y+) provided a decrease in surface friction forces. In the case of IN22 ceramics, both rhenium and yttrium ions improved wear resistance of cutting inserts. On the other hand, Re+ implantation provided the best wear resistance of the IS9 ceramics.
PL
Artykuł opisuje wyniki badań właściwości tribologicznych narzędzi skrawających po implantacji jonów. Badania dotyczyły narzędzi wykonanych z ceramiki azotkowej IS9 (Si3N4 + dodatki) i ceramiki mieszanej IN22 (Al2O3 + TiCN), dostępnych na rynku. Na powierzchnie natarcia naniesiono powłoki itru i renu metodą implantacji jonów o różnych dawkach. Pokryte i niepokryte powierzchnie zostały poddane testom tribologicznym w parach typu rolka–klocek. Badania wykazały, że generalnie implantacja jonów renu (Re+) i itru (Y+) zmniejsza siły tarcia na powierzchni. W przypadku ceramiki IN22 iony zarówno renu, jak i itru zwiększyły odporność płytek skrawających na zużycie. Z drugiej strony, najlepszą odporność na zużycie ceramiki IS9 zapewniły jony renu.
EN
The article presents the analysis of the influence of ion implantation on the properties of titanium alloy used in biotribological systems. The object of the study was the titanium alloy Ti6Al4V implanted with nitrogen ions. Tribological model tests were carried out in combination with a sphere with Al2O3 – a Ti6Al4V alloy disc implanted with N+ ions. Experimental friction tests were carried out on pin-on-disc testers in conditions of technically dry conditions and in conditions of lubrication with the Ringer’s solution. The tests on the TRB tester were carried out in a swinging motion, while on the T-01 tester in a sliding movement. Friction coefficient and wear were determined for all tests. Surface morphology testing and chemical composition analyses were performed using the Jeol JSM-7100F scanning electron microscope, equipped with an EDS microanalyzer. Surface geometry measurements prior to and after tribological tests were performed on a Taylor Hobson’s Talysurf CCI contactless optical profilometer. The optical tensiometer was used to determine the contact angles with demineralized water and Ringer’s solution. The tribological tests of the titanium alloy Ti6Al4V lead to the conclusion that implantation of N+ ions results in better tribological properties of the alloy. The best tribological characteristics were obtained for a titanium alloy implanted with nitrogen ions under technically dry friction conditions. The influence of the tribological system on Ringer’s fluid influenced the reduction of coefficients of friction in the oscillating movement (Tribometer TRB) and sliding motion (Tester T-01M). In the case of a oscillating movement, higher wear of the tested friction pair was observed under friction conditions with the Ringer solution lubrication.
PL
W artykule przedstawiono analizę wpływu implantacji jonowej na właściwości stopu tytanu stosowanego w systemach biotribologicznych. Przedmiotem badań był stop tytanu Ti6Al4V implantowany jonami azotu N+. Tribologiczne badania modelowe przeprowadzono w skojarzeniu kula z Al2O3–tarcza ze stopu Ti6Al4V implantowana jonami azotu. Eksperymentalne testy tarciowe zrealizowano na testerach typu pin-on-disc w warunkach tarcia technicznie suchego oraz tarcia ze smarowaniem roztworem Ringera. Badania na testerze TRB przeprowadzono w ruchu wahadłowym, natomiast na testerze T-01 w ruchu ślizgowym. Dla wszystkich testów określono współczynnik tarcia oraz zużycie. Przy użyciu skaningowej mikroskopii elektronowej SEM wraz z analizą składu chemicznego EDS oraz profilometrii interferometrycznej obserwowano morfologię oraz topografię powierzchni badanych próbek przed i po testach tribologicznych. Tensjometr optyczny posłużył do wyznaczenia kątów zwilżania wodą demineralizowaną oraz roztworem Ringera. Uzyskane wyniki badań pozwoliły na stwierdzenie, że zastosowanie implantacji jonowej istotnie poprawia właściwości tribologiczne stopu tytanu zarówno w warunkach tarcia technicznie suchego, jak i w warunkach smarowania roztworem Ringera. Najlepsze charakterystyki tribologiczne uzyskano dla stopu tytanu implantowanego jonami azotu w warunkach tarcia technicznie suchego. Oddziaływanie systemu tribologicznego z płynem Ringera wpłynęło na zmniejszenie współczynników tarcia w ruchu wahadłowym (Tribometr TRB) i ślizgowym (Tester T-01M). W przypadku ruchu wahadłowego większe zużycie badanych par trących zaobserwowano w warunkach tarcia ze smarowaniem roztworem Ringera.
EN
: The aim of this article is to present the results of research aimed at confirmation whether it is possible to form an intermediate band in GaAs implantation with H+ ions. The obtained results were discussed with particular emphasis on possible applications in the photovoltaic industry. As it is commonly known, the idea of intermediate band solar cells reveals considerable potential as the most fundamental principle of the next generation of semiconductors solar cells. In progress of the research, a series of GaAs samples were subjected to poly-energy implantation of H+ ions, followed by high-temperature annealing. Tests were conducted using thermal admittance spectroscopy, under conditions of variable ambient temperature, measuring signal frequency in order to localize deep energy levels, introduced by ion implantation. Activation energy ∆E was determined for additional energy levels resulting from the implantation of H+ ions. The method of determining the activation energy value is shown in Fig. 2 and the values read from it are σ0 = 10−9 (Ω·cm)−1 for 1000/T0 = 3.75 K−1 and σ1 = 1.34 × 10−4 (Ω·cm)−1 for 1000/T1 = 2.0 K−1 . As a result, we obtain ∆E ≈ 0.58 eV. It was possible to identify a single deep level in the sample of GaAs implanted with H+ ions. Subsequently, its location in the band gap was determined by estimating the value of ∆E. However, in order to confirm whether the intermediate band was actually formed, it is necessary to perform further analyses. In particular, it is necessary to implement a new analytical model, which takes into consideration the phenomena associated with the thermally activated mechanisms of carrier transport as it was described in [13]. Moreover, the influence of certain parameters of ion implantation, post-implantation treatment and testing conditions should also be considered.
EN
The effect of nitrogen ion implantation on nano-scale hardness and elastic modulus of WC-Co indexable knives for wood materials machining. The paper presents the results of a study investigating the effects of nitrogen ion implantation into the surface layer of WC-Co blades, used for machining wood materials, on their hardness and modulus of elasticity at the nano-scale. The modified blades were analyzed in six variants of implantation process parameters, and compared with control blades (virgin, unmodified). Three energies of accelerating nitrogen ions were used in the implantation process (5, 50 and 500 keV) and two doses of implanted ions (1e17 and 5e17 cm-2). The nano-hardness and elastic modulus of all blades were measured using an Anton Paar TriTec (UNHT) hardness tester.
PL
Wpływ implantacji jonów azotu na twardość i moduł sprężystości w nano-skali noży wymiennych WC-Co do obróbki materiałów drzewnych. W artykule przedstawiono wyniki wpływu procesu implantacji jonów azotu do warstwy wierzchniej ostrzy WC-Co do obróbki materiałów drzewnych na ich twardość i moduł sprężystości w nano-skali. Analizowano ostrza modyfikowane w sześciu wariantach parametrów procesu implantacji, oraz w celach porównawczych, ostrza kontrolne (niemodyfikowane). Zastosowano trzy energie przyspieszenia jonów azotu w procesie implantacji (5, 50 i 500 keV) oraz dwie dawki implantowanych jonów (1e17 oraz 5e17 cm-2). Pomiaru twardości i modułu sprężystości w nano-skali wszystkich ostrzy dokonano przy użyciu twardościomierza Anton Paar TriTec (UNHT).
EN
Modelling of the ion implantation modification of WC-Co indexable knives for wood machining. The paper presents the results of the modelling of nitrogen ion implantation parameters for W-C-Co material. Applications include the modification processes of WC-Co indexable knives for wood machining.
PL
Modelowanie parametrów implantacji jonów w procesach modyfikacji wymiennych noży WC-Co, stosowanych do obróbki materiałów drzewnych. W artykule przedstawiono wyniki modelowania parametrów implantacji jonów azotu do podłoża W-C-Co. Mogą być one wykorzystane w procesach modyfikacji wymiennych noży WC-Co, stosowanych do obróbki materiałów drzewnych.
EN
Modelling of nitrogen implantation processes into WC-Co indexable knives for wood-based material machining using ion implanters with or without direct ion beam. The paper presents the results of modelling of the depth profiles of nitrogen implanted to W-C-Co material using ion implanters with or without direct ion beam. The modelling was performed using the Monte Carlo method. The results were obtained for one fluence of the implanted ions and three different values of the acceleration voltage.
PL
Modelowanie procesów implantacji jonów azotu do stosowanych w obróbce materiałów drzewnych wymiennych noży WC-Co, przy użyciu implantatorów bez lub z wiązką bezpośrednią. W artykule przedstawiono wyniki modelowania głębokościowych profili azotu, implantowanego do materiału W-C-Co, przy użyciu implantatorów bez lub z wiązką bezpośrednią. Modelowanie przeprowadzono przy użyciu metody Monte Carlo, dla jednej wartości dawki implantowanych jonów oraz trzech różnych wartości napięcia przyspieszającego.
EN
Influence of the ion implantation of nitrogen and selected metals on the lifetime of WC-Co indexable knives during MDF machining. The paper presents the results of durability tests for WC-Co indexable knives during the machining of MDF. The knives were implanted with nitrogen, zirconium, molybdenum and tin, using MEVVA type implanter with non-mass separated beam. Additionally, the Monte Carlo simulation results of the main parameters of the depth profiles of the implanted elements are presented in this paper. A higher correlation of tool life with the project range and range straggling than with the parameter of the peak volume dopant concentration was demonstrated.
PL
Wpływ implantacji jonów azotu i jonów wybranych metali na trwałość wymiennych noży WC-Co podczas obróbki płyt MDF. W artykule przedstawiono wyniki testów trwałościowych wymiennych noży WC-Co podczas obróbki płyt MDF. Noże były implantowane jonami azotu, cyrkonu, molibdenu i cyny, przy użyciu implantatora typu MEVVA bez separacji masowej. Ponadto, w artykule zamieszczono wyniki modelowania profili głębokościowych implantowanych pierwiastków, uzyskanych przy pomocy programu opartego o metodę Monte Carlo. Wykazano wyższe zależności korelacyjne trwałości ostrza z wartościami zasięgu rzutowanego i rozrzutu zasięgu niż z wartościami maksymalnej koncentracji objętościowej domieszki.
first rewind previous Strona / 6 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.