If working gas and cathode metal used for a glow discharge show a chemical affinity then the ion/cathode interaction is complex. Regard paid to particular features of the molecular ions (N2 +)/metallic (Ti) cathode surface interaction and to the secondary deposition of sputtered atoms, that characteristics only of plasma sputtering, allowed to agree sputtering yields - both calculated with a computer code using the classical implantation theory and experimentally measured.
PL
Oddziaływanie jonów z katodą wyładowania jarzeniowego jest złożone, jeśli gaz roboczy i metal katody są spowinowacone chemicznie. Uwzględnienie szczególnych własności oddziaływania jonów gazów molekularnych (N2 +) z powierzchnią katody metalicznej (Ti) oraz wtórnego osadzania się rozpylonego materiału na powierzchni katody, charakterystycznego dla rozpylania plazmowego, prowadzi do uzgodnienia współczynnika rozpylania obliczonego programem komputerowym, opartym na teorii klasycznej inplantacji, ze współczynnikiem rozpylania określonym eksperymentalnie.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.