Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 5

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  interference filter
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
EN
Coatings of hydrogenated silicon nitride and silicon carbonitride find numerous applications stemming from their various useful properties which can be easily modified during the deposition process. In this work, the effect of discharge power on the physical properties of the coatings synthesized from organosilicone precursors is presented. Compared to explosively flammable silane, these precursors are safe and do not require costly safety measures installed in the equipment. The coatings investigated were deposited from hexamethyldisilazane (HMDSN) using radiofrequency plasma enhanced chemical vapour deposition in an atmosphere of such working gases as nitrogen, ammonia and hydrogen. HMDSN constitutes a valuable precursor since its saturated vapour pressure is relatively high (1.8 kPa at 25°C) and its molecule contains both silicon and nitrogen atoms. The coatings synthesized were broadly investigated with the help of such analytical techniques as variable angle spectroscopic ellipsometry (VASE), UV-Vis spectroscopy, Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The effect of the glow discharge power on the coatings chemical structure and, therefore, on the magnitude of their refractive index was studied. It has been demonstrated that the discharge power strongly affects quantitative proportions between Si–N, Si–NH–Si, Si–O chemical bonds in the resulting films which, in turn, determine their index of refraction.
PL
Celem pracy było wytworzenie uwodornionych powłok węglikoazotku krzemu (SixNyCz:H) i zbadanie ich składu, struktury oraz właściwości optycznych. Materiały te są planowane jako składnik o wysokiej wartości współczynnika załamania światła (n) filtra optycznego z gradientem tego współczynnika. Składnikiem o małym współczynniku n będzie w tym układzie powłoka SiOxCy:H. Przejście od jednego materiału do drugiego będzie można uzyskać przez zmianę składu gazowej mieszaniny reakcyjnej z NH3/N2 na O2, przy zachowaniu stałego przepływu par prekursora krzemorganicznego. W pracy jako związek wyjściowy dla krzemu wykorzystano heksametylodisilazan (HMDSN). Do wytwarzania tego typu powłok metodą RF PECVD (Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapour Desposition) najczęściej jest stosowany silan (SiH4). Ze względu na to, że jest to gaz wybuchowy doskonałą alternatywę dla tego prekursora stanowią związki krzemoorganiczne. We wcześniejszych badaniach autorów nad powłokami SixNyCz otrzymanymi z HMDSN, w optymalnych warunkach nanoszenia warstw uzyskano współczynnik n na poziomie 1,9. Głównym powodem tak małej wartości n była pozostałość ugrupowań węglowych w strukturze powłoki pochodzących od zastosowanego związku wyjściowego. Z punktu widzenia przyszłych zastosowań tych powłok jest to stanowczo za mała wartość. Z tego powodu zostały podjęte próby zwiększenia wartości współczynnika n przez dodawanie do mieszaniny reakcyjnej wodoru.
EN
The paper analyses the selected optical parameters of protective optic filters used for protection of the eyes against hazardous radiation within the visible (VIS) and near infrared (NIR) spectrum range. The indexes characterizing transmission and reflection of optic radiation incident on the filter are compared. As it follows from the completed analysis, the newly developed interference filters provide more effective blocking of infrared radiation in comparison with the currently used protective filters.
PL
Przedstawiono wybrane zagadnienia dotyczące magistrali CAN. Omówiono rodzaje zakłóceń elektromagnetycznych wpływających na prawidłowe działanie magistrali. Zaproponowano filtr, który zwiększa jej odporność na te zakłócenia.
EN
The paper is devoted to selected issues of CAN bus. Different types of eleotromagnetic interferences were discussed. Interference filter was presented that helps to increase filter efficiency.
EN
The present work reports results of an effort to produce a stack multilayer optical filter on a poly(ethylene terephtalate) (PET) substrate, using a PECVD technique. Titanium dioxide type of material (n550 = 2.3) has been selected for high refractive index layers while that of silicon dioxide type (n550 = 1.4) served as low refractive index films. For a synthesis of the former material, titanium tetrachloride with an excess of gaseous oxygen was taken as a precursor system, and a mixture of oxygen and hexamethyldisiloxane (HMDSO) was used as a precur-sor system for a deposition of the latter one. The entire deposition process was carried out in the same parallel plate PECVD reactor, with all the consecutive layers being synthesized in one vacuum run. In the first part of the work, the deposition processes of both types of materials were optimized separately using polyester film as a substrate. The main goal of this step was to obtain high refractive index and low refractive index materials of good optical quality, remaining as close as possible to that of, respectively, titanium dioxide and silicon dioxide, without jeopardizing the optical quality of the polymer support. A construction of the filter was the next stage of the work. The design concerned high reflectance (HR) type filter consisting of five high refractive index layers, separated by four low refractive index films. Before an actual deposition, a performance of such system had been simulated, using the TFCalcTM 3.5 optical software. As a final step, the real structure, consisting of nine films, was produced, and the optical properties of the so obtained filter have been compared with those of the simulated system.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.