Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!
Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: impulse plasma deposition method

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

‘Plasma alloying’ during impulse plasma deposition of Fe-Ti alloy layers

Nowakowska-Langier K., Wierzbiński E., Zdunek K.

Polish Journal of Applied Chemistry

2005

Vol. 49, nr 4

291-295

This paper presents a study of synthesis of Fe-Ti alloy layers under conditions of impulse mass and energy transport. The Impulse Plasma Deposition method (IPD) was used. The synthesis processes were conducted in a device equipped with two independent and alternately working accelerators of impulse plasma. The layer morphology using the Scanning Electron Microscopy (SEM) and the Atomic Force Microscopy in a Tapping Mode (TM AFM) techniques was investigated. The results proved the mechanism of a layer growth which proceeds by the local diffusion of clusters and their anisotropic incomplete coalescence.

Subtelne efekty strukturalne w warstwach wytwarzanych metodą impulsowo-plazmową (IPD)

Nowakowska-Langier K., Zdunek K.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2005

Vol. 46, nr 6

13-14

Opisane zostały wyniki badań subtelnej struktury warstw stopowych Fe-Ti, otrzymywanych metodą IPD z wykorzystaniem dwóch niezależnie i niewspółbieżnie pracujących koaksjalnych akceleratorów plazmy impulsowej. W ramach badań materiałowych obserwowana była morfologia strukturalna warstw oraz określana zależność magnetooporu od wartości i kierunku zewnętrznego pola magnetycznego. Ustalono, że morfologia warstw zależy od sposobu rozmieszczenia podłoży względem strumienia plazmy impulsowej oraz, że w przypadku niektórych wariantów technologicznych wytwarzania warstw otrzymuje się niesymetryczne charakterystyki magnetooporu.

Effects of examinations of the subtle structure of Fe-Ti layers produced by the IPD method were described in the paper. The layers were deposited by the use of two irrespective and alternatively working impulse plasma coaxial accelerators fitted with internal electrodes made from the iron and titanium. Structural morphology and the magnetoresistance effect of the layers were studied within the confines of material examinations. Results of these examinations showed that morphology of layers as well as the unsymmetrical of magnetoresistance characteristics are depended on the position of layer substrates in comparison to the direction of impulse plasma distribution. The results confirmed our previous observations about the influence of potential fields connected with the impulse plasma itself on subtle structure of the layer material synthesized by the IPD method.

Kondensacja warstwy w warunkach impulsowego dostarczania masy i energii

Nowakowska-Langier K., Wierzbiński E., Zdunek K., Kopcewicz M.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2003

Vol. 44, nr 11

35-36

W artykule opisane zostały badania nad syntezą warstw w warunkach impulsowego dostarczania masy i energii. Do tego celu została wykorzystana metoda IPD. Procesy syntezy prowadzone byty w urządzeniu wyposażonym w dwa niezależnie i niewspółbieżnie (naprzemiennie) pracujące akceleratory plazmy impulsowej. Źródłem żelaza i tytanu byty wewnętrzne elektrody akceleratorów. Gazem plazmotwórczym byt argon. Warstwy nanoszone byty na podłoża krzemowe. Materiałem syntetyzowanym w prezentowanym eksperymencie byt stop Fe-Ti.

This paper presents a study of synthesis layers in conditions of impulse mass and energy transport. In this case we used Impulse Plasma Deposition method (IPD). The synthesis processes were conducted in a device equipped with two independent and alternately working accelerators of impulse plasma. The sources of Fe and Ti were the internal electrodes of these impulse plasma accelerators, made of titanium and iron. The plasma-generating gas was argon. The layers were deposited on silicon substrates. The material synthesized in the present experiment was an Fe-Ti alloy.