Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: hydrophilic coatings

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Właściwości antybakteryjne folii polilaktydowych pokrytych powłokami z nanocząstkami ZnO

Mizielińska M., Lisiecki S., Jotko M., Chodzyńska I., Bartkowiak A.

Przemysł Chemiczny

2015

T. 94, nr 7

1205-1208

Prowadzono próbę pokrywania folii polilaktydowej zawierającymi nanocząstki ZnO hydrofilowymi powłokami na bazie metylohydroksypropylocelulozy (MHPC) oraz hydrofobowymi powłokami na bazie glutenu. Stwierdzono, że hydrofobowa powłoka glutenowa ograniczyła wzrost tylko bakterii Gram-dodatnich. Powłoka z MHPC nie wykazywała aktywności względem Staphylococcus aureus oraz Escherichia coli. W przypadku powłok zawierających ZnO zaobserwowano całkowite zahamowanie wzrostu obu gatunków mikroorganizmów, zarówno dla nośnika MHPC, jak i glutenowego. Przeprowadzone doświadczenia pozwoliły uzyskać uniwersalną i skuteczną powłokę o właściwościach antybakteryjnych.

Polilactide film was coated with ZnO nanoparticles on methylhydroxypropylcellulose (MHPC) and gluten carriers and studied for antimicrobial activity against Staphylococcus aureus and Escherichia coli strains. Pure MHPCcontg. coating was not active against E. coli and S. aureus strains while hydrophobic gluten-contg. coating showed very good activity against S. aureus. The ZnO nanoparticles both on MHPC and on gluten showed complete retardation of the S. aureus and E. coli strains growth.

Fotohydrofilowe powłoki TiO2 nanoszone metodą RF PECVD z metaloorganicznego związku wyjściowego

Sobczyk-Guzenda A., Owczarek S., Gazicki-Lipman M., Szymanowski H., Kowalski J.

Engineering of Biomaterials

2012

Vol. 15, no. 112

20-25

Powłoki TiO2 wytwarzane metodą RF PECVD posiadają różne właściwości w zależności od sposobu i warunków prowadzenia procesu. W prezentowanej pracy badano w jakim stopniu wartość przepływu tlenu wpływa na właściwości powłok ditlenku tytanu - kładąc szczególny nacisk na fotozwilżalność. Powłoki TiO2 nanoszone były z tetraetoksytytanu w obecności tlenu na krzemowe i szklane podłoża. Przepływ tlenu zmieniany był w przedziale pomiędzy 100 a 500 sccm. Parametrami stałymi we wszystkim procesach były: czas nanoszenia powłok wynoszący 90 minut oraz moc wyładowania jarzeniowego równa 300 W. Z badań wynika, że powłoki nanoszone przy przepływie tlenu równym 400 sccm wykazują najwyższą fotozwilżalność. Hydrofobowy charakter takiej powłoki (kąt zwilżania wodą powyżej 120 deg) ulega zmianie na hydrofilowy już po nieco ponad półgodzinnej ekspozycji na działanie promieniowania UV, zaś po 2 godzinach naświetlania kąt zwilżania maleje do wartości poniżej 40 deg. Wartość przepływu tlenu wpływa również istotnie na grubość otrzymanej powłoki. W zadanych warunkach najcieńsze powłoki otrzymywane są przy 350 sccm i ich grubość rośnie zarówno ze zwiększaniem jak i zmniejszaniem wartości przepływu tlenu.

Depending on the detailed solution and parameters used, TiO2 coatings produced with the RF PECVD technique are characterized with various properties. In the present work, the effect of the flow rate of incoming oxygen on the coatings behaviour and on their photohydrophilic properties in particular is discussed. The coatings were deposited from the mixture of tetraetoxytitanium and oxygen onto the glass and silicon substrates. Oxygen flow rate was adjusted within the range of 100 and 500 sccm. Other parameters were kept constant: deposition time of 90 minutes and deposition power of 300 Watt. The results obtained show that the most pronounced photohydrophilic behaviour is exhibited by the coatings deposited at the oxygen flow rate of 400 sccm. Hydrophobic character of these films (water wetting angle above 120 deg) transforms to hydrophilic after only half an hour long exposition to UV radiation, and after two hours of illumination that wetting angle becomes lower than 40 deg. The flow rate of oxygen also substantially affects the thickness of the deposited coating. For the above parameters the lowest film thickness is obtained for the O2 flow rate of 350 sccm and it increases both when this parameter rises and when it drops.