Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Materiały Elektroniczne

1 2018

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: hot embossing nano imprint lithography

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Fabrication of computer generated holograms using hot embossing nano imprint lithography

Rojek A., Kowalik A., Podgórski J.

Materiały Elektroniczne

2018

T.46, nr 1-4

3--7

The article presents the investigation to develop a technology for fabricating micro-and nanostructures of a high dimensional precision using the processes of Hot Embossing Nano Imprint Lithography. The research was carried out for three thermoplastic polymers, i.e. poly(methyl methacrylate), olefin copolymer and polycarbonate in order. The process parameters and pattern correction coefficients for shrinkage compensation have been determined. The accuracy better than 1.25 x 10-3 % has been reached for the pattern replicated onto olefin copolymer substrates.

W artykule przedstawiono technologię wytwarzania kopii (replik) mikro- i nanostruktur o dużej precyzji wymiarowej w procesach tłoczenia na gorąco (Hot Embossing Nano Imprint Lithography). Badania prowadzono dla trzech polimerów termoplastycznych - polimetakrylanu metylu, kopolimeru olefinowego oraz poliwęglanu. określono warunki procesów i współczynniki korekty wzorów kompensujące skurcz towarzyszący kopiowaniu struktur. Uzyskano repliki, dla których względny błąd wymiarów poprzecznych wynosił poniżej 1.25 x 10-3 %.