Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: graded layer

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Laser Overlay Welding of Graded Layers

Dworak J.

Biuletyn Instytutu Spawalnictwa w Gliwicach

2014

Vol. 58, No. 6

5--16

Graded materials are increasingly commonly used as structural materials in many advanced engineering structures. These materials are usually characterised by the gradual change of a specific functional parameter, usually in the direction of thickness. The article presents the general characteristics of graded metals and their manufacturing methods. On the basis of selected results of author’s own research it was possible to determine the possibility of making graded layers using powder-based laser overlay welding.

Materiałem konstrukcyjnym wielu zaawansowanych konstrukcji inżynierskich stają się coraz częściej materiały gradientowe, charakteryzujące się najczęściej stopniową zmianą określonego parametru funkcjonalnego, zwykle w kierunku grubości. W artykule przedstawiono ogólną charakterystykę materiałów tego rodzaju oraz metod ich wytwarzania. Na podstawie wybranych wyników badań własnych określono możliwość wykonania warstw gradientowych za pomocą napawania laserowego proszkowego.

Optical and microstructural properties of granded porous silicon layer

Lipiński M., Czternastek H., Sokołowski M., Panek P.

Archives of Metallurgy and Materials

2005

Vol. 50, iss. 2

387-393

In this work we present the results of investigations of porous silicon (PS) layers for solar cells application. The PS was formed by chemical etching (stain etching) of n+-p Si substrate in a solution of HF, HNO3 and H2O. The dielectric response of a PS layer was modeled using a Bruggeman effective-medium approximation. It was shown that PS layer could be described by a model of graded layer with effective optical constants n(eff) and k(ef f) changing from these of bulk material (silicon) to these of surrounding (air). The porosity of the PS layer changed from 10% near the bulk silicon region to nearly 85% at the silicon-air interface. The effective reflectance of Cz-Si surface decreased to about 5% after PS layer formation.

Przedstawiono wyniki badań własności optycznych i mikrostrukturalnych gradientowej warstwy z porowatego krzemu naniesionej metodą chamicznego trawienia. Podłożem były płytki polerowanego krzemu typu p z uformowanym złaczem n+-p. Do symulacji własności wynikających z istniejącego gradientu założono wielowarstwową strukturę porowatego krzemu stosując przybliżenie Bruggeman’a efektywnego ośrodka. Określono wartości współczynnika załamania i ekstynkcji (neff i keff) w warstwie porowatego krzemu w funkcji długosci fali światła oraz odległoćci od powierzchni krzemowego podłoża. Porowatość zmieniała się w granicach od 10% w pobliżu granicy podłoże-krzem porowaty do około 85% na granicy krzem porowaty-powietrze. Efektywny współczynnik odbicia dle krzemu z naniesiona warstwa porowatego krzemu wynosił tylko 5% w porównaniu z 25% wartoscią współczynnika odbicia od steksturyzowanej w KOH powierzchni multikrystalicznego krzemu.