This paper presents a description of the construction and the basic exploitation characteristics of a glow ion source with a hollow cathode [1,2], adapted for colaboration with a laboratory implantator of ions. The aparatus generates ion beams of gas elements at up to 3 mA of a high purity, which allows for ion implantation without a magnetic analyser. Good stability and reliability of the operation and a simple construction of both the instrument itself and the supply systems make possible its installation in various technological conditions utilizing ion beams.
PL
W pracy opisana jest budowa oraz podstawowe charakterystyki eksploatacyjne jarzeniowego źródła jonów z wnękową katodą, dostosowanego do współpracy z laboratoryjnym implantatorem jonów. Przyrząd generuje wiązki jonowe pierwiastków gazowych o natężeniu rzędu miliamperów o wysokiej czystości, co pozwala na prowadzenie implantacji bez analizatora magnetycznego. Wysoka, długoczasowa stabilność i niezawodność działania przy jednoczesnej prostocie konstrukcji samego urządzenia, jak i układów zasilających, daje możliwość instalowania go w różnorodnych stanowiskach technologicznych, wykorzystujących wiązki jonowe.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.