Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Investigations of novel high power atmospheric pressure microwave plasma source designed for gas processing

Miotk R., Jasiński M., Mizeraczyk J.

Przegląd Elektrotechniczny

|

2018

|

R. 94, nr 7

98--101

EN

In the paper we present a new waveguide-supplied coaxial-line-based nozzleless microwave plasma source (MPS) designed for gas processing. This MPS allows to generate a 915 MHz microwave plasma at atmospheric pressure with high flow rate of process gas (several hundred liters per minute). In this work we focus on investigating the basic electrical properties of the device in terms of its energy efficiency and operation stability. For this purpose we measured the MPS electrodynamic characteristics (also known as the tuning characteristics [1]). Keeping in mind that this device may be used in industry, where cost of the generated discharge is a key factor, knowledge of the MPS electrodynamic characteristics is essential for proper selection the most favourable working conditions.

PL

Niniejsza praca przedstawia nowe zasilane falowodowo mikrofalowe źródło plazmy o strukturze współosiowej przeznaczone do obróbki gazu roboczego o dużym natężeniu przepływu (kilka set litrów na minutę). Urządzenie to pozwala na generacje plazmy mikrofalami o częstotliwości 915 MHz pod ciśnieniem atmosferyczny. W pracy przedstawiono wyniki podstawowych badań własności urządzenia pod względem jego efektywności energetycznej oraz stabilności pracy. W tym celu zmierzono charakterystyki elektrodynamiczna urządzenia (określane również, jako charakterystyki strojenia [1]). Mając na uwadze, że urządzenie to zaprojektowano z myślą o zastosowaniu w przemyśle, gdzie koszt uzyskiwanego wyładowania mikrofalowego jest jednym z kluczowych czynników decydującym o przydatności, znajomość charakterystyk elektrodynamicznych jest niezbędna do wybrania najbardziej korzystnych warunków pracy urządzenia.

2

Wpływ składu gazu roboczego na proces wzrostu warstw diamentowych otrzymywanych przez chemiczne osadzanie metodą gorącego włókna

Banaszak-Piechowska A., Popielarski P., Franków W.

Przemysł Chemiczny

|

2015

|

T. 94, nr 2

201-204

PL

Badano proces syntezy warstw diamentowych prowadzony metodą HF CVD. Zwrócono uwagę, że zmiana nawet jednego z parametrów procesu wpływa istotnie na zmianę jakości warstwy oraz jej strukturę. W tym celu posłużono się takimi nieinwazyjnymi metodami badawczymi, jak skaningowa mikroskopia elektronowa, spektroskopia Ramana i analiza EDS. Zastosowane metody wzajemnie uzupełniały się i potwierdziły istotny wpływ zawartości metanu w gazie roboczym na jakość oraz wielkość ziaren otrzymanej warstwy diamentowej.

EN

Diamond layers were deposited on a Si substrate by hot-filament chemical vapor deposition from a MeH-H₂ mixt. at 2200°C (W wire) and studied by Raman spectroscopy, scanning electron microscopy and electron dispersive spectroscopy for mol. structure and chem. compn. The grain size in the diamond layer increased with the increasing content of MeH in the gas mixt. (1–3% by vol.).

3

Wpływ rodzaju prekursora na jakość warstw diamentowych

Fabisiak K., Banaszak A., Kozanecki M., Jarzyńska D., Staryga E.

Prace Naukowe Politechniki Warszawskiej. Elektronika

|

2005

|

z. 153

177-180

EN

Very high hardness and broad optical window from UV up to IR make the diamond attractive for many applications. In this work the Raman spectroscopy was used to determine the quality of polycristalline diamond films obtained by Hot Filament Chemical Vapor Deposition Method. Lower contain of amorphous carbon phase and lower value of FWHM of the layers obtained from C(2)H(2) comparing to films obtained from CH(3)OH.