Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

1 2001

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: formowanie pyłów

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Dust formation in low-pressure discharges

Stoffels E., Stoffels W., Kroesen G.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2001

Vol. 42, nr 3

33-34

Dust formation in various low-pressure systems, like interstellar space, upper parts of atmosphere, and laboratory gas discharges, has been recognised as a fascinating and rich in consequences phenomenon. This article gives a brief survey of one aspect of the vast research area of dusty plasmas. Dust particles attract much attention in surface processing, like etching of semiconductor elements or deposition of various coatings. These technologies are of major concern in industry, and they involve low-pressure plasmas operated in active gases. Much effort has been invested in elucidating dust formation mechanisms in these systems. Here, a silane (SiH4) plasma used for amorphous silicon deposition in solar cell technology is treated as an example. Several experimental techniques for dust detection in vacuum systems are presented and dust formation mechanism in a silane discharge is described.

Formowanie mikroskopijnych pyłów w systemach niskociśnieniowych jest obecnie bardzo popularnym przedmiotem badań w astronomii, fizyce atmosfery, a także w fizyce plazmy. Niskociśnieniowe wyładowania elektryczne znajdują szerokie zastosowania w nowoczesnej technologii obróbki materiałów, np. w trawieniu elementów półprzewodnikowych oraz w napylaniu cienkich warstw. Formowanie pyłów w tych aktywnych chemicznie plazmach ma znaczny wpływ zarówno na jakość modyfikowanej powierzchni jak i na wydajność obróbki plazmowej. W wyniku długotrwałych badań większość mechanizmów formowania pyłów w niskociśnieniowych plazmach została wyjaśniona. W artykule zaprezentowano metody wykrywania pyłów w reaktorach próżniowych oraz mechanizm formowania pyłów w silanie (SiH4). Wyładowania elektryczne w silanie są powszechnie stosowane w napylaniu amorficznych warstw krzemowych przy produkcji fotokomórek.