Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Nukleonika

1 1999

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: emisja jonowa

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Positive and negative ion production in the ion sputtering process

Droździel A., Kornarzyński K., Romanek J., Mączka D., Latuszyński J.

Nukleonika

1999

Vol. 44, nr 2

111-118

To study the secondary ion emission the special apparatus had been designed and constructed by which measurements of current intensity of positive and negative ions generated in this process were performed. The article presents the characteristics of current intensities of positive and negative ions sputtered from a source in dependence on the energy and intensity of bombarding argon ions, voltage and current of arc discharge as well as extraction voltage of ions from the area of a sputtered electrode. From these characteristics the coefficients of secondary ion emission were determined for Al, Ti and Cu targets. It has been shown that the constructed apparatus can be also used for production of positive and negative ions for ion implantation purposes.

W celu badania wtórnej emisji jonowej zostało zaprojektowane i wykonane stanowisko pomiarowe, za pomocą którego przeprowadzono pomiary natężeń prądów jonów dodatnich i ujemnych powstających w tym procesie. Artykuł prezentuje charakterystyki natężeń prądów jonów dodatnich i ujemnych uzyskiwanych ze źródła w zależności od energii i natężenia bombardujących jonów argonu, napięcia i prądu anodowego wyładowania łukowego oraz napięcia ekstrakcyjnego, wyciągającego jony z obszaru elektrody rozpylanej. Na ich podstawie określono współczynniki wtórnej emisji jonowej dla Ar,Ti i Cu. Pokazano, że zbudowane urządzenie można wykorzystać do produkcji jonów dodatnich i ujemnych dla celów implantacji jonowej.