Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: electrochromic effect

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Techniki rozpylania magnetronowego DC, MF i RF do nanoszenia cienkich warstw WO3

Jankowski H., Marszałek K., Sokulski J., Zabila Y., Stapiński T.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2012

Vol. 53, nr 10

79-81

Cienkie warstwy elektrochromowe są obecnie intensywnie badane z powodu ich potencjalnych zastosowań w systemach optycznych szczególnie z zasilaniem fotowoltaicznym. Tlenek wolframu jest najbardziej obiecującym materiałem ze względu na swoje właściwości optyczne. W niniejszej pracy przedstawiono szczegóły technologiczne nanoszenia tlenku wolframu różnymi metodami magnetronowego rozpylania jonowego; DC (stałoprądowego), MF (impulsowego) i RF (częstości radiowej). Rozpylanie było prowadzone z użyciem metalicznej tarczy wolframowej dla różnych składów mieszanki gazowej Ar/O2. Jednym z badanych parametrów rozpylania była prędkość rozpylania w funkcji mocy wyładowania. Otrzymano wartości zmieniające się od 5 nm/mim to 20 nm/min dla różnych technik nanoszenia i mocy od 200 W do 1 kW. W celu uzyskania warstw krystalicznych prowadzono wygrzewanie otrzymanych warstw po naniesieniu w temperaturach 380...450°C w powietrzu. Badania strukturalne prowadzono metody dyfraktometrii rentgenowskiej a badanie morfologii powierzchni metoda mikroskopii sił atomowych.

Thin film electrochromic films are nowadays produced and investigated due lo their application in different optical systems with possible photovoltaic supply Between them metallic oxides WO3 are the most promising because of excellent optical parameters. This paper presents details of magnetron sputtering technology for WO3 thin film preparation. All types it means DC (direct current sputtering), MF (pulsed magnetron sputtering) and RF (radio frequency sputtering) were tested as preparation method Films were deposited from metallic tungsten target in Ar/O2 gas mixture to realize reactive sputtering process of WO3 film nucleation. One of the tested sputtering parameter was power supply (starting from 200 W to 1 kW). Deposition rate were calculated for all deposition method and was found from 5 nm/min to 20 nm/min. Deposition process was realized in ambient substrate temperature for all sputtering method. Cristal structure was defined by x-ray diffraction for all WO, films after post deposition annealing in 380 to 450°C air atmosphere. Surface properties of sputtered films were investigated by means of atomic force microscopy AFM.

Właściwości optyczne i strukturalne warstw elektrochromowych WO₃

Marszałek K., Jankowski H., Swatowska B., Perzanowski M., Stapiński T.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2011

Vol. 52, nr 11

39-40

Warstwy elektrochromowe są przedmiotem zainteresowania ze względu na szeroką gamę potencjalnych zastosowań w elektronice, architekturze oraz szeregu dziedzin, gdzie stosuje się filtrację promieniowania elektromagnetycznego w obszarze widzialnym. W pracy opisano technologię nanoszenia warstw WO₃ metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego przy częstotliwości 13,56 MHz. Przedstawiono ich właściwości optyczne i strukturalne, a w szczególności zmiany tych własności w wyniku wygrzewania warstw amorficznych.

Electrochromic thin films are intensively investigated due to their potential application in electronics, architecture and in all fields where filtering of electromagnetic radiation in the visible range is important. A reactive magnetron deposition with a RF of 13.56 MHz is described. Optical and structural properties of WO ₃ thin films are described for as deposited and annealed films.