Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Powiadomienia systemowe

Sesja wygasła!

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: electrochemical quartz microbalance

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Oznaczanie czynnika martwicy nowotworów (TNFα) za pomocą mikrowagi kwarcowej

Arkusz K.

Acta Bio-Optica et Informatica Medica. Inżynieria Biomedyczna

2016

Vol. 22, nr 3

113--120

Celem pracy było sprawdzenie możliwości wykorzystania elektrochemicznej mikrowagi kwarcowej do oznaczania poziomu czynnika martwicy nowotworów (ang. Tumor Necrosis Factor, TNFα). Pomiary za pomocą wagi EQCM (ang. Electrochemical Quartz Crystal Microbalance) przeprowadzono w standardowym trójelektrodowym układzie, w którym zastosowano: (1) immobilizowaną elektrodę Ti/TiO2 jako elektrodę pracującą, (2) elektrodę złotą jako elektrodę pomocniczą i (3) elektrodę Ag/AgCl jako elektrodę odniesienia. Próbki immobilizowano metodą bezpośredniej adsorpcji poprzez nakropienie 10 μl przeciwciał TNFα o stężeniu 1 μg/ml na powierzchnię Ti/TiO2 i inkubowaniu przez 1h. Pomiary piezoelektryczne wykonano w zakresie (-0,3 ÷ -0,8) V z prędkością skanowania 20 mV/s w roztworze soli fizjologicznej buforowanej fosforanami (0,01 M PBS, pH 7,4) z dodatkiem 10 μl standardowego roztworu antygenów TNFα (50–1000 pg/ml). Wyniki badań dowiodły, że przygotowana platforma jest czuła na zmianę stężenia antygenu na powierzchni elektrody. Kryształy pokryte TiO2 z immobilizowaną warstwą przeciwciał i antygenu TNFα wykazały wyraźny spadek częstotliwości, który stabilizuje się na określonym poziomie w zależności od stężenia antygenu (błąd średniokwadratowy R2 = 0,9624).

The aim of this study was to examine the possibility of using electrochemical quartz crystal microbalance EQCM for the determination of the level of tumor necrosis factor (TNFα). EQCM measurements were carried out in a standard three-electrode system, which uses: (1) Ti/TiO2 immobilized electrode as the working electrode, (2) gold electrode as the counter electrode, and (3) Ag/AgCl electrode as the reference electrode. Samples were immobilized by dropping 10 μl TNFα antibody with concentration 1 μg/ml onto the Ti/TiO2 surface and incubated for 1 h. Piezoelectric and voltamperometric measurements were carried out in (-0.3 ÷ -0.8) V interval with the scan rate 20 mV/s in phosphate-buffered saline solution (0.01 M PBS, pH 7.4) with addition of 10 μl standard TNFα antigen (50–1000 pg/ml). Obtained results proved that the prepared platform was sensitive to change of antigen concentration on the surface of the electrode. Crystals covered by TiO2 with an immobilized layer of antibody and antigen TNFα showed a significant decrease of frequency, which remains on specified level according to the antigen concentration (mean squared error R2 = 0.9624).

Electrowinning Of Tellurium From Acidic Solutions

Kowalik R., Kutyła D., Mech K., Tokarski T., Żabiński P.

Archives of Metallurgy and Materials

2015

Vol. 60, iss. 2A

591--596

The process of electrochemical deposition of tellurium was studied. Preliminary researches embrace the voltammetry and microgravimetric measurements. According to the results the electrolysis of tellurium was conducted under potentiostatic conditions. There was no deposition of tellurium above potential −0.1 vs. Ag/AgCl electrode in 25°C. The process of deposition is observed in the range of potentials −0.1 to −0.3 V vs. Ag/AgCl. The presence of tellurium was confirmed by XRF and XRD. The obtained deposits were homogenous and compact. Below potential −0.3 V vs. Ag/AgCl the Faradaic efficiency of the tellurium deposition decreased due to reduction of Te to H2Te and hydrogen evolution.

Przeprowadzono badania obejmujące możliwość otrzymywania telluru z roztworów kwaśnych metodą elektrochemiczną. Badania wstępne obejmowały analizę mechanizmu osadzania telluru z wykorzystaniem cyklicznej woltamperometrii oraz elektrochemicznej mikrowagi kwarcowej. Na podstawie otrzymanych wyników przeprowadzono proces elektrolizy w warunkach potencjostatycznych. W temperaturze 25°C powyżej potencjału −0.1 V względem elektrody chlorosrebrowej nie zachodzi proces osadzania telluru. W zakresie potencjałów od −0.1 do −0.3 V względem elektrody chlorosrebrowej następuje jego osadzanie na katodzie. Obecność tellury była potwierdzona metodami XRD i XRF. Osady otrzymane w omawianym zakresie parametrów charakteryzowały się zwartą i jednorodną budową. Poniżej potencjału −0.3 V względem elektrody chlorosrebrowej wydajność oraz szybkość procesu osadzania telluru ulegają obniżeniu w wyniku występowania reakcji konkurencyjnych: redukcji Te do H2Te oraz wydzielania wodoru.