Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: electrochemical conditioning

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Przetwarzanie osadów wstępnych z wykorzystaniem oddziaływania plazmy

Marcinkowski T.A., Aulich P. J.

Inżynieria i Ochrona Środowiska

2008

T. 11, nr 2

207-218

Przedstawiono krótką charakterystykę metody kondycjonowania elektrochemicznego osadów wykorzystującą oddziaływanie plazmy niskotemperaturowej. Badano osady wstępne pochodzące z komunalnej oczyszczalni ścieków w Gorzowie. Osady kondycjonowano elektrochemicznie, chemicznie wodorotlenkiem wapnia i ditlenkiem diwodoru oraz łącznie elektrochemicznie i chemicznie. Dla każdego z kondycjonowanych osadów określono zdolność do sedymentacji, oznaczono uwodnienie, zawartość suchej masy, substancji organicznych i mineralnych, zmierzono i obliczono opór właściwy filtracji, wydajność filtracji, oznaczono zawartość żelaza w popiele, a także określono energochłonność procesu. Porównano przebieg procesu kondycjonowania elektrochemicznego, chemicznego i łącznego osadów wstępnych.

This paper presents a brief characterization of the method of electrochemical conditioning of sludge, using the effect of low-temperature plasma. Primary sludge from municipal wastewater treatment plant in Gorzów was analysed. Sludge was conditioned electrochemically, chemically with calcium hydroxide and dihydrogen dioxide, and using combined method - electrochemical and chemical. For each conditioned sludge its settlement characteristics, such as hydration, dry mass content, organic and mineral substances, calculated and measured specific filtration resistance, effectiveness of filtration, iron content in ash, as well as energy-consumption of the process, were determined. For electrochemical, chemical and combined processes of primary sludge conditioning their courses were compared.

Krzywe prądowo-napięciowe a formowanie porowatej struktury w n-Si (111)

Jakubowicz J.

Inżynieria Materiałowa

2003

R. XXIV, nr 1

35--38

Zbadano wpływ reaktywności rozcieńczonego elektrolitu NH4F o różnej molarności i pH na krzywe prądowo-napięciowe i zakres formowania porowatego krzemu. Obróbce elektrochemicznej w rosnącym potencjale poddano krzem monokrystaliczny typu n-Si (111). Przed obróbką elektrochemiczną zastosowano obróbkę chemiczną mającą na celu przygotowanie powierzchni o wysokiej jakości, zbudowanej z tarasów atomowych o szerokości 100/150 nm i wysokości 0,314 nm. Zmiany struktury określono z wykorzystaniem mikroskopu AFM. Wzrost reaktywności wpływa na rozszerzenie potencjałów, w których formowane są pory. Określono, iż większy wpływ wywiera molarność niż kwasowość. W wyniku wzrostu potencjału, z potencjału resztkowego do potencjału, w którym występuje maksymalna gęstość prądu, w krzemie pojawiają się pory o średnicy poniżej 80 nm i głębokości do 12 nm.

Current-voltage characteristics in aspect of porous silicon formation has been investigated in diluted NH4F electrolytes with different molarity and pH. Electrochemical conditioning was done at increasing potential. Monocrystalline n-Si (111) wafers has been investigated. Before electrochemistry experiments chemical cleaning results in high quality surface composed from atomic terraces 100/150 nm wide and 0,314 nm high. The change in surface structure was investigated by AFM. A correlation between different anodisation parameters is done. It was found that molarity is more important than pH of the electrolyte. The potential range of porous silicon formation is extended for higher molarity. When the potential increases from the rest potential to the potential, where the maximum current occurs, in silicon wafer pores appear. The diameter of initial pores estimated to be below 80 nm and depth of pores approach to 12 nm.