Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  domieszkowanie warstw pasywnych
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań narastania warstw pasywnych na aluminium w roztworach zawierających aniony chromianowe, molibdenianowe lub wolframianowe. Filmy pasywne wytwarzające się w tych roztworach zawierają w swojej strukturze atomy odpowiednich chromowców. Za pomocą elektrochemicznej mikrowagi kwarcowej ustalono, że kinetyka samorzutnego wzrostu warstw pasywnych na Al W roztworach Na2CrO4 lub Na2WO4 jest zgodna, zaś w środowisku Na2MoO4 niezgodna z mechanizmem wysokiego pola elektrycznego. Prawdopodobną przyczyną odstępstw od tego mechanizmu jest stosunkowo wysokie przewodnictwo elektryczne tworzącej się warstwy tlenkowej domieszkowanej molibdenem, które jest ponad dwa rzędy wielkości większe niż przewodnictwo elektryczne warstw pasywnych zawierających chrom lub wolfram.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.