Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Effect of electrochemical treatment in eutectic solvent and deposition of SiO2 sol-gel coating on corrosion resistance of 316L steel in Ringer’s solution

Mazur-Nowacka Anna, Marczewski Marek, Tylus Włodzimierz, Szczygieł Bogdan, Chęcmanowski Jacek

Ochrona przed Korozją

|

2022

|

nr 5

152--156

EN

The 316L stainless steel samples were subjected to anodic polarization in a eutectic solvent and then theSiO2 coatings were deposited on them using the sol-gel method. The coatings were prepared from a sol containing TEOS as a precursor and ethanol as a solvent. The obtained samples were exposed in Ringer’s solution. Studies have shown that electrochemical treatment of 316L steel affects both the morphology, topography and roughness of the metallic material. Potentiodynamic tests showed that the best barrier properties after exposure to Ringer’s solution were obtained for 316L steel subjected to electrochemical treatment, additionally covered with a SiO2 coating. The deposition of the three-layer SiO2 coatings reduces the corrosion current density and an increase in the polarization resistance relative to the uncoated 316L steel.

PL

Próbki ze stali nierdzewnej 316L poddano polaryzacji anodowej w rozpuszczalniku eutektycznym, a następnie metodą zol-żel osadzono na nich powłoki SiO2. Powłoki otrzymywano z zolu zawierającego TEOS jako prekursor i etanol jako rozpuszczalnik. Otrzymane próbki eksponowano w roztworze Ringera. Badania dowiodły, że elektrochemiczna obróbka stali 316L wpływa zarówno na morfologię oraz topografię, jak i chropowatość materiału metalicznego. Potencjodynamiczne badania wykazały, że najlepsze właściwości barierowe po ekspozycji w roztworze Ringera uzyskano dla stali 316L poddanej obróbce elektrochemicznej i dodatkowo pokrytej powłoką SiO2. Osadzenie trójwarstwowych powłok SiO2 powoduje zmniejszenie gęstości prądu korozji oraz wzrost oporu polaryzacji względem niepokrytej stali 316L.

2

Jedno- i dwuwarstwowe struktury antyrefleksyjne wytwarzane metodą zol-żel do zastosowań w fotoogniwach krzemowych

Skolik M., Karasiński P.

Przegląd Elektrotechniczny

|

2017

|

R. 93, nr 8

73--76

PL

Pomimo pojawienia się wielu nowych rodzajów fotoogniw słonecznych, fotogniwa krzemowe nadal odgrywają istotną rolę. Wysoki współczynnik załamania krzemu sprawia, że ponad 34% fotonów promieniowania słonecznego z zakresu absorpcji krzemu ulega od niego odbiciu i nie generuje w nim ekscytonów. Odbicie światła można istotnie zmniejszyć teksturując powierzchnię krzemu, wytwarzając na niej strukturę antyrefleksyjną albo stosując jednocześnie oba rozwiazania. Praca dotyczy jedno- i dwuwarstwowych struktur antyrefleksyjnych wywtarzanych metodą zol-żel i techniką dip-coating na podłożach krzemowych. Dla struktury jednowarstwowej osiągnięto ważony współczynnik odbicia fotonów Rw 9%, natomiast dla struktury dwuwarstwowej osiągnięto Rw<4%. W pracy przedstawiano optymalizację teoretyczną struktur antyrefleksyjnych, technologię ich wytwarzania oraz wyniki badań eksperymentalnych. Osiągnięto doskonałą zgodność wyników analizy teoretycznej z wynikami eksperymentalnymi.

EN

Besides many different types of photovoltaic solar cells, silicon solar cells are still of significant importance. Bare silica’s high refraction index leads to greater than 34% reflection of solar light photones, within silica’s absorption band, from its surface without generating excitons. Reflection loss can be significantly reduced with the use of surface texturing and/or antireflective coatings. The most beneficial effect is achieved when combinig both, surface texturing and antireflective coatings. This work presents single and double layer Anti Reflective Structures (ARS’s) derived from sol-gel process for application in silicon photovoltaic cells. Weighted average reflection of a single layer ARS is Rw 9%, whereas double layer ARS provides weighted average reflection Rw<4%. In this work theoretical optimization of ARS’s, technological process of structure fabrication as well as experimental results are demonstrated. Theoretical data shows excellent correlation with experimental results.

3

Potencjalne narażenie na nanocząstki ditlenku krzemu podczas rozpylania preparatu do zabezpieczenia lakieru samochodowego

Jankowska E.

Bezpieczeństwo Pracy : nauka i praktyka

|

2013

|

nr 11

16-19

PL

W artykule przedstawione zostały wyniki badania potencjalnego narażenia na nanocząstki ditlenku krzemu podczas rozpylania komercyjnie dostępnego preparatu Profilne Nano Paint Protect (PNPP). Preparat ten jest przeznaczony do zabezpieczania lakieru samochodowego i może być stosowany zarówno w zakładach usługowych, jak również przez użytkowników prywatnych Podstawą oceny potencjalnego narażenia na nanocząstki ditlenku krzemu były wyniki badań zmienności stężeń i rozkładów wymiarowych cząstek o wymiarach - od nanometrowych (10 nm) do mikrometrowych (10 µm) - czyli cząstek, które są z reguły wdychane przez człowieka. Stwierdzono, że podczas 10-sekundowego rozpylania preparatu w odległości 52 cm od powierzchni, na którą rozpylano preparat, występują znaczne wzrosty stężeń emitowanych cząstek.

EN

Potential exposure to nanoparticles during spraying of preparation for protecting car varnish The article presents results of investigation of potential exposure to silicon dioxide nanoparticles during spraying; of Commercially available preparation Profiline Nano Paint Protect (PNPP) This preparation is intended for protecting car varnish and can be applied both in repair shops as well as by private users. The base of assessing of potential exposure to silicon dioxide nanoparticles were results of investigation of changes of concentrations and size distributions of particles m the wide range- from nanometer-size (10 nm) to micrometer-size (10 µn) - it means particles which are usually inhaled by humans It was fined that during 10 seconds spraying of preparation in the distance of 52 cm from the surface, to which preparation was being sprayed, considerable increases of concentrations of emitted particles were obtained.

4

Cienkie powłoki z tetrametoksilanu (TMOS) osadzane metodą PE-CVD i ich zastosowanie

Rżanek-Boroch Z., Schmidt-Szałowski K., Szymańska A., Afek T.

Przemysł Chemiczny

|

2003

|

T. 82, nr 8-9

956-958