Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: direct writing

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Micromachining And Pattering In Micro/Nano Scale On Macroscopic Areas

Marczak J.

Archives of Metallurgy and Materials

2015

Vol. 60, iss. 3

2221--2234

This paper presents detailed discussion of selected examples of laser technologies for the modification of solid surfaces, including topographic and microstructural changes as well as both these alterations simultaneously. Laser surface micromachining has just entered the new generation of technologies that are used in surface engineering. It will be shown on the examples of applications in bioengineering, on the base of the author’s own research, in modification of materials such as titanium and its alloys, diamond-like layers (DLC) deposited on silicon and polymer substrates.

Artykuł przedstawia szczegółowe omówienie wybranych przykładów technologii laserowych związanych z modyfikacją powierzchni ciał stałych, obejmujących zmiany topograficzne i zmiany mikrostrukturalne, lub obie te zmiany jednocześnie. Laserowa mikroobróbka powierzchni weszła już do nowej generacji technologii, wykorzystywanych w inżynierii powierzchni. Zostanie to pokazane, na podstawie prac własnych, na przykładach zastosowań w bioinżynierii, w modyfikacji takich materiałów jak tytan i jego stopy oraz warstwy diamentopodobne (DLC) naniesione na podłoże krzemowe i polimerowe.

Maskless laser lithography for fast Micro- and Mano-technology devices prototyping in ITE

Sierakowski A., Domański K., Janus R., Grabiec P., Gotszalk T., Kopiec D.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2011

Vol. 52, nr 3

38-40

There are only a few methods of masks fabrications for semiconductor technology and MEMS devices. The most common are a Pattern Generator, an E-beam and the Maskless Laser Lithography technologies [1, 2]. For fast prototyping the most useful is the Maskless Laser Lithography method working in Direct Writing mode. For single trials mask making is not necessary. Exposing the pattern directly on a substrate (different substrates are possible) covered with a photosensitive layer makes prototyping much shorter. Moreover, using the direct writing method simplifies converting data from drafts to a pattern saved in machine code and then used for mask generation.

Istnieje kilka metod produkcji masek fotolitograficznych wykorzystywanych przy wytwarzaniu urządzeń półprzewodnikowych lub mikro- i nanomechamcznych. Pattern Generator, E-beam i bezpośrednie naświetlanie światłem laserowym to najczęściej wykorzystywane metody. Metoda bezpośredniego naświetlania wzoru na strukturze jest optymalną dla potrzeb szybkiego prototypowania. Pozwala ona na rezygnację z produkcji masek, które wykorzystywane są tylko w pojedynczych próbach. Możliwość naświetlania wzoru na dowolnym podłożu pokrytym światłoczułą emulsją znacznie skraca czas opracowywania technologii wytwarzania nowych przyrządów. Łatwa konwersja danych zapisanych w typowych formatach wykorzystywanych przy projektowaniu wzorów na kod maszynowy pozwala szybko wygenerować wzór.