A new method of thin dielectric mask preparation for Ag+ - Na+ ion exchange applications was developed. Electrodiffusion bonding of Al-film to glass was used to obtain very thin dielectric Al2O3 layer in the Al-glass transition zone. After Al removal, the quality of the dielectric mask was tested in Ag pure thermal diffusion and electrodiffusion processes in molten AgNO3.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.