Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  diamond-like carbon layers
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań nowoczesnej technologii mikroobróbki laserowej biomateriałów opartej na wykorzystaniu interferencji impulsowych wiązek laserowych o dużej energii. Przeanalizowano wpływ polaryzacji promieniowania na formę wzorów w obrazie interferencyjnym. Eksperymentalnie wyznaczono wartości progów ablacji laserowej dla tytanu i warstw diamentopodobnych. W serii eksperymentów potwierdzono szczególne zalety metody bezpośredniej interferencyjnej litografii laserowej w periodycznej modyfikacji powierzchni dla uzyskania różnych jej topografii, włącznie ze strukturami hierarchicznymi, o różnym okresie i wymiarach wzorów. Opisano zastosowania tej technologii do kształtowania powierzchni materiałów wszczepialnych oraz rusztowań dla hodowli komórek i tkanek w bioinżynierii.
EN
The paper presents the results of research on modern laser micromachining technology based on utilization of the interference field of high energy, pulse laser beams. The influence of radiation polarization on a pattern shape in an interference image has been analyzed theoretically. Values of laser ablation threshold for titanium and diamond-like coatings were determined experimentally. The particular advantages of the direct laser interference lithography method have been shown in a series of tests devoted to the periodical surface topography modification, including creation of hierarchical structures with different periods and feature dimensions. Another trial of tests has confirmed also the application potential of this technique in shaping of implant surfaces as well as preparation of scaffolds for cells and tissues culturing in bioengineering.
EN
The work presents the results of a research carried out with PlasmaLab Plus 100 system, manufactured by Oxford Instruments Company. The system was configured for deposition of diamond-like carbon films by ICP PECVD method. The change of an initial value of DC bias was investigated as a function of set values of the generator power (RF generator and ICP generator) in the constant power of the RF generator operation mode. The research shows that the value of DC bias nearly linearly depends on the RF generator power value and is affected only in a small degree by the power of ICP discharge. The capability of an installed OES spectrometer has been used to ensure the same starting conditions for the deposition processes of DLC films. The analysis of OES spectra of RF plasma discharge used in the deposition processes shows that the increase in ICP discharge power value results in the increased efficiency of the ionization process of a gaseous precursor (CH4). The quality of deposited DLC layers was examined by Raman spectroscopy. Basing on the acquired Raman spectra, the theoretical content of sp3 bonds in the structure of the film was estimated. The content is ranging from 30% to 65% and depends on ICP PECVD deposition process parameters.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.