Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

2 2008

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: diamond-like carbon films

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

System optoelektroniczny do kontroli procesów ΜPA CVD

Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P., Leśniewski M.

Pomiary Automatyka Kontrola

2008

R. 54, nr 3

87-90

Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monito-rowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.

Prototype of optoelectronic monitoring system dedicated for in-situ diagnostics of microwave plasma assisted CVD processes was presented in this paper. The system uses optical emission spectroscopy OES and long-working-distance Raman spectroscopy RS. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and nucleation processes in the growing layer (growth ratio, phase defects). Thus, correlation between process parameters, plasma composition and layer quality can be determined. Results of investigation carried out for thin diamond-like-carbon DLC films synthesis process were presented. Obtained results can be used for efficient control of CVD process.

Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych

Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2008

Vol. 49, nr 11

80-83

W artykule przedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, do wytwarzacienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano rzestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plazmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzegniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych torów światłowodowych. Zaprezentowano wyniki prac eksperymentalnych i interpretację danych pomiarowych.

Optoelectronic system dedicated for in-situ diagnostics of plasma assisted CVD processes is presented in this paper. The system uses spatially resolved optical emission spectroscopy OES and Raman spectroscopy. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and performance of the growing layer. Design of measurement systems coupled with CVD chamber by dedicated fiber-optic paths is described. Results of experimental works are presented and analysis of obtained data is given.