PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  dc sputtering
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Nowoczesne techniki rozpylania magnetronowego
Posadowski W.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2006
|
Vol. 47, nr 4
40-43
PL
Badano zjawisko autorozpylania magnetronowego (bez gazu roboczego w atmosferze procesu) miedzi i niklu rozpylanych oddzielnie oraz podczas jednoczesnego rozpylania tych materiałów z dwóch niezależnie zasilanych magnetronów. Przedstawiono proces technologiczny otrzymywania warstw dielektrycznych (AIN, Al2O3) za pomocą impulsowych układów magnetronowych.
EN
Self-sustained magnetron sputtering (proceeds in the absence of working gas in the process atmosphere) has been described for copper and nickel being sputtered separately, or simultaneously from two individually powered magnetrons. Technology of dielectric films (AIN, Al2O3) produced with the aid of pulsed magnetron systems has been presented.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.