Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: cienkie warstwy Ni-Fe

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Nanoskopowa analiza orientacji domen magnetycznych z wykorzystaniem technik bliskiego pola

Ozimek M., Sikora A., Goworska-Koniarek D., Wilczyński W.

Przegląd Elektrotechniczny

2010

R. 86, nr 4

72-74

Cienkie warstwy NiFe otrzymano na szkle kwarcowym za pomocą impulsowego rozpylania magnetronowego. Proces nakładania prowadzono przy stałej mocy (550 W) i różnym ciśnieniu gazu roboczego (0,4, 1,0, 4,0 Pa). Zbadano strukturę domenową otrzymanych warstw za pomocą mikroskopii sił magnetycznych (MFM). Grubość powłok zawierała się w przedziale od 80 do 150 nm.

NiFe thin films deposited onto Si substrate at room temperature via impulse magnetron sputtering. Magnetron deposition was carried out in sputtering power 550 W and different argon pressure (0.4, 1.0, 4.0 Pa). The ferromagnetic layers thicknesses were 80, 150 and 120 nm respectively. The samples were characterized by X-Ray diffraction. Effect of sputtering parameters on domain structure, as explored by magnetic force microscopy (MFM), was focused. The investigation showed a variety of magnetic domain microstructures

Zastosowanie cienkich warstw Ni-Fe w ekranowaniu pól elektromagnetycznych

Ozimek M., Wilczyński W.

Prace Instytutu Elektrotechniki

2009

Z. 241

39-50

W pracy przedstawiono wyniki badań tłumienia promieniowania elektromagnetycznego przez cienkie warstwy Ni-Fe naniesione na włókninę polipropylenową 160 (gramatura 160 gm^-2). Magnetyczny target zamocowany na wyrzutni magnetronowej WMK-100 został rozpylony w atmosferze czystego argonu. Zbadano szybkość osadzania warstw w zależności od wybranych parametrów procesu rozpylania magnetronowego (moc wydzielona na targecie oraz ciśnienie gazu roboczego). Wykonano badania morfologii powierzchni i strukturalne za pomocą skaningowego mikroskopu elektronowego (SEM) oraz dyfrakcji rentgenowskiej X-ray. Tłumienie promieniowania elektromagnetycznego wyznaczono w oparciu o amerykańską normę MIL-STD 285. Zakres częstotliwości roboczej zawierał się w przedziale od 300 do 1000 MHz. Stwierdzono wpływ parametrów rozpylania na skuteczność ekranowania.

In this study the results of measurement of electromagnetic wave attenuation by Ni-Fe thin films deposited on polypropylene nonwoves 160 (basis weight 160 gźm^-2) were presented. Magnetic target fitted on magnetron gun of the WMK-100 type was sputtered in pure argon atmosphere. The rates of the materials depositions were presented in regards to most important physical quantities relevant to pulse magnetron processing (power dissipated into target, flow rates of gas background). The surface morphology and microstructure were analyzed using scanning electron microscopy (SEM) and X-ray diffraction. Measurements of screening attenuation were made according to the MIL-STD 285 American standard. The measurements were carried out in frequency band of 300 MHz - 1000 MHz. The influence of chosen parameters on shielding effectiveness was noticeable.