Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

1 2008

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: bramka Al

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Badania właściwości fizycznych warstwy SiO2 pod bramką aluminiową

Borowicz L., Rzodkiewicz W., Kulik M., Borowicz P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2008

Vol. 49, nr 11

29-32

W pracy omówiono fizyczne właściwości warstwy dwutlenku krzemu położonego pod bramką aluminiową, ze szczególnym uwzględnieniem zachodzącego w tejże warstwie ciśnienia i występujących tam struktur. W badaniach wykorzystane zostały następujące narzędzia pomiarowe: spektrometr ramanowski, interferometr Fizeau i mikrointerferometr MII4.

In this paper physical properties of silicon dioxide under the aluminium gate were described. Particularly, in our studies a pressure and two kinds of structures occuring in the layer were taken into account. In our investigations, the following measurements tools such as raman spectrometer, Fizeu interferometer and MII4 microinterferometerwere applied.