Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

1 2009

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: autorozpylanie

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Rozwój techniki i technologii magnetronowego rozpylania

Posadowski W. M., Wiatrowski A.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

2009

Vol. 50, nr 1

35-38

Przedstawiono wyniki badań wybranych niekonwencjonalnych metod rozpylania magnetronowego na tle światowych trendów w tej dziedzinie. Zaprezentowano reaktywne, impulsowe rozpylanie magnetronowe i impulsowe autorozpylanie magnetronowe. Wykazano, że możliwe jest wysokowydajne nanoszenie warstw dielektrycznych (Al x O y AlN x , SiO x ) w tzw. metalicznym modzie rozpylania, tzn. z szybkościami porównywalnymi do tych, z jakimi nanoszone są czyste warstwy metaliczne w procesach niereaktywnych. Eksperymentalnie wykazano możliwość osadzania warstw w procesach impulsowego autorozpylania magnetronowego, tj. bez obecności gazu roboczego (przy ciśnieniu tła gazowego stanowiska próżniowego). Mod autorozpylania realizowano przy dwóch rodzajach zasilania impulsowego. W badaniach stosowano magnetron kołowy WMK-50 produkowany w WEMiF Politechniki Wrocławskiej, zdolny do prowadzenia procesów rozpylania dużej mocy. Wspomniane metody otwierają nowe możliwości sterowania parametrami procesu rozpylania, a tym samym nowy sposób kontrolowania właściwości osadzanych warstw.

The pulsed, reactive high efficiency magnetron sputtering and self-sustained sputtering have been presented. A deposition rates of Al x O y , AlN x , SiO x were comparable respectively with deposition rates of Al and Si targets sputtered in argon ambient. It is assumed that it was possible thanks to the magnetron operation in the metallic mode. Concerning self-sustained magnetron sputtering it has been experimentally verified that such mode of magnetron operation can be achieved using impulse power supply.