W artykule przedstawiono metodę automatycznego profilowania pól temperatury w cieplno-chemicznych urządzeniach technologicznych. Zagadnienia tego typu stanowią ważny etap procesu produkcyjnego w takich dziedzinach jak: inżynieria materiałowa, produkcja materiałów półprzewodnikowych, wytwarzanie układów scalonych dużej skali integracji (VLSI), hodowli monokryształów itd. Proponowana metoda pozwala w pełni zautomatyzować proces profilowania, pozwalając kilkukrotnie skrócić czas tej operacji. Niniejsze opracowanie zawiera podstawy teoretyczne metody oraz przykłady zastosowań przemysłowych.
EN
The paper presents the method of automatic profiling of the temperature fields in the industrial thermo-chemical systems. This problem is often important step in the production processes in such fields as material engineering, manufacturing of semiconductor materials and VLSI, crystal growth etc. The proposed method enables full automation of profiling process and leads to few times of shortening of duration of this operation. This work includes the theoretical methods description and the examples of industrial applications.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.