Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 2015

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: atomic microscopy

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Wykorzystanie mikroskopii AFM do wizualizacji efektów prac nad otrzymaniem tlenków cyny SNO2

Lubańska Z., Grudniewski T., Chodyka M.

TTS Technika Transportu Szynowego

2015

R. 22, nr 12

944--946, CD

W artykule przedstawiono charakterystyki cienkich warstw SnO2 na czystym szkle. Warstwy SnO2 nanoszone były metodą magnetronowego sputteringu (nanoszenie) na podłoże szklane w różnych temperaturach. Wykorzystano do tego urządzenie Magnetron Line 440. Do badania składu i morfologii warstwy użyto mikroskopii skaningowej i atomowej (STM/AFM). Na podstawie badań stwierdzono, że powłoki wykazują dobre połączenie z materiałem podłoża, charakteryzują się zróżnicowaną chropowatością i są jednorodnie chemiczne.

Atomic force microscopy is one of the most popular method used in surface imaging. This method allows to measure the surface topography and determine the dimensions of the structures in the subatomic resolution [1]. Due to its properties, it can be applied to the measurement of conductors and semiconductor surfaces prepared in various processes. The experiment is fo-cused on SnO2 and ITO thin layers which can be used as transparent electrodes [2]. The authors are trying to illustrate the correlation between process parameters - creation of semiconductor in magnetron sputtering by different process conditions (temperature and cooling process, gas pressure and composition), surface of the sample and its other electrooptical parameters.