Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Polimery

1 2005

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: allyl compounds

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Inhibicja tlenowa procesów fotopolimeryzacji i sposoby jej ograniczania

Biernat M., Rokicki G.

Polimery

2005

T. 50, nr 9

633-645

W artykule przeglądowym omówiono mechanizm i kinetykę fotopolimeryzacji rodnikowej nienasyconych monomerów prowadzonej w obecności tlenu z powietrza. Przedstawiono czynniki wpływające na wartość inhibicji tlenowej oraz podstawowe sposoby jej ograniczania, m.in. zastosowanie osłon z gazu obojętnego, powłok ochronnych, barier z przezroczystych folii lub wosków parafinowych oraz użycie światła o dużej intensywności. Przedyskutowano fotopolimeryzację nienasyconych monomerów wykazujących zmniejszoną wrażliwość na inhibitujące działanie tlenu. Omówiono mechanizm fotopolimeryzacji układów zawierających monomery polarne i monomery zdolne do tworzenia wiązań wodorowych oraz zależność szybkości polimeryzacji od ich struktury. Opisano również podstawowe metody oznaczania wartości inhibicji tlenowej.

In this review the mechanism and kinetics of radical photopolymerization of unsaturated monomers carried out in the presence of atmospheric oxygen have been described. The factors influencing the oxygen inhibition value and basic methods of its suppression such as among others the use of inert gas screen, protective coatings, barriers made of transparent films or paraffin waxes, and use of high intensity light, were presented. Photopolymerization of unsaturated monomers showing decreased sensitivity to oxygen inhibition has been discussed. The mechanism of photopolymerization of the systems containing polar monomers or monomers able to form hydrogen bonds was presented as well as the dependence of polymerization rate on the monomer structure (Table 2). Basic methods of measuring of the oxygen inhibition value have also been described.