Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

1 Polimery

1 2004

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: akrylan poliorganosiloksanowy

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Preparation of new polyorganosiloxane acrylate and the properties of UV-cured acrylate compositions containing it

Liu H., Chen M., Xu K., Wang Z.

Polimery

2004

T. 49, nr 6

404-407

A new polyorganosiloxane acrylate (POSA) has been obtained as a result of Michael addition reaction of polyorganosiloxane modified with cyclohexylamine with methyl end groups (MCAPS) and hexanediol diacrylate (HDDA). 1H NMR and FT-IR methods confirmed the course of a reaction of N-H groups of MCAMPS with acrylic groups of HDDA. POSA has been used to modification of UV-cured epoxy-acrylic system (HDDA + butyl acrylate + epoxy-diacrylate resin). It has been stated that even small POSA content (1-1.5 wt. %) causes significant changes of surface properties of cured coatings. Namely, contact angle and its hysteresis increase, gloss decreases while final hardness does not change. Using XDS method it was showed that POSA selectively concentrated on the surface of cured coatings.

W wyniku reakcji addycji Michaela z udziałem modyfikowanego cykloheksyloaminą poliorganosiloksanu z końcowymi grupami metylowymi (MCAPS) oraz diakrylanu heksanodiolu (HDDA) otrzymano nowy akrylan poliorganosiloksanowy - POSA [równanie (1)|. Metodami 1H NMR (rys. 1) oraz FT-IR potwierdzono przebieganie reakcji grup N-H MCAMPS z grupami akrylowymi HDDA. Związek ten użyto do modyfikacji układu epoksydowo-akrylowego (HDDA + akrylan butylu + żywica diakrylanowo-epoksydowa) utwardzanego pod wpływem promieniowania UV. Stwierdzono, że już niewielka zawartość POSA (1-1,5 % mas.) powoduje bardzo istotne zmiany właściwości powierzchniowych utwardzonych powłok. Mianowicie, zwiększa się kąt zwilżania (rys. 2) i jego histereza (rys. 4) oraz oporność powierzchniowa, maleje połysk (tabela 1), natomiast końcowa twardość nie ulega zmianie (rys. 5). Metodą rentgenograficzną (XDS) wykazano, że POSA koncentruje się selektywnie na powierzchni utwardzonych powłok (rys. 3).