Hexagonal boron nitride (h-BN) is an attractive material for applications in electronics. The technology of devices based on BN requires non-destructive and fast methods of controlling the parameters of the produced layers. Boron nitride layers of different thickness were grown on sapphire substrates (Al2O3) using the MOCVD method. The obtained films were characterized by FT-IR spectroscopy using IRR and ATR techniques and by the XRR and SEM methods. We showed that by analyzing the ATR or reflectance spectrum in the range of 600-2500 cm-1 we can measure the thickness of a BN layer on the Al2O3 substrate. Our measuring method allows measuring the layers with a thickness from ~2 nm to approx. 20 nm.
PL
Heksagonalny azotek boru (h-BN) jest atrakcyjnym materiałem do zastosowań w elektronice. Technologia wytwarzania urządzeń z zastosowaniem warstw h-BN wymaga nieniszczących i szybkich metod kontroli parametrów produkowanych warstw. Warstwy azotku boru o różnej grubości wyhodowano na podłożach szafirowych metodą MOCVD. Otrzymane warstwy scharakteryzowano za pomocą spektroskopii FT-IR z użyciem technik IRR i ATR oraz metodami XRR i SEM. Pokazaliśmy, że analizując widmo ATR lub odbicia w zakresie 600-2500 cm-1 można zmierzyć grubość warstwy BN na podłożu Al2O3. Nasza metoda pomiarowa pozwala na pomiar warstw o grubości od ~2 nm do ok. 20 nm.
Supersieci GaAs/AlAs i AlGaAs/AlAs przeznaczone do wykorzystania jako zwierciadła Bragga otrzymano zarówno metodą epitaksji z wiązek molekularnych MBE, jak i epitaksji z fazy gazowej z użyciem związków metaloorganicznych LP MOVPE. Supersieci te różniły się między sobą grubościami warstw, liczbą powtórzeń warstwy podwójnej (Al)GaAs/AlAs, jak i warunkami technologicznymi w których je wytwarzano. Dla każdej supersieci wyznaczono jej profil składu chemicznego, wykorzystując do tego celu wysokorozdzielczą dyfraktometrię rentgenowską (HRXRD), reflektometrię rentgenowską (XRR) oraz metodę wstecznego rozpraszania jonów (RBS), wspomagane analizą numeryczną. Szczególną uwagę zwracano na profil interfejsów pomiędzy warstwami i odstępstwa od zakładanej grubości warstw. Następnie stosując spektroskopię odbiciową dla każdej supersieci zmierzono spektralną zależność współczynnika odbicia. Pokazano zależność pomiędzy profilem składu chemicznego a zdolnością odbicia tych supersieci. Zidentyfikowano odstępstwa od typowej struktury zwierciadeł Bragga, którą stanowi supersieć o prostokątnym kształcie profilu składu chemicznego i zbadano ich wpływ na zdolność odbiciową tych zwierciadeł.
EN
GaAs/AlAs, and AlGaAs/AlAs superlattices to be used as Bragg mirrors have been grown by means of Molecular Beam Epitaxy (MBE) or Low-Pressure Metal-Organic Vapor-Phase Epitaxy (LP MOVPE) techniques. These superlattices have differed in terms of: the thickness of layers, the number of periods, and growth conditions. The chemical composition profile for each superlattice has been determined by means of High Resolution X-ray Diffraction (HRXRD), X-ray Reflectometry (XRR), as well as RBS characterization techniques, and at the same time a numerical analysis has been performed. Special attention has been paid to the profile of interfaces between succeeding layers and variations in the thickness of layers. Next, Optical Reflectance (OR) has been applied to measure the reflectivity spectra for each sample. It has been shown that there is a strong correlation between the optical reflectivity of DBR mirrors and their chemical composition profile and structural quality. A departure from the designed structure of the DBR has been identified and its influence on the DBR’s reflectivity has been determined.
Multilayers of alternative metal and ceramic (oxide and nitride) present attractive tribological properties. The aim of this study is to correlate the mechanical (hardness and Young modulus) and tribological (wear resistant) parameters with the structural properties. Multilayers of Ti-TiN and AI-AI2O3, with a period thickness of 20,10,8,5 and 2.5 nm, was deposited by RF reactive sputtering on silicon substrates with a metallic target. The deposition was done at room temperature for Ti-TiN multilayers and at - 90C and 25C for AI-AI2O3. The total and period thickness for all the films, were measured by Grazing X-Ray Reflectometry. Tribological test are carried out by pin on disc tribometer and the hardness and Young modulus were measured by nano-indention with a Berkovich diamond indentor. For Ti - TiN the hardness increases with decreasing period thickness to go beyond the rule-of-mixture value for samples with period thickness L(lambda) <= 5 nm. The maximum hardness, 1.6 times higher than the rule of mixture value, is obtained for L = 2.5 nm. For AI-AI2O3 system, the hardness shows no significant change when varying the period thickness. These results are supported by Grazing X-Ray Reflectometry experiments. This technique shows that the modulation of composition of Ti-TiN multilayers exists for all the period thickness and is less pronounced in the case of AI-AI2O3 system. However a similar tribological behavior was obtain for these two systems. Wear resistance increases when the period thickness decreases and shows a maximum value for the smallest L, superior to those of monolithic layers TiN and AI2O3.
PL
Powłoki składające się z szeregu warstw metalowych i ceramicznych (tlenkowych i azotkowych) nałożonych wzajemnie na siebie charakteryzują się atrakcyjnymi właściwościami trybologicznymi. W pracy badano relację pomiędzy strukturą takich powłok i ich właściwościami mechanicznymi (twardość, moduł Younga) oraz odpornością na zużycie ścierne. Wykazano, iż struktura cienkich powłok wielowarstwowych metal-ceramika, nanoszonych sekwencyjnie na podłoże, a w szczególności zachowanie ich charakteru laminamego, ma znaczący wpływ na właściwości mechaniczne i trybologiczne. Próbki wielowarstwowe Ti-TiN i AI-AI2O3 na krzemie o powtarzającej się grubości poszczególnych warstw (okresie grubości) 20, 10, 8,5 oraz 2,5 nm przygotowywano metodą reaktywnego rozpylania częstotliwością radiową (RF reactive sputtering). Stosowano metalową elektrodę-tarczę i odpowiednio azot i tlen jako gazy reaktywne. W przypadku Ti-TiN proces zachodził w temperaturze pokojowej, podczas gdy dla warstw AI-AI2O3 temperatura podłoża wynosiła 25°C oraz -90°C. Okres grubości warstw L (lambda) i całkowita grubość powłok były mierzone metodą reflektometrii rentgenowskiej (XRR -X-Ray Refiectometrf). Twardość w skali nanometrycznej mierzono testerem Berkowicha z wgłębnikiem diamentowym, określając jednocześnie moduł Younga. Testy trybologiczne prowadzono przy użyciu miernika ścieralności typu "pin-on-disc". Dla warstw Ti-TiN twardość wzrastała ze zmniejszeniem się okresu grubości nawet poza zakres prawa mieszanin dla L <= 5 nm, osiągając maksimum dla L = 2.5 nm (1,6 raza większa od przewidywanej na podstawie prawa mieszanin). Dla AI-AI2O3 nie było znaczącej zmiany twardości w zależności od okresu grubości warstw. Wyniki badań metodą XRR wykazały, iż w przypadku układu Ti-TiN zachodziła modulacja składu dla wszystkich okresów grubości i próbki miały charakter wielowarstwowy, podczas gdy dla AI-AI2O3 nie było to tak wyraźne. Dla powłok otrzymywanych w temperaturze 25°C obserwowano degradację struktury warstwowej i wzrost ziaren kolumnowych, natomiast w przypadku próbek tych samych powłok nanoszonych na podłoże o temperaturze -90°C struktura laminarna była zachowana. Potwierdziły to bezpośrednio badania metodą wysokorozdzielczej mikroskopii skaningowej (HRSEM). Pomiary twardości wykazały znaczącą różnicę właściwości obu typów tych powłok. W przypadku obu rodzajów próbek powłok wielowarstwowych zachowujących strukturę laminarna (Ti-TiN i AI-AI2O3 otrzymywanych w -90°C) odporność na zużycie ścierne wzrastała ze zmniejszeniem okresu grubości osiągając maksimum dla najmniejszego L i przewyższając co do wartości odporność na zużycie monolitycznych warstw TiN i AI2O3.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.