Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Wpływ wygrzewania na właściwości powierzchni cienkich warstw na bazie wybranych tlenków metali

Obara K., Kaczmarek D., Pierściński R., Poniedziałek A., Domanowski P.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2017

|

Vol. 58, nr 7

8--13

PL

W pracy zbadano wpływ wygrzewania w wysokiej temperaturze na właściwości powierzchni cienkich warstw na bazie tlenków tytanu i wolframu. Cienkie warstwy dwutlenku tytanu (TiO2) i trójtlenku wolframu (WO3) naniesiono na podłoża z krzemionki amorficznej (SiO2) metodą parowania wiązką elektronową. Następnie próbki poddano wygrzewaniu w powietrzu atmosferycznym, do temperatury 800°C. Właściwości strukturalne powłok cienkowarstwowych TiO2 i WO3 określono przy użyciu metody dyfrakcji rentgenowskiej. Natomiast właściwości powierzchni cienkich warstw TiO2 i WO3 po naniesieniu oraz po wygrzewaniu, zbadano z wykorzystaniem mikroskopu optycznego, profilometru optycznego oraz stanowiska do pomiaru zwilżalności powierzchni. Pod wpływem wygrzewania poprocesowego nastąpiło przejście TiO2 i WO3 z fazy amorficznej w strukturę polikrystaliczną. W wypadku TiO2 otrzymano fazę anatazu, natomiast w wypadku WO3 strukturę jednoskośną. Cienkie warstwy TiO2 były jednorodne i ciągłe zarówno po naniesieniu, jak i po wygrzewaniu. Z kolei cienkie warstwy WO3 były jednorodne i ciągłe wyłącznie po naniesieniu, ponieważ po wygrzewaniu wystąpiła rekrystalizacja struktury powłoki. Zaobserwowano także znaczne zmiany topografii powierzchni oraz profili wysokości i chropowatości wygrzewanych powłok TiO2 i WO3. Zarówno po naniesieniu, jak i po wygrzewaniu, powierzchnie cienkich warstw TiO2 i WO3 były hydrofilowe.

EN

The annealing influence on surface properties of titanium dioxide (TiO2) and tungsten trioxide (WO3) thin films obtained by electron beam evaporation method on fused silica substrates (SiO2) has been studied. TiO2 and WO3 thin films were annealed in atmospheric pressure at a temperature of 800°C. Structural properties of as-deposited and annealed samples were studied with the use of an X-ray diffractometer. Additionally, surface properties of as-deposited and annealed samples were examined by optical microscope, optical profilometer and tensiometer. TiO2 thin films were uniform and homogenous after deposition and annealing, contrary to WO3 thin films, which were uniform and homogenous only after deposition, annealing caused recrystallization of the thin film structure. Furthermore, significant changes to surface topography, altitude and roughness profiles of both annealed TiO2 and WO3 thin films have been observed. Either as-deposited and annealed TiO2 and WO3 thin films surfaces were hydrophilic.

2

Structural characterization and properties of M-WO3 (M = Au, Pt) thin films prepared by pulsed laser deposition

Kopia A., Maziarz W.

Inżynieria Materiałowa

|

2014

|

Vol. 35, nr 2

154--157

EN

The M-WO3 (M-Au, Pt) films were grown by pulsed laser deposition (PLD) using an Nd:YAG laser Continuum (λ = 266 nm) and sputtered using Sputter Coated K575X on Si [100] substrate. The TEM, AFM and XRD was used to characterize the structure and morphology of the surface. The resistances of the thin films in atmosphere CO, NO2 gases were examined as function of temperature. The XRD analysis showed that the layers consist of WO3, Au, Pt phases with crystallites size of WO3 25 nm. Highly developed layer surface was observed in AFM microscope. The TEM cross-section observation of the layers showed column-shaped structure of 20÷50 nm in the width. The resistance measurements R of the Pt-WO3 thin film, in air, CO and NO2 atmospheres showed stronger signals for both gases (NO2, CO) at higher temperature T = 300°C.

PL

Cienkie warstwy M-WO3 (M = Au, Pt) wytworzono metodą ablacji laserowej stosując laser Nd:YAG laser Continuum (λ = 266 nm), na podkładkach Si [100]. Warstwy Au i Pt nałożono przez rozpylanie za pomocą Sputter Coated K575X. Analizę struktury wytworzonych warstw przeprowadzono za pomocą TEM, AFM i XRD. Badania rezystancji warstw w atmosferze NO2 i CO przeprowadzono w funkcji temperatury. Badania rentgenowskie wykazały krystaliczną budowę warstw WO3 oraz warstw Au i Pt o średniej wielkości krystalitów WO3 25 nm. Obserwacje powierzchni warstw za pomocą AFM wykazały rozwinięcie powierzchni. Obserwacje przeprowadzone za pomocą TEM na przekrojach warstw wykazały kolumnowy charakter o szerokości kolumn 20÷50 nm. Pomiary rezystancji przeprowadzono jedynie dla warstw Pt-WO3. Warstwa była czuła na oba gazy, przy czym większe zmiany rezystancji zaobserwowano w wyższej temperaturze T = 300°C.

3

Techniki rozpylania magnetronowego DC, MF i RF do nanoszenia cienkich warstw WO3

Jankowski H., Marszałek K., Sokulski J., Zabila Y., Stapiński T.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2012

|

Vol. 53, nr 10

79-81

PL

Cienkie warstwy elektrochromowe są obecnie intensywnie badane z powodu ich potencjalnych zastosowań w systemach optycznych szczególnie z zasilaniem fotowoltaicznym. Tlenek wolframu jest najbardziej obiecującym materiałem ze względu na swoje właściwości optyczne. W niniejszej pracy przedstawiono szczegóły technologiczne nanoszenia tlenku wolframu różnymi metodami magnetronowego rozpylania jonowego; DC (stałoprądowego), MF (impulsowego) i RF (częstości radiowej). Rozpylanie było prowadzone z użyciem metalicznej tarczy wolframowej dla różnych składów mieszanki gazowej Ar/O2. Jednym z badanych parametrów rozpylania była prędkość rozpylania w funkcji mocy wyładowania. Otrzymano wartości zmieniające się od 5 nm/mim to 20 nm/min dla różnych technik nanoszenia i mocy od 200 W do 1 kW. W celu uzyskania warstw krystalicznych prowadzono wygrzewanie otrzymanych warstw po naniesieniu w temperaturach 380...450°C w powietrzu. Badania strukturalne prowadzono metody dyfraktometrii rentgenowskiej a badanie morfologii powierzchni metoda mikroskopii sił atomowych.

EN

Thin film electrochromic films are nowadays produced and investigated due lo their application in different optical systems with possible photovoltaic supply Between them metallic oxides WO3 are the most promising because of excellent optical parameters. This paper presents details of magnetron sputtering technology for WO3 thin film preparation. All types it means DC (direct current sputtering), MF (pulsed magnetron sputtering) and RF (radio frequency sputtering) were tested as preparation method Films were deposited from metallic tungsten target in Ar/O2 gas mixture to realize reactive sputtering process of WO3 film nucleation. One of the tested sputtering parameter was power supply (starting from 200 W to 1 kW). Deposition rate were calculated for all deposition method and was found from 5 nm/min to 20 nm/min. Deposition process was realized in ambient substrate temperature for all sputtering method. Cristal structure was defined by x-ray diffraction for all WO, films after post deposition annealing in 380 to 450°C air atmosphere. Surface properties of sputtered films were investigated by means of atomic force microscopy AFM.

4

Właściwości optyczne i strukturalne warstw elektrochromowych WO₃

Marszałek K., Jankowski H., Swatowska B., Perzanowski M., Stapiński T.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2011

|

Vol. 52, nr 11

39-40

PL

Warstwy elektrochromowe są przedmiotem zainteresowania ze względu na szeroką gamę potencjalnych zastosowań w elektronice, architekturze oraz szeregu dziedzin, gdzie stosuje się filtrację promieniowania elektromagnetycznego w obszarze widzialnym. W pracy opisano technologię nanoszenia warstw WO₃ metodą reaktywnego rozpylania magnetronowego przy częstotliwości 13,56 MHz. Przedstawiono ich właściwości optyczne i strukturalne, a w szczególności zmiany tych własności w wyniku wygrzewania warstw amorficznych.

EN

Electrochromic thin films are intensively investigated due to their potential application in electronics, architecture and in all fields where filtering of electromagnetic radiation in the visible range is important. A reactive magnetron deposition with a RF of 13.56 MHz is described. Optical and structural properties of WO ₃ thin films are described for as deposited and annealed films.