Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: TiN layer

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Badania trwałości narzędzi pokrytych warstwą TiN wykrawających ze stali.

Kut S., Mucha J., Stachowicz F.

Mechanik

2001

R. 74, nr 11

725-727

Przedstawiono wyniki badań zużywania się stempli tnących w procesie wykrawanie części z blachy prądnicowej EP 530-50A. Przebieg krzywych zużycia wyznaczono drogą pośrednią poprzez pomiar wysokości zadziorów na krawędzi wykrojek na różnych etapach procesu wykrawania. Przeprowadzono również obserwacje metalograficzne powierzchni zużytych stempli wykonanych ze stali narzędziowej SWtM i stali spiekanej ASP23 pokrytych warstwa TiN i bez pokrycia oraz badania porównawcze stempli wykonanych z weglika spiekanego G40.

Results of wear testing of punches used for making parts of dynamo sheet E 530-50A. Metallographic examinations were made of the surface of used punches made of tool steep SW7M and sintered steel ASP23 coated with TiN layer and without any coat. Comparative tests of punches made of sintered carbide G40.

Deposition of wear-resistant TiN layers in linear magnetron sputtering system.

Miernik K., Walkowicz J., Kułakowska-Pawlak B., Żyrnicki W.

Zagadnienia Eksploatacji Maszyn

1998

Vol. 33, nr 2

287-291

It is the aim of this paper to study the influence of the plasma parameters of the linear magnetron with lineary extended plasma zone on the TiN layer properties and its chemical composition. Plasma parameters in different zones of plasma area were investigated using optical spectroscopy. The influence of changes in pressure on I-V characteristics and the distribution of plasma emission area were found. Practical possibilities and its application for thin film deposition are discussed.

Badano wpływ parametrów plazmy liniowego magnetronu z liniowym rozszerzeniem strefy plazmy na właściwości warstwy TiN i jej skład chemiczny. Parametry plazmy w różnych strefach były badane przy użyciu spektroskopii optycznej. Wykryto wpływ zmian cisnienia na charakterystyki I-V i rozkład pola emisji plazmy. Omówiono praktyczne możliwości jego wykorzystania w nakładaniu cienkiej warstwy.