Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: Ti Grade 2

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Ekran aktywny w procesie azotowania jonowego i jego wpływ na kinetykę procesu

Jasiński J. J., Frączek T., Gawroński G., Jasiński J.

Inżynieria Materiałowa

2013

Vol. 34, nr 5

451--454

W pracy przedstawiono efekty zastosowania ekranów aktywnych w procesie azotowania jonowego oraz ich wpływ na kinetykę procesu i właściwości warstwy wierzchniej Fe armco i Ti Grade 2. Próbki do badań umieszczono w wariancie pierwszym na katodzie, natomiast w wariancie drugim zastosowano ekran aktywny (active screen -AS) wykonany ze stali niskowęglowej w procesie azotowania Fe armco i stopu Ti Grade 5 podczas azotowania Ti Grade 2. Azotowanie jonowe przeprowadzono, stosując następujące parametry odpowiednio dla materiałów: Fe armco - T = 693, 733, 773, 813 K, r= 6 h, p = 150 Pa, skład atmosfery 25% N2, 75% H2; Ti Grade 2: T= 803, 833, 863 K, r = 8 h, p = 150 Pa, skład atmosfery 25% N2, 75% HZ. W celu oceny wpływu zastosowanych wariantów procesu na właściwości warstwy wierzchniej i kinetykę procesu zastosowano następujące metody badawcze: mikroskopię świetlną i elektronową, badania mikrotwardości, rentgenowską analizę fazową oraz badania za pomocą spektroskopii emisyjnej w wyładowaniu jarzeniowym. Stwierdzono, że zastosowanie metody active screen podczas azotowania wpływa na kinetykę procesu azotowania oraz na zmianę strefowej budowy warstwy wierzchniej badanych materiałów o różnej budowie krystalicznej.

The paper presents an analysis of the active screen role in ion nitriding and its effect on process kinetics and surface layer properties of Fe armco and Ti Grade 2. In the ﬁrst variant samples were placed directly on a cathode while in the second one an active screens made of low-carbon steel in the case of Fe armco process, Ti Grade 5 in the case of Ti grade 2 nitriding were applied. Ion nitriding process was carried out for following parameters: Fe armco - T= 693, 733, 773, 813 K, r = 6 h,p = 150 Pa, atmosphere 25% NZ, 75% Hz; Ti Grade 2: T= 803, 833, 863 K, T- 8 h, p = 150 Pa, atmosphere 25% N2, 75% H2. Effect of the ion nitriding different variants on the surface layer and process kinetics was analyzed with light and electron microscopy, microhardness measurements, X-ray diffraction and glow discharge optical emission spectroscopy. It was stated that the application of an active screen method signiﬁcantly inﬂuences on nitriding process kinetics and surface layer structure of treated materials with a different crystal structure.

Modyfikacja powierzchni tytanu metodami plazmochemicznymi

Januś M., Konefał-Góral J., Małek A., Kluska S., Jonas S.

Engineering of Biomaterials

2012

Vol. 15, no. 116-117 spec. iss.

82--85

W pracy przedstawiono wyniki badań nad modyfikacją powierzchni tytanu Ti Grade 2 warstwami a-C: H i a-C:N:H oraz warstwami węgloazotku krzemu SiCxNy(H) przy zastosowaniu metody chemicznego osadzania z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym MWCVD (2kW, 2.45GHz) oraz RFCVD (400W, 13.45MHz). W roli prekursorów gazowych zastosowano NH3, N2, CH4, H2, SiH4 oraz Ar. Określono zachowanie korozyjne w roztworze sztucznej śliny otrzymanych układów warstwa-podłoże metaliczne w porównaniu z niemodyfikowanymi metalami.

The paper presents results of research on titanium Ti Grade 2 surface modification with a-C:H, a-C:N:H and silicon carbonitride SiCxNy(H) layers synthesis by plasma assisted chemical vapour deposition method MWCVD (2kW, 2.45GHz) and RFCVD (400 W, 13.45MHz). As a gas precursors NH3, N2, CH4, H2, SiH4 and Ar were used. Corrosion behaviour of obtained systems in the solution of artificial saliva determined in comparison with the unmodified metal.