For the last several years, considerable progress in the use of the plasma surface engineering for the purposes of the surface layer’s modification has been observed. The magnetron sputtering method is one of the most important ones. This method consists in inducing the vapours of a solid body (target) by its surface’s bombardment with ions, most often the argon ones. The article presents a proposal of a control algorithm for such process. The algorithm is based on the well-known voltage control method, where a constant power of the magnetron power supply voltage on the magnetron is observed. The authors propose to modify this method based on the observation of power at a constant voltage on the magnetron. The control algorithm constructed in this way works as well as traditional means and ensures process stability.
PL
W ostatnich latach obserwuje się znaczący postęp w wykorzystaniu metod plazmowej inżynierii powierzchni do modyfikacji warstwy wierzchniej. Jedną z najważniejszych metod jest metoda rozpylania magnetronowego. Metoda ta polega na wytwarzaniu oparów ciała stałego (targetu) poprzez bombardowanie jego powierzchni jonami, najczęściej argonu. W artykule przedstawiono propozycję algorytmu sterującego takim procesem. Algorytm oparty jest na dobrze znanej metodzie napięciowej sterowania, gdzie przy stałej mocy zasilacza magnetronu obserwuje się zachowanie napięcia na magnetronie. Autorzy proponują zmodyfikowanie tej metody polegające na obserwacji mocy przy stałym napięciu na magnetronie. Tak skonstruowany algorytm sterowania działa równie dobrze jak tradycyjny i zapewnia stabilność procesu.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.