W artykule przedstawiono porównanie parametrów tranzystorów MOSFET wykonanych w klasycznej technologii krzemowej (Si) oraz z węglika krzemu (SiC). W szczególności dokonano pomiarów charakterystyk rezystancji dren-źródło (RDS(ON)) w stanie ustalonym od napięcia bramka-źródło (UGS). Wskazano na istotne różnice w charakterystykach tranzystorów SiC w stosunku do Si. Przedstawiono zastosowaną metodę pomiarową oraz przedyskutowano wyniki.
EN
The paper presents comparison of MOSFET parameters manufactured in standard silicon technology (Si) and silicon carbide (SiC) technology. Drain-source static resistance characteristics (RDS(ON)) as a function of gate-source voltage have been measured. Important differences in both transistor types characteristics were highlighted. Measurement method has been presented.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.