Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

Wydrążone nanorurki kwarcowe zawierające nanopiłki palladu

Czerwosz E., Kowalska E., Radomska J., Wronka H., Kowalski W., Witkowski B.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2013

|

Vol. 54, nr 4

13-15

PL

Wydrążone nanorurki kwarcowe SiO2 z powodu optycznych właściwości mogą znaleźć zastosowanie, jako jednowymiarowe obiekty w urządzeniach optoelektronicznych, jako fotokatalizatory, nanosensory optyczne, chemiczne lub biologiczne oraz w innych urządzeniach nanoelektronicznych np. jako nośniki informacji. W pracy przedstawiamy sposób wytwarzania wydrążonych nanorurek kwarcowych, zawierających nanopiłki Pd. Metoda syntezy nanorurek kwarcowych polega na wygrzaniu w powietrzu w temperaturze 900°C nanodrutów krzemku palladu Pd2Si otrzymanych w procesie dwustopniowym PVD/CVD. Otrzymane nanorurki SiO2 są wydrążone, w wydrążeniu znajdują się nanozirna Pd o sferycznym kształcie nazwane przez nas nanopiłkami. Nanorurki mają średnicę zewnętrzną kilkudziesięciu nanometrów a długość od 1 do kilkudziesięciu μm.

EN

Hollow silica nanotubes SiO2 due to the optical properties can be used as one-dimensional objectives in optoelectronic devices, as phootocatalysts, optical, chemical or biological sensors and in the other electronics devices as i.e. a data carrier. We present the method of obtaining hollow silica nanotubes containing palladium nanoballs. The method of preparations of these nanotubes consists on the annealing at the temperature of 900°C in the air atmosphere of Pd2Si nanorods. Such nanorods were firstly prepared by two steps PVD/CVD method. These hollow nanotubes contain inside Pd nanoballs. The eternal diameter of nanotubes is about few tens nm and their length changes from 1 to few tens of μm.

2

Influence of substrate type on structure of C-Pd thin films

Kowalska E., Czerwosz E., Kozłowski M., Firek P., Rymarczyk J., Radomska J.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2011

|

Vol. 52, nr 7

61-64

EN

C-Pd films were obtained by a two steps' PVD/CVD method (Physical Vapor Deposition/Chemical Vapor Deposition). Investigations of Pd nanograins and carbon matrix structure were performed. The films were formed on many types of substrates with various specific surface area (SSA). Pure Si wafers and Si wafers covered with DLC (Diamond Like Carbon) layer were used as substrates with a smooth surface, whereas Al₂ O₃ plates and AAO (Anodic Aluminium Oxide) membranes with pores of about 200 nm, were applied as substrates with a rough surface. The results of SEM (Scanning Electron Microscopy) and AFM (Atomic Force Microscopy) investigations of C-Pd films obtained on various substrates are presented. It is shown that SSA of substrates influences on topography, morphology and nanostructure of C-Pd films deposited on them.

PL

Warstwy C-Pd zostały wytworzone metodą dwustopniową PVD/CVD (Physical Vapor Deposition/Chemical Vapor Deposition). Przeprowadzono badania nanoziaren Pd i struktury matrycy węglowej. Warstwy osadzano na wielu rodzajach podłoży o zróżnicowanej powierzchni właściwej. Jako podłoża o gładkiej powierzchni zastosowano płytki Si i Si pokryte warstwą DLC (Diamond Like Carbon), zaś płytki Al₂ O₃ i membrany AAO (Anodic Aluminium Oxide) użyto jako podłoża o powierzchni chropowatej. W pracy zaprezentowano wyniki badań SEM (Scanning Electron Microscopy) i AFM (Atomic Force Microscopy) warstw C-Pd otrzymanych na różnych podłożach. Pokazano, że powierzchnia właściwa podłoży wpływa na topografię, morfologię i nanostrukturę warstw C-Pd osadzanych na nich.

3

Field emission from spindt-like Ni-C films obtained on Si

Czerwosz E., Kowalska E., Radomska J., Wronka H.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2011

|

Vol. 52, nr 8

80-81

EN

Field emission from films with short, rarely displaced carbon nanotubes on the nanocomposite C-Ni layer (Spindt-like Ni-C films) surface was studied. Films were deposited on Si substrate by two steps method consisted of Physical Vapor Deposition (PVD) process as the first step and Chemical Vapor Deposition (CVD) technique with xylene as the second step. These films were characterized by Scanning Electron Microscope (SEM). These films showed stable field emission starting at electric field lower than 15 V/µm. The efficiency of emission depends on the distribution and length of nanotubes.

PL

Badano emisję polową z nanokompozytowych warstw Ni-C zawierających rozmieszczone na powierzchni nanorurki węglowe (warstwy Ni-C typu Spindta). Warstwy otrzymano dwuetapową metodą wykorzystując proces fizycznego odparowania w próżni, (PVD) jako etap pierwszy i chemicznego osadzania z par ksylenu, (CVD) jako etap drugi. Otrzymane warstwy charakteryzowano metodą elektronowej mikroskopii skaningowej (SEM). Warstwy wykazywały stabilną emisję rozpoczynającą się przy polu elektrycznym poniżej 15V/µm. Wydajność emisji zależy od gęstości rozłożenia nanorurek na powierzchni oraz od ich długości.