In this paper the results of the investigations of Al-Cu-Fe thin films obtained by PLD technique are presented. The films were deposited using different parameters of process (e.g. substrate temperature, laser fluence). The morphology and chemical composition of obtained surface layers was examined. In the frames of the investigations the thickness measurements, the nanohardness and adhesion tests of the Al-Cu-Fe layers was performed.
PL
W publikacji przedstawiono wyniki badań cienkich warstw Al-Cu-Fe wytwarzanych techniką PLD. Cienkie warstwy były osadzane z zastosowaniem rożnych parametrów procesu (np. temperatura podłoża, gęstość energii wiązki lasera). Badano morfologię oraz skład chemiczny otrzymanych cienkich warstw. W ramach badań wykonano pomiary grubości, nanotwardości oraz testy adhezji do podłoża cienkich warstw Al-Cu-Fe.
Thin layers SnO2 were produced by the PLD technique by means of an Nd-YAG laser with a Q-switch with & = 266 nm. The layers were deposited on Si substrate with orientation (100). Due to the presence of a thin, several nanometres thing layer of SiO2 on the surface of the substrate, the orientation of the substrate was not mapped. Examinations of the structure were carried out by means of transmission electron microscopy, scanning electron microscopy and X-ray diffraction phase analysis. It was shown that the method of target preparation has impact on the surface quality of the obtained layer. The impact of PLD process parameters on structure changes were identified, which allowed the optimum conditions of producing SnO2 layers with the best developed surface to be determined.
PL
Cienkie warstwy SnO2 wytworzono techniką PLD, wykorzystując laser Nd-YAG z Q-switchem o & = 266 nm. Warstwy nakładane były na podkładki Si o orientacji (100). Z uwagi na obecność cienkiej, kilku manometrycznej warstwy SiO2 na powierzchni podkładek nie uzyskano odwzorowania orientacji podłoża. Badania struktury przeprowadzono za pomocą transmisyjnej mikroskopii elektronowej, mikroskopii elektronowej skaningowej oraz dyfrakcyjnej rentgenowskiej analizy fazowej. Wykazano, iż na jakość otrzymanej powierzchni warstwy wpływa sposób przygotowania tarczy. Określono wpływ parametrów procesu PLD na zmiany struktury, co pozwoliło określić optymalne warunki wytwarzania warstw SnO2 o maksymalnie rozwiniętej powierzchni.
3
Dostęp do pełnego tekstu na zewnętrznej witrynie WWW
Application of ablation and deposition of the plume is a method to produce nanomaterials. At present, it is intensivelly studied due to possibility of deposition of various materials. Flexability of the method and transfer of stoichiometry as well as possibility to influence the plume by atmosphere in the reactive chamber makes this method very useful. Limitation is connected with the equipment comprising a laser working in the range of UV wavelenghts in the regime of nano-seconds pulses. Excimer lasers or Nd:Y AG lasers with Q-switch are used in the pulse laser deposition techniques (PLD). Nanostructures produced using Nd:YAG laser of metallic titanium, titanium nitride, titanium oxide were under examination. XRD and electron diffraction were applied to identify the formed phases in the deposited layers. Microstructure on the surface and on the crosss sections was examined by means of SEM and TEM. Residual stresses and texture in the layers were measured using XRD methods.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.