The construction of the MBE system for growth the semiconductor thin film in the high and ultra high vacuum conditions has been presented. This system consists of mainly technological and loading chambers with technical equipments for operation the epitaxy process. To the pumping of the chambers the turbomolecular with diaphram pumps and the ion pumps are used.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.