PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 5

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  KOH
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Peculiarities of LaNi5-powder/PVDF bonded composite – alkaline electrolyte interaction at repeating charge/discharge cycles
Dymek M., Mościcki A., Bala H.
Ochrona przed Korozją
|
2013
|
nr 11
502--505
EN
A method of rinsing of KOH solution soaked by composite, hydrogen storage electrode has been applied to evaluate its porosity. The LaNi5 powdered (20÷50 μm) material was mixed with 5% of conducting C-graphite powder. The powders have been bonded with 10% PVDF and pressed isostatically (50 bar) to obtain 0.4 mm thick pellets. After 10 electrochemical charge/discharge cycles (–0.5C/+0.5C) in 6M KOH solution, the distribution of potassium across the pellets have been defined using SEM/EDS method. The EDS linear analysis on potassium inside of the soaked and dried pellet confirmed satisfactory uniformity of its distribution and, thus, efficient soaking of the composite by alkaline electrolyte. The electrodes conditioned ca 36 hours in 6M KOH have been rinsed in distilled water and time dependent pH changes have been used as a simple method to determine the fraction of electrode volume penetrated by the alkaline solution. The porosity of the tested electrode after tenth cycle has been evaluated to be 7.3%.
PL
Dla oceny porowatości kompozytowej elektrody wodorkowej zastosowano metodę wymywania roztworu KOH z elektrody nasączonej za pomocą 6 M KOH w wyniku cyklowania. Frakcję proszku LaNi5 (20÷50 μm) mieszano z 5% proszku przewodzącego na bazie sadzy grafitowej, cząstki wiązano za pomocą 10% PVDF, a następnie prasowano izostatycznie pod naciskiem 50 bar, celem uzyskania pastylek o grubości 0,4 mm. Po 10 elektrochemicznych cyklach ładowania/rozładowania (–0.5C/+0.5C) w 6M roztworze KOH, analizowano rozkład potasu na przekroju poprzecznym pastylek za pomocą metody SEM/EDS. Liniowa analiza potasu wewnątrz nasączonej KOH i wysuszonej pastylki potwierdziła zadowalającą jednorodność rozkładu potasu w jej wnętrzu, potwierdzając efektywne nasączanie kompozytu przez roztwór alkaliczny. Elektrody cyklowane w ciągu 36 godzin w 6M KOH poddawano następnie odmywaniu w czystej wodzie destylowanej. Mierzone zmiany pH wody, wskutek przechodzenia do niej KOH, posłużyły do oceny ułamka objętości elektrody penetrowalnej przez roztwór alkaliczny. Obliczona wg tej metodyki porowatość elektrody wodorkowej po 10. cyklu wynosiła 7,3%.
2
Content available Badanie zastosowania CaO przy transestryfikacji oleju rzepakowego do estrów wyższych kwasów tłuszczowych
Grygiel D., Komsta H.
TTS Technika Transportu Szynowego
|
2012
|
R. 19, nr 9
1309--1314, CD
PL
W artykule przedstawiono wyniki badań zastosowania tlenku wapnia CaO jako katalizatora przy produkcji biodiesla. Z uwagi na to że stosowany najczęściej, w tym procesie, katalizator KOH jest relatywnie drogi, sprawdzono możliwość zastosowania kompozycji katalizatorów CaO+KOH w procesie transestryfikacji oleju rzepakowego. Wyniki badań wykazały wpływ CaO na jakość otrzymanego produktu.
EN
The paper presents the results of the research on the use of calcium oxide CaO as a heterogeneous catalyst in biodiesel production. Since the currently used catalyst KOH is relatively more expensive, the use of CaO+ KOH catalyst combination in the process of rapeseed oil transesterification process has been investigated. The results have confirmed the positive influence of the CaO+KOH combination on the quality of the product.
3
Etching of Si(100) and (110) substrates in KOH solutions saturated and son-saturated with isopropyl alcohol
Rola K., Zubel I., Kramkowska M.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2011
|
Vol. 52, nr 3
50-53
EN
The process of silicon anisotropic etching in KOH solutions saturated with isopropyl alcohol (IPA) is currently the most frequently used process in silicon micromachining. In the work, the results of etching in KOH solutions with the IPA content below saturation lewel have been presented. On the basis of literature considerations of the phenomena occurring in water-alcohol solutions and the results of performed experiments, an analysis of the mechanism of Si substrates etching in KOH+IPA solutions with different compositions has been carried out.
PL
Anizotropowe trawienia krzemu w roztworach KOH nasyconych alkoholem izopropylowym jest procesem obecnie najczęściej wykorzystywanym do wytwarzania mikrosystemów krzemowych. W pracy przedstawiono rezultaty trawienia w roztworach KOH zawierających IPA poniżej poziomu nasycenia. Na podstawie opisywanych w literaturze zjawisk obserwowanych w roztworze woda - alkohol i rezultatów przeprowadzonych eksperymentów, przedstawiono rozważania dotyczące mechanizmu trawienia podłoży krzemowych w roztworach KOH - HPA o różnych składach.
4
Content available remote Modelowanie 3-wymiarowe anizotropowego trawienia krzemu
Duk M., Kociubiński A., Bieniek T., Janus P.
Przegląd Elektrotechniczny
|
2010
|
R. 86, nr 7
281-283
PL
W artykule zostały przedstawione metody optymalizacji parametrów w programie Etch3D oraz wyniki symulacji trawienia krzemu w KOH w porównaniu ze strukturami próbnymi. Celem niniejszych badań była kalibracja parametrów symulatora do warunków procesów przeprowadzanych w ITE. Do analizy wpływu parametrów funkcji RPF (ang. Remove Probability Function) na parametry wyjściowe, zastosowano metodę Taguchiego. Pozwoliło to na optymalizację wyników symulacji do rzeczywistych procesów trawienia przeprowadzanych w ITE.
EN
The methods of parameters optimization in the program Etch3D and results of simulations of silicon etching in KOH in comparison with experiments are presented. The aim of this study was to calibrate the tool to a set of process conditions that is offered by ITE. The Taguchi approach [4] was used to analyze the influence of every RPF (Remove Probability Function) parameter on one or more output parameters. This allowed tuning the results of simulation to results of real etching performed at ITE.
5
Content available Modeling, Simulation and Calibration of Silicon Wet Etching
Kociubiński A., Duk M., Bieniek T., Janus P.
Journal of Telecommunications and Information Technology
|
2009
|
nr 4
65-70
EN
The methods of parameter optimization in Etch3DTM simulator and the results of the comparison of simulations of silicon etching in KOH with experiments are presented. The aim of this study was to calibrate the tool to a set of process conditions that is offered by Institute of Electron Technology (ITE). The Taguchi approach was used to analyze the influence of every remove probability function (RPF) parameter on one or more output parameters. This allowed tuning the results of simulation to the results of real etching performed in ITE.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.