Wyniki wyszukiwania - BazTech

Ograniczanie wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie

Wyniki wyszukiwania

Wyszukiwano:
w słowach kluczowych: HFCVD

Sortuj według:

Ogranicz wyniki do:

Możliwości zastosowania warstw diamentowych jako powłok ochronnych

Szulc A., Mosińska L.

Ochrona przed Korozją

2011

nr 4-5

165-167

Pokrycia diamentowe otrzymywane metodami CVD, w związku z ich unikatowymi właściwościami, stały się poszukiwanym materiałem do wytwarzania odpornych na zużycie powłok ochronnych, warstw antykorozyjnych oraz zastosowań trybologicznych. W niniejszej pracy wskazano obszary zastosowania cienkich warstw diamentowych W artykule przedyskutowano problem zależności odporności antykorozyjnej i mechanicznej pokryć diamentowych, która zdeterminowana jest adhezją między warstwą a podłożem. Dobra adhezja zależy od rodzaju materiału podłoża, sposobu jego przygotowania jak również parametrów procesu CVD.

Diamond coatings obtained by CVD methods, due to their unique combination of properties, become very important for wear, corrosion protection and tribological applications. In this work we indicated the areas of thin diamond layers applications and have discussed the problem of their anticorrosion and mechanical resistance properties. The protective properties of the diamond coatings are determined mainly by adhesion between diamond layer and the substrate. Good adhesion is depended on substrate type, pretreatment of the substrate surface, CVD parameters process of diamond growth.

Emission properties of diamond and diamond-like carbon films deposited by various methods

Jarzyńska D., Staryga E.

Scientific Bulletin. Physics / Lodz University of Technology

2005

Vol. 25

15-34

The electron field-emission properties of diamond-like carbon (DLC) thin films and diamond films (DF) were examined by measuring the field-emission current as a function of applied macroscopic electric field. The DLC and DF films were deposited on flat silicon substrates by means of RF PCVD and HF CVD techniques, respectively. The field emission research was carried out using a diode configuration. The results of field emission were analyzed using the Fowler - Nordheim model. The conditioning process of DF and DLC films as the effect improving the electron emission characteristics of these films was studied. The DF films showed better characteristics, that is, lower turn-on field, than DLC films. The characteristics of the investigated carbon-based films depended not only on the structure and sp2 inclusions but also on the film thickness and applied bias voltage.

Właściwości emisyjne warstw diamentowych (DF) i diamentopodobnych (DLC) określono w wyniku pomiaru prądu emisji w funkcji przyłożonego makroskopowego pola elektrycznego. Warstwy węglowe osadzone zostały na gładkim podłożu krzemowym przy użyciu metody HF CVD i RF CVD, odpowiednio dla warstw DF i DLC. Charakterystyki emisyjne zmierzono przy użyciu techniki wykorzystującej sondę anodową, a uzyskane na ich podstawie wyniki analizowano w oparciu o model Fowlera-Nordheima. W pracy rozważa się wpływ różnorodnych czynników na właściwości emisyjne badanych układów warstwa węglowa/półprzewodnik. Przeprowadzono proces kondycjonowania warstw węglowych prowadzący do polepszenia właściwości emisyjnych badanych warstw. Dla warstw DLC wytwarzanych przy większych wartościach potencjału autopolaryzacji, uzyskano większe wartości prądu emisji. Morfologię warstw DF i DLC zbadano przy użyciu skaningowej mikroskopii elektronowej (SEM). Zastosowanie spektroskopii ramanowskiej umożliwiło określenie struktury warstw diamentowych i diamentopodobnych.