The paper presents a simple and convenient source of neutralized ion beam as well as its use to surface nanomodification. Surface polishing, surface roughening, generation of surface and subsurface structure elements (waves, ripples) are discussed. All those events are especially crucial in such processes like ion-beam thinning of samples for TEM, sputter depth profiling, generation of patterns in sub-100 nm regime for micro/nanoelectronics.
PL
Artykuł prezentuje proste i użyteczne źródło zneutralizowanej wiązki jonów i jego zastosowanie do nanomodyfikacji powierzchni. Omówiono zagadnienia polerowania i chropowacenia powierzchni oraz generacji powierzchniowych i przypowierzchniowych elementów struktury (fale, zmarszczki). Znaczenie opisywanych zjawisk (procesów) jest szczególnie ważne w takich procesach jak jonowiązkowa preparatyka dla TEM, profilowanie głębokościowe z wykorzystaniem rozpylania jonowego, wytwarzanie submikrometrowych struktur dla mikro- i nanoelektroniki.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.