Preferencje help
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 2

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
Wyszukiwano:
w słowach kluczowych:  Al2O3-SiO2
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available remote Antireflective bilayer coatings based on Al2O3 film for UV region
EN
Bilayer antireflective coatings consisting of aluminium oxide Al2O3/MgF2 and Al2O3/SiO2 are presented in this paper. Oxide films were deposited by means of e-gun evaporation in vacuum of 5 × 10-3 Pa in the presence of oxygen, and magnesium fluoride was prepared by thermal evaporation on heated optical lenses made from quartz glass (Corning HPFS). Substrate temperature was maintained at 250 C during the deposition. Thickness and deposition rate were controlled with a thickness measuring system Inficon XTC/2. The experimental results of the optical measurements carried out during and after the deposition process have been presented. Physical thickness measurements were made during the deposition process and resulted in 44 nm/52 nm for Al2O3/MgF2 and 44 nm/50 nm for Al2O3/SiO2 system. Optimization was carried out for ultraviolet region with minimum of reflectance at 300 nm. The influence of post deposition annealing on the crystal structure was determined by X-ray measurements. In the range from ultraviolet to the beginning of visible region, the reflectance of both systems decreased and reached minimum at 290 nm. The value of reflectance at this point, for the coating Al2O3/MgF2 was equal to R290nm = 0.6 % and for Al2O3/SiO2 R290nm = 1.1 %. Despite the difference between these values both are sufficient for applications in the UV optical systems for medicine and UV laser technology.
2
Content available remote Adsorption of heavy metal ions at the Al2O3-SiO2/NaClO4 electrolyte interface
EN
The study on adsorption of heavy metals (Cd(II), Ni(II) and Pb(II)) at the Al2O3-SiO2/electrolyte solution interface is presented in this paper. The influence of ionic strength, pH, background electrolyte (NaClO4) concentration and composition of metal oxide on adsorption of Cd(II), Ni(II) and Pb(II) from solution of initial concentration ranged from 1×10-6 to 1×10-3 mol/dm3 in the mentioned system was investigated. The adsorptions edge parameters (pH50% and pH10-90%) for different concentrations of electrolyte were presented. The adsorption measurements were complemented by the potentiometric titration of Al2O3-SiO2 suspensions and electrophoretic measurements. Charge reversal point (CR2) can be observed for solution concentration of 10-3 mol/dm3 as a result of Cd(II), Ni(II) and Pb(II) ions adsorption.
PL
Kadm, ołów i nikiel są toksycznymi metalami ciężkim, który stanowią wciąż poważne zagrożenie dla organizmów żywych. W środowisku naturalnym oraz w wielu procesach technologicznych mamy do czynienia ze skomplikowanymi układami gdzie występują obok siebie tlenki typu Al2O3-SiO2 oraz jony metali ciężkich. Przeprowadzono badania adsorpcji jonów niklu, kadmu i ołowiu dla różnych stężeń początkowych, w funkcji pH dla układów AS1, AS3, AS8/roztwór NaCl. Kształt krzywych adsorpcji w funkcji pH ma postać krawędzi adsorpcji. Wzrost stężenia początkowego jonów metali ciężkich, powoduje przesunięcie krawędzi w kierunku zasadowym skali pH. Wyznaczono charakterystyczne parametry krawędzi adsorpcji tj. pH50% i apH10-90%, w oparciu o zależność adsorpcji od pH stosując model TLM, obliczono równieS stałe reakcji adsorpcji jonów Ni(II), Cd(II), Pb(II) metodą optymalizacji numerycznej. Zależność gęstości ładunku powierzchniowego od pH w obecności jonów metali ciężkich, jest w dobrej korelacji z zależnością adsorpcji jonów Ni(II), Cd(II), Pb(II) od pH. Adsorpcja badanych jonów na powierzchni AS1, AS3, AS8 prowadzi do wzrostu stężenia grup ujemnie naładowanych.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.