Wyniki wyszukiwania - BazTech

1

The method and equipment for precision positioning of the scanner in an atomic force microscope

Zbrowski A.

Problemy Eksploatacji

|

2013

|

nr 3

123--133

EN

The article presents a method and equipment designed for an initial approach of a sample fixed at a table to a cantilever needle in the atomic force microscope. The presented solution is used in a microscope in which the scanning needle is positioned in the scanning head above the sample. Precise movement of the sample relative to the scanning needle is achieved by a piezoelectric tube. The solution described is designed for the initial approach of the piezoscanner tube with the sample attached under the cantilever needle. The final approach of the sample-needle system is done by manipulating the length of the piezotube. The solution of the initial approach uses an eccentric pushing mechanism with a harmonic drive and a stepper motor. The advantage of this solution is the quick motion of the effector while maintaining the high resolution and precision of positioning and elimination of backlash.

PL

W artykule przedstawiono opracowaną metodę i urządzanie do wstępnego zbliżania próbki zamocowanej na stoliku do igły cantilevera w mikroskopie sił atomowych. Prezentowane rozwiązanie jest stosowane w mikroskopie, w którym igła skanująca znajduje się w głowicy nad badaną próbką. Dokładne przemieszczanie próbki względem igły, w czasie procesu skanowania zapewnia rurka piezoelektryczna. Przedstawione rozwiązanie jest przeznaczone do wstępnego zbliżania rurki piezoskanera z zamocowaną próbką pod igłę cantilevera. Ostateczne zbliżenie układu próbka–igła jest wykonywane poprzez zmianę długości piezorurki. Opracowane rozwiązanie układu zbliżania wstępnego wykorzystuje mimośrodowy mechanizm popychaczowy z przekładnią falową i silnikiem krokowym. Zaletą rozwiązania jest bardzo szybki ruch efektora przy zachowaniu wysokiej rozdzielczości i precyzji pozycjonowania oraz wyeliminowanie luzu nawrotnego.

2

Mikroskopia Sił Atomowych (AFM)

Kruk T.

LAB Laboratoria, Aparatura, Badania

|

2013

|

R. 18, nr 1

40-50

3

Predicting properties of PVD and CVD coatings based on fractal quantities describing their surface

Kwaśny W.

Journal of Achievements in Materials and Manufacturing Engineering

|

2009

|

Vol. 37, nr 2

125-192

EN

Purpose: The goal of the presented study was to develop a methodology giving a possibility to predict functional properties of coatings obtained in the PVD and CVD processes on tool materials, based on fractal- and multi-fractal quantities describing their surface. Design/methodology/approach: Effect of process type and deposition conditions on structure and shape of surface, as well as mechanical and service properties of the obtained coatings were determined. Methodology and detailed description of coatings topography obtained in PVD and CVD process on tool materials, including use of the fractal- and multi-fractal geometry based on images obtained on the atomic forces microscope were worked out. Relationships between fractal- and multi-fractal quantities and their mechanical and service properties were determined. Findings: The investigation results confirmed the feasibility to predict hardness and erosion resistance of coatings obtained in the magnetron PVD process, as well as the service properties defined in the cutting ability test for coatings obtained in the arc PVD process and in the high-temperature CVD process, based on the surface fractal dimension Ds value for their surface topography. Practical implications: Determining significant quantitative correlations between fractal quantities defining coatings’ surfaces, as well as their service and/or mechanical properties provides the opportunity to predict their end-user properties. Originality/value: Fractal analysis was applied for characterization of PVD and CVD coatings surfaces.

4

Badania chropowatości powierzchni warstw optycznych nanoszonych w procesie IBAD : wstępne porównanie symulacji komputerowych z eksperymentem

Marendziak A., Oleszkiewicz E., Oleszkiewicz W., Romiszowski P., Żukowska K.

Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania

|

2003

|

Vol. 44, nr 11

21-23

PL

W pracy przedstawiono kontynuację badań symulacyjnych (metodą Monte Carlo) modyfikacji topografii powierzchni i wzrostu warstw nanoszonych w procesie IBAD. Badano chropowatość powierzchni warstw o symulowanym wzroście oraz warstw optycznych (CrN) nanoszonych w warunkach odpowiadających warunkom symulacji. Z pomiarów elipsometrycznych, mierząc spektralną zależność współczynnika załamania n oraz wskaźnika absorpcji k, określono wpływ energii bombardujących jonów na właściwości optyczne osadzanych warstw. Zmiana parametrów n i k wynika m. in. ze zmian topografii powierzchni, co badano wykorzystując mikroskop sil atomowych (AFM). Porównując wartości współczynników ft, zmierzonych za pomocą mikroskopu AFM z wartościami uzyskanymi z symulacji komputerowych stwierdzono konieczność opracowania odpowiedniej metodyki uśredniania obliczeń.

EN

In this work we present the continuation of our former simulation studies on optical films deposited in IBAD process. The comparison between the simulation results and the experimental results obtained for CrN film obtained for different energy of ion beam is presented. The results show that along with the increase of the ion beam energy the roughness of the films under consideration decreases for both simulation and experimental cases determined by AFM microscope measurements.