W artykule przedstawiono rozwiązanie techniczne systemu wymiany i pozycjonowania podłoży w urządzeniach do badania i opracowywania technologii PVD. Składa się on z zespołu manipulatorów oraz ze śluzy do wprowadzania próbek do komory próżniowej, co pozwala na selektywną identyfikację efektów wybranych etapów procesów.
EN
The article presents technical solutions of positioning substrates in devices for examining and developing PVD technologies. It is composed of a load lock for placing samples in a vacuum chamber and a system of substrate transporters which allow for the identification of the effects of selected process stages.
A construction of an ultra-high vacuum lock and transfer system designed for MBE vacuum chambers, is presented. The two stage vacuum lock consists of shutter valve, introduction chamber, and transfer system based on rotary feed-throughts and transferring rod enabling 1.5 m range transfer. The whole system is bakeable up to 470 K, and the samples can be heated up to 1000 K inside the introduction chamber.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.