The aim of this paper is to determine the silicon lattice's contraction index after boron and phosphorus doping. This stress factor was determined theoretically and experimentally from the doped wafers curvature. Both theoretical and experimental results are in agreement with the literature.
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.