PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 21

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
1
Content available remote Gas composition influence on the properties of boron-doped diamond films deposited on the fused silica
Dec B., Ficek M., Rycewicz M., Macewicz Ł., Gnyba M., Sawczak M., Sobaszek M., Bogdanowicz R.
Materials Science Poland
|
2018
|
Vol. 36, No. 2
288--296
EN
The main subject of this study are molecular structures and optical properties of boron-doped diamond films with [B]/[C]ppm ratio between 1000 and 10 000, fabricated in two molar ratios of CH4–H2 mixture (1 % and 4 %). Boron-doped diamond (BDD) film on the fused silica was presented as a conductive coating for optical and electronic purposes. The scanning electron microscopy images showed homogenous and polycrystalline surface morphology. The Raman spectroscopy confirmed the growth of sp3 diamond phase and sp2 carbon phase, both regular and amorphous, on the grain boundaries, as well as the efficiency of boron doping. The sp3/sp2 ratio was calculated using the Raman spectra deconvolution method. A high refractive index (in a range of 2.0 to 2.4 at λ = 550 nm) was achieved for BDD films deposited at 700 °C. The values of extinction coefficient were below 1.4 at λ = 550 nm, indicating low absorption of the film.
2
Content available Characterization of optical and electrical properties of transparent conductive boron-doped diamond thin films grown on fused silica
Bogdanowicz R.
Metrology and Measurement Systems
|
2014
|
Vol. 21, nr 4
685--698
EN
Abstract A conductive boron-doped diamond (BDD) grown on a fused silica/quartz has been investigated. Diamond thin films were deposited by the microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (MW PECVD). The main parameters of the BDD synthesis, i.e. the methane admixture and the substrate temperature were investigated in detail. Preliminary studies of optical properties were performed to qualify an optimal CVD synthesis and film parameters for optical sensing applications. The SEM micro-images showed the homogenous, continuous and polycrystalline surface morphology; the mean grain size was within the range of 100-250 nm. The fabricated conductive boron-doped diamond thin films displayed the resistivity below 500 mOhm cm-1 and the transmittance over 50% in the VIS-NIR wavelength range. The studies of optical constants were performed using the spectroscopic ellipsometry for the wavelength range between 260 and 820 nm. A detailed error analysis of the ellipsometric system and optical modelling estimation has been provided. The refractive index values at the 550 nm wavelength were high and varied between 2.24 and 2.35 depending on the percentage content of methane and the temperature of deposition.
3
Content available Laser reflectance interferometry system with a 405 nm laser diode for in situ measurements of CVD diamond thickness
Kraszewski M., Bogdanowicz R.
Metrology and Measurement Systems
|
2013
|
Vol. 20, nr 4
543--554
EN
In situ monitoring of the thickness of thin diamond films during technological processes is important because it allows better control of deposition time and deeper understanding of deposition kinetics. One of the widely used techniques is laser reflectance interferometry (LRI) which enables non-contact measurement during CVD deposition. The authors have built a novel LRI system with a 405 nm laser diode which achieves better resolution compared to the systems based on He-Ne lasers, as reported so far. The system was used for in situ monitoring of thin, microcrystalline diamond films deposited on silicon substrate in PA-CVD processes. The thickness of each film was measured by stylus profilometry and spectral reflectance analysis as a reference. The system setup and interferometric signal processing are also presented for evaluating the system parameters, i.e. measurement uncertainty, resolution and the range of measurable film thickness.
4
Stężenia i ładunki wybranych związków azotu w ciekach zlewiska Zatoki Puckiej
Bogdanowicz R., Krajewska Z.
Gospodarka Wodna
|
2011
|
Nr 2
72-77
PL
Artykuł prezentuje analizę zmian poziomu stężeń i wielkości ładunków związków azotu w ciekach zlewiska Zatoki Puckiej. W pracy wykorzystano wyniki pomiarów jakości wody oraz przepływów wykonanych w latach hydrologicznych 2006-2008. Spośród związków azotu badano: azot amono-wy, azot azotynowy, azot azotanowy oraz azot ogólny. Na podstawie przeprowadzonych badań stwierdzono, że stężenia badanych form azotu kształtowały się na stosunkowo niskim poziomie, za wyjątkiem najmniejszego z badanych cieków - Potoku Błądzikowskiego. Największym ładunkiem jednostkowym azotu i jego związków cechowało się natomiast dorzecze Redy, choć nie były to wartości odbiegające od poziomu obserwowanego w większości zlewni rzek Przymorza.
EN
The article presents an analysis of the nitrogen compounds concentration levels and loads variations in the Pucka Bay catchment area watercourses. The document uses the results of water quality and flow measurements carried out in the hydro- logical years 2006-2008. The following nitrogen compounds were examined: ammonia nitrogen, nitrite nitrogen, nitrate nitrogen and total nitrogen. The analysis indicated that concentrations of the examined forms of nitrogen remained on a relatively low level, except for the smallest of the analysed watercourses - Potok Błądzikowski. The largest unit load of nitrogen and its compounds was to be found in the Reda river basin, although those values were not far from the level observed in the majority of Przymorze rivers' catchment areas.
5
Optoelektroniczny system przestrzennego monitoringu wzbudzenia plazmy w procesach syntezy optycznych warstw diamentopodobnych
Bogdanowicz R.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2010
|
Vol. 51, nr 1
45-47
PL
Przedmiotem pracy jest optoelektroniczny system do badania wzbudzenia plazmy mikrofalowej w procesie syntezy warstw DLC (ang. Diamond Like-Carbon). W komunikacie zaprezentowano budowę systemu do przestrzennego monitoringu stanu wzbudzenia plazmy podczas procesu CVD. System SR-OES (ang. Spatially Resolved Optical Emission Spectroscopy) umożliwia określanie rozkładu wzbudzenia cząstek w przestrzeni komory i na tej podstawie wybrania optymalnego położenia podłoża oraz prądów cewek ECR.
EN
The main topic of article is optoelectronic system dedicated for plasma diagnostics during DLC layer synthesis. The setup of spatially resolved plasma excitation monitoring system is presented in this paper. SR-OES system enables investigations of distributions of species excitations in the area of chamber, what leads to optimal selection of substrate holder position and ECR coils configuration. The SR - OES monitoring results shows high concentrations of ionized species and non-linear progress of excitation and ionization reactions. It proves the previously obtained molecular modeling.
6
Monitoring ramanowski wzrostu cienkich warstw węglowych : studium
Gnyba M., Kozanecki M., Wroczyński P., Bogdanowicz R.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2010
|
Vol. 51, nr 9
113-116
PL
Przedstawiono zagadnienie monitorowania in-situ próżniowego procesu wzrostu cienkich warstw węglowych, w szczególności diamentowych i diamentopodobnych DLC. Zastosowanie pomiarów ramanowskich umożliwia zbadanie struktury warstwy na poziomie molekularnym (zawartości faz węglowych: sp² i sp³, a także defektów wodorowych). Użycie spektroskopii ramanowskiej in-situ podczas procesu syntezy pozwala monitorować poprawność przebiegu procesu i opracować wytyczne do jego optymalizacji. W artykule przedstawiono konfiguracje układów optycznych, problemy doboru długości fali lasera oraz rezulaty prac eksperymentalnych
EN
In this paper we present selected problems referred to Raman in-situ monitoring of growth of carbon-based thin layers, especially - of diamond and diamond-like-carbon layers. Aplication of Raman measurements enables investigation of molecular composition of the layer (content of sp² and sp³ hybrydised carbon as well as presence of C-H defects). In-situ Raman monitoring enables also investigation of process progress and provides data useful for its optimisation. Setups of optical systems used in Raman spectroscopy, problems of exciation wavelengths selection and results experimental work are shown.
7
Content available remote Optoelectronic system for investigation of CVD diamond/DLC layers growth
Wroczyński P., Bogdanowicz R., Gnyba M.
Advances in Materials Science
|
2009
|
Vol. 9, nr 3(21)
47-53
EN
Development of the optoelectronic system for non-invasive monitoring of diamond/DLC (Diamond-Like-Carbon) thin films growth during ěPA ECR CVD (Microwave Plasma Assisted Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapour Deposition) process is described. The system uses multi-point Optical Emission Spectroscopy (OES) and long-working-distance Raman spectroscopy. Dissociation of H2 molecules, excitation and ionization of hydrogen atoms as well as spatial distribution of the molecules are subjects of the OES investigation. The most significant parameters of the deposited film like molecular composition of the film can be investigated by means of Raman spectroscopy. Results of optoelectronic investigation will enable improvement of CVD process parameters and synthesized DLC films quality.
8
Content available System optoelektroniczny do kontroli procesów ΜPA CVD
Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P., Leśniewski M.
Pomiary Automatyka Kontrola
|
2008
|
R. 54, nr 3
87-90
PL
Przedstawiono prototyp optoelektronicznego systemu do monitorowania in-situ procesu CVD, wspomaganych plazmą mikrofalową. System składa się z układu optycznej spektroskopii emisyjnej OES oraz specjalizowanego spektroskopu ramanowskiego RS. Umożliwia on równoczesne monito-rowanie składu plazmy oraz określanie dynamiki wzrostu i zawartości defektów warstwy. Przedstawiono wyniki badań przebiegu procesu wytwarzania warstw diamentopodobnych DLC. Wyniki monitorowania mogą być wykorzystywane do sterowania procesem.
EN
Prototype of optoelectronic monitoring system dedicated for in-situ diagnostics of microwave plasma assisted CVD processes was presented in this paper. The system uses optical emission spectroscopy OES and long-working-distance Raman spectroscopy RS. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and nucleation processes in the growing layer (growth ratio, phase defects). Thus, correlation between process parameters, plasma composition and layer quality can be determined. Results of investigation carried out for thin diamond-like-carbon DLC films synthesis process were presented. Obtained results can be used for efficient control of CVD process.
9
Optoelektroniczne narzędzia do badania in-situ przebiegu procesu syntezy cienkich warstw diamentopodobnych
Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2008
|
Vol. 49, nr 11
80-83
PL
W artykule przedstawiono optoelektroniczny system do diagnostyki in-situ plazmowych procesów CVD, do wytwarzacienkich warstw diamentopodobnych. W systemie zastosowano rzestrzenną optyczną spektroskopię emisyjną SR-OES i spektroskopię ramanowską. Pozwala to na jednoczesne badanie rozkładu cząstek w plazmie i parametrów rosnącej warstwy. Opisano konstrukcję systemów pomiarowych, sprzegniętych z komorą CVD za pomocą dedykowanych torów światłowodowych. Zaprezentowano wyniki prac eksperymentalnych i interpretację danych pomiarowych.
EN
Optoelectronic system dedicated for in-situ diagnostics of plasma assisted CVD processes is presented in this paper. The system uses spatially resolved optical emission spectroscopy OES and Raman spectroscopy. Such an approach enables simultaneous investigations of particle composition of the plasma and performance of the growing layer. Design of measurement systems coupled with CVD chamber by dedicated fiber-optic paths is described. Results of experimental works are presented and analysis of obtained data is given.
10
WOPT - uniwersalny system do analizy i symulacji widm optycznych cienkich struktur dielektrycznych
Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P., Torliński L.
Zeszyty Naukowe Wydziału ETI Politechniki Gdańskiej. Technologie Informacyjne
|
2007
|
T. 14
573-580
PL
Przedstawiono system WOPT umożliwiający symulację złożonych, dielektrycznych powłok cienkowarstwowych. Oprogramowanie służy zarówno do projektowania specjalistycznych wielowarstwowych powłok optycznych jak i do kontroli parametrów gotowych produktów cienkowarstwowych. Za pomocą programu można wykonać analizę grubości oraz optycznych parametrów materiałowych powłok dielektrycznych na postawie wykonanych pomiarów spektralnych. Wykonano badania efektywności algorytmu dla rzeczywistych pomiarów spektrometrycznych. Potwierdzono możliwość wyznaczania grubości struktur umieszczonych w próżni, w cieczach oraz osadzonych na podłożach o różnej grubości. Wykonano badania wpływu parametrów algorytmu na szybkość i dokładność obliczeń widm optycznych, grubości oraz optycznych parametrów warstw.
EN
The WOPT software enabling the simulation optical spectrums of thin dielectric layers was described. The soft-ware serves both for designing specialist multilayered optical covers and for the control of parameters of thin-layered products. With the help of the program it is possible to carry out analysis of the thickness and optical solid material dielectric covers of spectral measurements on the attitude carried out. Examining the effectiveness of the algorithm was carried out using spectral measurements. The possibility of estimation of the thickness of structures was confirmed in the vacuum, in liquids and prisoners on different substrates with the various thicknesses. The influence investigation of parameters of the algorithm on the speed and the accuracy of calculations of optical spectrums, thickness and solid optical a layers were made.
11
Synteza warstw diamentowych do zastosowań optoelektronicznych
Wroczyński P., Gnyba M., Herman A., Bogdanowicz R.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2007
|
Vol. 48, nr 9
42-45
PL
Diamenty stosowane w optoelektronice i sensoryce syntetyzowane są w próżni przy użyciu plazmy niskotemperaturowej. Nanostruktury powstają przez wzrost struktur z molekuł, a nawet atomów. Wytwarzanie nanostruktur wymaga precyzyjnego monitoringu procesu syntezy. Optoelektroniczne metody pomiarowe zapewniają kontrolę wzrostu warstw oraz ocenę in-situ parametrów materiałowych. Przedstawiono optoelektroniczne metody badania przebiegu procesu syntezy warstw diamentowych i DLC: spektroskopię ramanowską oraz optyczną spektroskopię emisyjną.
EN
Diamonds for optoelectronics and sensor applications are synthesised in vacuum process using low-temperature plasma. Nanostructures grow from molecules or even from atoms. Manufacturing of nanostructures requires precise monitoring of the synthesis process. Optoelectronic measurement methods enable control of the films growth as well as in-situ investigation of the material parameters. In this paper, we presented optoelectronic methods which can be used in investigation of synthesis process of diamond and DLC films: Raman spectroscopy and optical emission spectroscopy.
12
Content available Raman modular system with fibre-optic probes for remote monitoring of CVD process
Gnyba M., Bogdanowicz R., Wroczyński P.
Problemy Eksploatacji
|
2006
|
nr 4
115-127
EN
Dedicated Raman system was designed for in-situ monitoring of thin film growth in CVD (chemical vapour deposition) process. Review of monitoring requirements and limiting factors is given in this paper. Computer simulation of laser beam propagation in the CVD chamber and the thin film was carried out. Components for Raman optical probes and their configuration were selected using results of the modelling. Ex-situ investigation of the thin films enabled determination of the Raman scattering intensity. The prototype of the modular Raman system using fibre-optic probes was built. Efficiency of optical signal transmission through the probes was tested.
PL
W artykule przedstawiono projekt systemu ramanowskiego do monitorowania in-situ wzrostu cienkich warstw w procesie CVD i analizę związanych z tym problemów metrologicznych. Na podstawie wyników modelowania komputerowego wprowadzania wiązki laserowej do komory i jej propagacji w cienkiej warstwie wytypowano optymalną konfigurację optyczną systemu ramanowskiego i określono parametry optyczne jego elementów. Zbudowano prototyp modułowego wyposażonego w sondy światłowodowe. Wykonano pomiary wstępne obejmujące badania ex-situ generacji sygnału ramanowskiego w wybranych materiałach oraz testy sondy nadawczej na stole optycznym.
13
Content available remote Sezonowa zmienność transportu azotanów w rzekach Przymorza
Bogdanowicz R.
Przegląd Geofizyczny
|
2005
|
Z. 3-4
249-263
EN
In the paper seasonal patterns of nitrate nitrogen loads were analysed for the selected Polish coastal rivers in the period often hydrologic years 1989-1998. Records of nutrient concentrations and water discharges acquired from the Institute of Meteorology and Water Management (IMGW) and the State Inspectorate of Environment Protection (PIOS) were used in the research. The analysis proved that changes in river transport of nitrate nitrogen showed well-expressed seasonal patterns that corresponded with hydrological regimes of the rivers. Nitrogen loads were the highest in winter half-year (November-April), especially during snow-melting period in March. The lowest loads occurred in summer months, mostly in July and August, when river flows and nitrates concentrations were the lowest. During winter half-year on average about 70% of the total annual load of nitrate nitrogen was transported by the Polish coastal rivers.
14
Zanieczyszczenie rzek Przymorza związkami azotu
Bogdanowicz R.
Gospodarka Wodna
|
2005
|
Nr 8
323-328
PL
W artykule przeprowadzono analizę Długookresowych zmian poziomu zanieczyszczenia wybranych rzek Przymorza związkami azotu w okresie 1989-2000. W badaniach wykorzystano wyniki pomiarów jakości wody oraz przepływów uzyskanych z Państwowej Inspekcji Ochrony Środowiska oraz z Instytutu Meteorologii i Gospodarki Wodnej. Spośród związków azotu badane były: azot amonowy, azot azotanowy, azot azotynowy, azot organiczny oraz azot ogólny. Na podstawie wyników badań przedstawiono wnioski dotyczące trendów zmian poziomu zanieczyszczenia wód związkami azotu w badanym okresie i ich przyczyn.
EN
In the paper there is presented an analysis of long-term changes in the level of pollution of Pomeranian rivers by nitrogen compounds in the period 1989-2000. In the investigation have been utilized results of water quality measurements and data on flow values received from the State Inspectorate of Environment Protection and from the Institute of Meteorology and Water Management. The measurements of concentration of nitrogen compounds comprised: ammonium nitrogen, nitrate nitrogen, nitrite nitrogen, organic nitrogen and total nitrogen. On the basis of results of investigation there are presented conclusions concerning trends of changes in the level of pollution of river water by nitrogen compounds in the mention above period and reasons for those changes.
15
Pomiary grubości cienkich warstw metodą modulacji chromatycznej
Bogdanowicz R.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2004
|
Vol. 45, nr 6
22-24
PL
Optyczna metoda chromatycznej modulacji to nieskomplikowana i nieinwazyjna technika pomiarów grubości cienkich warstw. Oparta jest na analizie widmowej światła odbitego od cienkowarstwowej próbki. Przedmiotem badań jest układ nazwany modulacją trójchromatyczną, w którym detekcja zachodzi w trzech pasmach. W wyniku modelowania wyselekcjonowano centralne długości fali pasm układu detekcji (450, 550, 650 nm). Układ przeznaczony jest do pomiarów grubości z przedziału od 100 nm do 1 um. Jako tor transmisji sygnału zastosowano w systemie pomiarowym wielowiązkową sondę światłowodową z układem soczewkowym. Wpływ istotnych, zewnętrznych zakłóceń technologicznych zminimalizowano stosując detekcję asynchroniczną.
EN
Chromatic modulation is a simple and non-invasive research technique for thin films thickness measurement. Presented methods is based on spectral analysis of light backreflected from the investigated structure. Author develop trichromatic modulation system dedicated for measurements carried out in the thickness range extending from 100 nm to 1 um. As a result of calculation central wavelength of three bands: (450, 550, 650 nm) were selected for this application. A fiber bundle and dedicated lens system was used to focus polychromatic light beam onto investigated film and to transmit backreflected light to the detection system. Influence of external interfering signals was avoided by the application of a coherent detection.
16
Optoelektroniczne metody pomiaru grubości cienkich transparentnych warstw wytwarzanych w procesach próżniowych
Bogdanowicz R., Gnyba M., Wroczyński P.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2004
|
Vol. 45, nr 2
25-31
PL
W artykule opisano problemy związane z określeniem grubości cienkich transparentnych warstw dielektrycznych, syntetyzowanych w procesach próżniowych. Przedstawiono stosowane metody pomiarowe, szczególny nacisk kładąc na techniki optoelektroniczne oparte na badaniu interferencji i zmiany stanu polaryzacji światła w wyniku oddziaływania z cienką warstwą oraz na analizie spektralnej.
EN
The paper describes problems that should be considered during the thickness investigation of thin, transparent, dielectric film, that are synthesized using vacuum systems. The most common used measurement methods are presented, but optoelectronic methods based on light interference on the sample spectral analysis and change of polarization of light illuminate the sample were the main topic.
17
Diagnostyka procesu CVD metodą optycznej spektroskopii emisyjnej
Wroczyński P., Gnyba M., Bogdanowicz R.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2004
|
Vol. 45, nr 10
17-18
PL
Zastosowano optyczną spektroskopię emisyjną do badania w trybie in-situ dysocjacji cząsteczek oraz wzbudzenia i jonizacji atomów wodoru podczas procesu syntezy cienkich warstw diamentowych metodą chemicznego osadzania par gazowych, wspomaganego plazmą mikrofalową (uPACVD).Tor światłowodowy umożliwia sprzęgnięcie komory CVD z systemem spektroskopowym i wykonywanie pomiarów bezinwazyjnych. Wykonano pomiary spektralne w zakresie światła widzialnego - bliskiej podczerwieni i zbadano zależność natężenia linii serii Balmera od parametrów procesu technologicznego.
EN
Optical Emission Spectroscopy (OES) was applied to in-situ investigation of hydrogen exciatation and ionization degree during Microwave Plasma Assisted Chemical Vapour Deposition (uPACVD) of thin diamond films. Fibre optic coupling between CVD chamber and spectroscopic system enables remote, non-invasive process monitoring. Authors made measurements in VIS-near UV range, thus investigating intensity of hydrogen lines assigned to Balmer serie as a function of CVD pocess parameters.
18
Content available remote Stan zanieczyszczenia wody związkami azotu w profilach ujściowych rzek Polski w świetle dostosowywania prawa polskiego do dyrektyw Unii Europejskiej
Bogdanowicz R.
Gaz, Woda i Technika Sanitarna
|
2003
|
Nr 10
326-328
19
Content available remote Raman investigation of sol-gel-derived hybrid polymers for optoelectronics
Gnyba M., Keranen M., Kozanecki M., Bogdanowicz R., Kosmowski B. B., Wroczyński P.
Opto-Electronics Review
|
2002
|
Vol. 10, No. 2
137-143
EN
A Raman spectroscopic study was carried out in order to investigate the synthesis process of organically modified silane (ORMOSIL) hybrid polymers. These materials were prepared for optoelectronic application, using the sol-gel technology. Our aim was to analyse the ability of Raman measurements to estimate the efficiency and correctness of particular stages of the technological process. To synthesise a hybrid for optical planar waveguides, denoted as GSiC, a system of 3-glycidoxypropyl-trimethoxysilane/methacryloxy-propyltrimethoxysilane (GPTS/ MPTS) was used as a precursor. To diagnose the first step – gelation – the Raman spectra of monomers and gel were recorded. Analysis showed that gelation parameters should be improved to in-crease the efficiency of monomers hydrolysis and epoxy ring opening in GPTS. After next two steps – deposition and hardening – Raman microscopy was used for the characterisation of polymer thin films. Information about the film thickness, open-ing of double C=C bonds in MPTS and types of bonds in organic and inorganic part was obtained. Raman spectroscopy proved its considerable potential in technological process diagnostics. A molecular structure of components can be con-trolled at relevant stages of the synthesis. This is necessary in order to design new materials on a molecular level and obtain required properties and good quality of the final product.
20
Diagnostyka ramanowska w procesie wytwarzania polimerów hybrydowych dla optoelektroniki
Gnyba M., Keränen M., Bogdanowicz R., Kozanecki M.
Elektronizacja : podzespoły i zastosowania elektroniki
|
2002
|
nr 4
5-9
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.