PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 10

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Content available Projekt techniczny i budowa platformy latającej typu quadrocopter
Bonisławski A., Juchniewicz M., Piotrowski R.
Pomiary Automatyka Robotyka
|
2014
|
R. 18, nr 1
91--97
PL
Jedną z licznych platform latających jest pojazd typu quadrocopter. Rozwój techniki pozwala na budowanie konstrukcji przemieszczających się w wielu osiach. W artykule przedstawiono projekt, wykonanie i oprogramowanie pojazdu typu quadrocopter. Dodatkowo dokonano filtracji sygnałów pomiarowych i opracowano algorytm sterowania.
EN
One of the many flying platforms is vehicle of type quadrocopter. The development of technique allows design and construction platforms for moving of several axes. The paper presents the project, construction and programming of flying platform type quadrocopter. Moreover, the filtering of measurements signals and control algorithm was developed.
2
Diody elektroluminescencyjne na bazie GaN z powierzchniowymi kryształami fotonicznymi
Gołaszewska K., Kruszka R., Myśliwiec M., Ekielski M., Jung W., Piotrowski T., Juchniewicz M., Bar J., Wzorek M., Kamińska E., Piotrowska A., Sarzała R. P., Dems M., Wojtas J., Mędrzycki R., Prystawko P.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2013
|
Vol. 54, nr 9
46-49
PL
W artykule omówiono proces technologiczny wytwarzania diody elektroluminescencyjnej Al(In)GaN/GaN o emisji promieniowania w zakresie 380…400 nm z maksimum dla 384 nm oraz dostosowanych do niej kryształów fotonicznych. Zastosowanie kryształu fotonicznego w formie współśrodkowych pierścieni o stałej sieci 3 μm i wypełnieniu 60% wytrawionych w strukturze DEL pozwoliło na ponad dwukrotny wzrost mocy promieniowania, ograniczenie stożka emisji ze 150 do 90° oraz uzyskanie pojedynczego maksimum emisji w kierunku normalnym do powierzchni diody.
EN
This communication describes the fabrication of an Al(In)GaN/GaN light emitting diode (LED) emitting in the range 380...400 um with a maximum at 384 um along with the fabrication of appropriate photonic crystals. The etching of photonic crystals with a concentric ring structure with a 3 μm lattice constant and 60% filling factor in the LED structure yielded a more than doubled radiation power, more focused radiation cone of 90 instead of the initial 150° and a single energy maximum normal to the LED surface.
3
Nanostemplowanie w zastosowaniu do wytwarzania struktur fotonicznych w GaN
Ekielski M., Sidor Z., Juchniewicz M., Płuska M., Wzorek M., Piotrowska A., Kolkovsky V., Żytkiewicz Z., Gruszka M., Kucharski R.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2012
|
Vol. 53, nr 9
16-19
PL
W pracy przedstawiono wyniki badań dotyczące wytwarzania priodycznych struktur w azotku galu przy pomocy techniki nanostemplowania oraz trawienia w plazmie o wysokiej gęstości. W eksperymencie posłużono się stemplami polimerowymi wykonanymi techniką nanostemplowania w trybie termicznym i UV. Matryce dla stempli wykonano przy użyciu techniki litografii laserowej oraz trawienia zogniskowaną wiązką jonową. Badania przeprowadzono na próbkach objętościowego azotku galu (Ammono) oraz warstwach epitaksjalnych na podłożach szafirowych (TopGaN) oraz krzemowym (111) (IF PAN). W eksperymencie zbadano wpływ warunków trawienia; przepływu BCI₃/CI₂, mocy RF oraz ICP, ciśnienia, jak i temperatury na jakość wzorów uzyskiwanych w GaN.
EN
The paper presents results of research on the fabrication of periodic structures in gallium nitride using nanoimprint technique and high density plasma etching. Polymer stamps made by nanoimprint technique using UV and thermal mode were used. The matrix for stamps were prepared with laser lithography technique and focused ion beam etching. The study was carried out on samples of bulk gallium nitride (Ammono) and epitaxial layers on sapphire substrates (TopGaN) and silicon substrates (111) (IF PAN). Influence of etching conditions: BCI₃/CI₂ flow, ICP and RF power, pressure and temperature on the quality of patterns obtained in GaN were investigated.
4
Bezkontaktowy konduktometr mikroprzepływowy z nowym rodzajem elektrod
Juchniewicz M., Dybko A.
Wiadomości Elektrotechniczne
|
2011
|
R. 79, nr 10
29-31
PL
Przedstawiono wyniki badań nad opracowaniem mikrodetektora konduktometrycznego z nowym rodzajem elektrod.
EN
The paper presents results research work on design of conductometric microdetector with electrodes of new type.
5
Optymalizacja procesu NIL pod kątem wytwarzania wzorów o wymiarach krytycznych 200 nm na krzemie o orientacji 100
Ekielski M., Sidor Z., Juchniewicz M., Płuska M., Piotrowska A.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2011
|
Vol. 52, nr 9
95-97
PL
Przeprowadzono badania mające na celu zoptymalizowanie parametrów procesu nanostemplowania w zastosowaniu do wytwarzania periodycznych wzorów pasków o wymiarach 200 nm. W eksperymencie posłużono się stemplem krzemowym wykonanym technikami litografii laserowej trawienia jonowego oraz trawienia zogniskowaną wiązką jonową. Badania przeprowadzono na podłożach krzemowych (100) o wymiarach 1x1 cm pokrytych warstwą rezystu mr-I 7020E o grubości 215 nm. W rezultacie otrzymano wzór pasków o głębokości równej 210 nm, co oznacza, iż grubość warstwy resztkowej wyniosła 5 nm.
EN
Optimization of NIL process parameters for fabrication of 200 nm periodic stripes pattern was carried out. In our experiment silicon stamp made by means of laser lithography. reactive ion etching on focused ion beam was used. As a substrate, (100) Si with dimensions of 1x1 cm² coated with mr-I 7020E resist with thickness of 215 nm was used. In result, stripes pattern with 210 nm depth was achieved. what indicates that residual layer thickness was equal 5 nm.
6
Wytwarzanie submikrometrowych wzorów techniką nanostemplowania
Ekielski M., Juchniewicz M., Pasternak I., Piotrowska A.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2010
|
Vol. 51, nr 9
106-108
PL
Praca prezentuje wyniki dotyczące wytwarzania submikrometrowych wzorów techniką nanostemplowania. Eksperyment przeprowadzono na 3" podłożach krzemowych oraz 5×5 mm podłożach kwarcowych. Zaprezentowano dwa warianty techniki nanostemplowania tj. termiczny i UV oraz omówiono podstawowe parametry charakteryzujące jakość odwzorowania.
EN
We report on submicrometer pattern fabrication using nanoimprint lithography. The experiments were performed on 3" silicon and 5×5 mm quartz substrates. We demonstrate two modes of nanoimprint lithography i.e. thermal and UV, and discuss the parameters determining the quality of pattern replication.
7
Szybka metoda wykonywania niebondowanych mikroukładów w technologii polimerowej
Juchniewicz M., Chudy M., Brzózka Z., Dybko A.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2008
|
Vol. 49, nr 6
75-76
PL
Zaprezentowano wyniki badań nad opracowaniem nowej technologii wykonywania niebondowanych przepływowych mikroukładów chemicznych. Z filmu kapilarnego w procesie fotolitografii wykonano matryce. Zostały one użyte w procesie odlewania do wykonania nowego typu niebondowanego mikroukładu. Niebondowane mikroukłady wykonano przez zatopienie w strukturze polimeru matrycy z emulsji filmu kapilarnego. Po usieciowaniu polimeru emulsję usunięto z jego struktury pozostawiając sieć mikrokanatów.
EN
The paper presents results of developing of a new technology for fabrication of bonding-less (B-Less) microfluidic chemical systems. The matrixes for the microsystem preparation were made of a capilla film. They were used in a moulding process for a fabrication of B-Le: microsystem. For the fabrication of B-Less microsystem an emulsk of a capillary film was moulded inside of a polymer block. After p lymer crosslinking the emulsion was removed from the block and the microchannels were formed.
8
Nowy typ przepływowego mikrokonduktometru bezkontaktowego
Juchniewicz M., Ekielski M., Chudy M., Brzózka Z., Dybko A.
Elektronika : konstrukcje, technologie, zastosowania
|
2008
|
Vol. 49, nr 6
87-88
PL
Przedstawione wyniki dotyczą prac nad konstrukcją mikrokonduktometru przepływowego z nowym typem elektrod. Opisano wykonanie mikrokonduktometrów z dwóch materiałów: szkła i polimeru oraz z połączenia tych materiałów. W konstrukcji wykorzystano i porównano ze sobą trzy rodzaje elektrod pomiarowych: srebrzone mikrokanały, mikrokanały wypełnione elektrolitem i mikrokanały jednocześnie posrebrzone i wypełnione elektrolitem. Działanie wykonanych mikrokonduktometrów sprawdzono podczas pomiarów przewodnictwa wzorcowych roztworów KCI o różnym stężeniu.
EN
Presented results apply for works on construction of microfluidic conductometer with a new type of electrodes. Fabrication of conductometer from two materials was described: glass, polymer and combination of both of these materials. For construction, three types of electrodes were applied and compared: silver plated microchannels, microchannels filled with an electrolyte and microchannels simultaneously silver plated and filled with an electrolyte. Fabricated microconductometers were tested during the measurements of standard solutions with a different KCI concentrations.
9
Content available remote Innovation activities of companies in Poland
Juchniewicz M.
Management
|
2005
|
Vol. 9, no. 1
93-100
EN
The article presents selected measures of innovativeness in Polish and foreign enterprises. Those comparisons indicate a relatively low extent of innovativeness in domestic enterprises. A systematic decrease in number of companies that have introduced innovations and those intending to introduce innovation in the nearest years is a concern. The paper high lights a relatively low level of expenditures on innovative activities, particularly research and development.
PL
W artykule przedstawiono wybrane mierniki innowacyjności przedsiębiorstw w Polsce i w krajach zachodnich. Porównania te wskazują na względnie niski poziom innowacyjności krajowych przedsiębiorstw. Niepokojącym zjawiskiem jest systematyczne zmniejszanie się w Polsce zarówno liczby przedsiębiorstw, które wprowadziły innowacje, jak i tych, które zamierzają wprowadzić je w najbliższych latach. Uwagę zwraca również stosunkowo niski poziom nakładów na działalność innowacyjną, a w szczególności nakładów na działalność badawczo-rozwojową.
10
Content available remote Informacje w działalności innowacyjnej przedsiębiorstw przemysłu spożywczego (studium przypadku)
Juchniewicz M.
Management
|
2004
|
Vol. 8, no 2
51-58
PL
Badane przedsiębiorstwa skoncentrowane były głównie na śledzeniu zachowań rynku lokalnego i regionalnego, z których czerpały informacje niezbędne do określenia kierunku, w jakim powinna zmierzać działalność innowacyjna. Źródła informacji najczęściej przez nie wykorzystywane to wyniki badań własnych, pokazy, wystawy, targi krajowe, oględziny wyrobów w punktach handlowych oraz informacje wynikające z umów o współpracy firm i uzyskane od znajomych z obcych firm. Były to zdaniem respondentów łatwo dostępne i aktualne informacje. Informacje emitowane do otoczenia dotyczyły samych przedsiębiorstw oraz ich nowych produktów. Przedsiębiorstwa jednomyślnie przyznały, że nowości wymagały zaprezentowania ich walorów konsumentom i pośrednikom. Analizowane przedsiębiorstwa utrzymują kontakty z konkurentami, jednak w niezbyt szerokim zakresie. Polegają one na wymianie doświadczeń oraz utrzymywaniu kontaktów ze sprzedawcami ich produktów.
EN
Researched enterprises were mainly concentrated on looking after behaviour of local and region al market, from which they extracted information essential for determination of direction, in what innovative activity should aim. The most often used sources of information were results of personal researches, shows, exhibitions, national trades, surveys of products in business points and also information from agreements about cooperation and familiars from other firms. In respondents opinion those information were simply available and current. lnformation issued to the environment concerned on enterprises themselves and on their new products. Enterprises unanimously have admitted that novelties required presenting their value for consumers and intermediaries. Analyzed enterprises kept contacts with competitors, however, in none too wide range. They rely on exchange of experience and on keeping contacts with vendors of their products.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.