PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 24

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
1
Content available remote Dyspersyjne wyroby budowlane
Czernik S.
Izolacje
|
2018
|
R. 23, nr 2
44--45
PL
Artykuł przedstawia właściwości i zastosowania dyspersyjnych wyrobów budowlanych. Są wśród nich dyspersyjne kleje do płytek ceramicznych, hydroizolacje jednoskładnikowe, kleje stosowane podczas ociepleń ścian metodą ETICS oraz gładzie polimerowe. Autor omawia liczne zalety stosowania tych preparatów, a także związane z tym ograniczenia. Artykuł uzupełnia przytoczenie norm europejskich związanych ze stosowaniem poszczególnych produktów.
EN
The article presents the properties and applicability of emulsion-based construction products. These include emulsion-based ceramic tile adhesives, one-component waterproofing agents, adhesives used for ETICS insulation of walls, and polymer-based smoothing underlayment agents. The author discusses the numerous advantages of applying these products and the related limitations. The article is complete with reference to the European standards related to the use of the specific types of products.
2
Content available remote Kleje do płytek na bazie białego cementu
Czernik S.
Izolacje
|
2017
|
R. 22, nr 6
82--84
PL
W artykule omówiono zalety klejów do płytek na bazie białego cementu portlandzkiego. Podano ogólne wskazówki co do stosowania tych materiałów. Wskazano na problem czasowych i trwałych przebarwień.
EN
The article presents a discussion of the advantages of white Portland cement-based dry set mortar products. General recommendations are given regarding application regimes for these materials. The issue of temporary and permanent staining is mentioned.
3
Content available remote Kleje do płytek ceramicznych – rodzaje i aspekty wykonawcze
Czernik S.
Izolacje
|
2017
|
R. 22, nr 10
36--39
PL
W artykule przedstawiono rodzaje klejów do płytek ceramicznych oraz niektóre aspekty prac glazurniczych w kontekście właściwości fabrycznie przygotowanych klejów do płytek. Podano klasyfikację klejów do płytek zgodnie z normą PN-EN 12004+A1:2012
EN
The article presents the types of dry set mortar for ceramic tiles, as well as certain aspects of tiling works in the context of factory made dry set mortar mixtures. There is also a presentation of dry set mortars classification according to PN-EN 12004+A1:2012.
4
Content available remote Gładzie na bazie spoiwa gipsowego
Hynowski M., Czernik S.
Materiały Budowlane
|
2016
|
nr 10
10--11
5
Content available remote Kleje do płytek ceramicznych – aspekty wykonawcze
Czernik S.
Izolacje
|
2016
|
R. 21, nr 11-12
58--60
PL
W artykule przedstawiono niektóre aspekty prac glazurniczych w kontekście właściwości fabrycznie przygotowanych klejów do płytek. Omówiono problem pylenia suchej mieszanki, zagadnienia związane z łatwością aplikacji, otwartym czasem pracy oraz spływem. Podano klasyfikację klejów do płytek zgodnie z normą PN-EN 12004+A1:2012.
EN
The article presents certain aspects of tiling works in the context of factory made dry set mortar mixtures. The following issues were discussed: dust produced by dry mixture, convenient application aspects, open working time, flow properties. There is also a presentation of dry set mortars classification according to PN-EN 12004+A1:2012.
6
Content available remote Analiza własności warstw CdS w zależności od parametrów procesu wytwarzania z wykorzystaniem napylania plazmowego
Grudniewski T., Czernik S., Lubańska Z., Chodyka M., Nitychoruk J.
Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury / Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture
|
2016
|
z. 63, nr 4
185--192
PL
W prezentowanym artykule, autorzy skupili się na analizie zmian wydajności ogniw fotowoltaicznych, których jednym z kluczowych składników jest CdS. Wykorzystując urządzenie do (napylania) sputteringu magnetronowego, autorzy podjęli próbę modyfikacji wybranych składników procesu nanoszenia warstw materiału. Celem wskazanego działania było zwiększenie wydajności ogniw, usprawnienie oraz obniżenie kosztów procesu produkcyjnego. Autorzy przebadali grupę wytworzonych przez siebie w różnych (wskazanych eksperymentem) warunkach ogniw, analizując ich wydajność w przypadku światła białego, wydajność względem długości fali oświetlającej oraz odnieśli otrzymane wyniki do zmian w topografii warstw CdS. Domniemywano, że podobnie jak w przypadku innych materiałów (autorzy we wcześniejszych pracach zajmowali się poprawą parametrów elektro-optycznych podłoży przewodzących), utrzymywanie procesu w możliwie wysokiej temperaturze spowoduje lepsze uporządkowanie struktury CdS a tym samym poprawę parametrów elektro-optycznych. Postanowiono zbadać, czy podobna zależność wpłynie na wydajność ogniwa fotowoltaicznego. Równolegle autorzy pracują nad technikami mającymi zmodyfikować topografię ogniw fotowoltaicznych w celu zwiększenia powierzchni czynnej. Postanowiono zatem zbadać przedstawione powyżej zagadnienia w możliwie najszerszy sposób.
EN
In this paper, the authors focused on the analysis of changes in the efficiency of photovoltaic cells, where one of the main components is CdS. Using the magnetron sputtering device, the authors attempted to modify the selected components during applying layers of material. The purpose of that experiment was to increase cell efficiency, streamlining and reducing the cost of the production process. The authors studied a group of 27 prepared photovoltaic cells, created in different (indicated by experiment) process conditions. The different effects was examined: the cell efficiency in the case of white light illumination, efficiency in relation to the wavelength of the illumination, and also the obtained results to changes in the topography of the CdS layer. It was alleged that, as in the case of other materials (the authors of the earlier work dealt with the improvement in performance electro-optical conductive substrates), keeping the process as possible high temperature will result in a better structuring of CdS and thus improving the performance of electro-optical devices. It was decided to investigate whether a similar relationship will affect the performance of the photovoltaic cell. In parallel, the authors are working on techniques having to modify the topography of photovoltaic cells to increase the active surface. It was therefore decided to examine the above issues in the widest possible way.
7
Content available Zastosowanie cienkich warstw metali i ich tlenków w preparatyce próbek do badań z zastosowaniem skaningowej mikroskopii elektronowej
Grudniewski T., Chodyka M., Czernik S., Plewik D.
TTS Technika Transportu Szynowego
|
2015
|
R. 22, nr 12
620--626, CD
PL
Skaningowa mikroskopia elektronowa wymaga aby próbka była przewodząca, lub pokryta warstwą przewodzącego materiału. Pomimo tego że złoto jest metalem najczęściej używanym do pokrywania próbek, jest także bardzo drogie, więc autorzy postanowili sprawdzić czy inne metale lub stopy metali będą nadawać się do pokrywania próbek. Próbki były pokrywane w procesie sputteringu magnetronowego przy pomocy urządzenia LINE 440 (Alliance Concept), a obserwacje przeprowadzone na mikroskopie Hitachi TM3000. Próbki były pokryte miedzią, stopem miedzi i galu, cyną i tlenkiem cyny. Obrazy otrzymane w czasie eksperymentu były porównywalne z próbkami pokrytymi złotem.
EN
Paper discussed the impact of alcohol on the psychophysical properties of human and its metabolism. Particular attention was paid to the influence of alcohol on driving ability. Authors proposed action to be taken to reduce.
8
Content available remote Ocena środowiskowa systemu ociepleń Atlas ETICS metodą LCA zgodnie z PN-EN 15804:2012
Czernik S.
Materiały Budowlane
|
2015
|
nr 1
32--33
9
Content available remote Wpływ trawienia plazmą na wybrane parametry cienkich warstw CdTe i SnO2 dla zastosowań fotowoltaicznych
Lichograj R., Olchowik J. M., Lichograj P., Czernik S.
Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury / Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture
|
2015
|
z. 62, nr 2
275--287
PL
Powszechnie wiadomo, iż w oddziaływaniu fotonów z materią może dojść do odbicia, absorbcji i przenikania. W rozwiązaniach fotowoltaicznych, możliwość pomiaru i kontroli tych zjawisk na poziomie badań i produkcji ma kluczowe znaczenie w odniesieniu do ich późniejszej wydajności. Możliwość kontroli grubości warstw w czasie ich nanoszenia metodą napylania magnetronowego, czy też ich redukowania stosując trawienie plazmą, pozwala na dobór optymalnych parametrów optycznych i elektrycznych tworzonych ogniw cienkowarstwowych. W niniejszej pracy trawiono plazmą cienkie warstwy CdTe i SnO2, naniesione we wcześniejszym etapie metodą rozpylania magnetronowego w próżni. Określono parametry technologiczne napylania magnetronowego i trawienia plazmą wpływające na właściwości warstw. Warstwy obrazowano przy użyciu AFM, natomiast pomiary grubości i pomiary współczynnika odbicia dokonano z wykorzystaniem elipsometrii. Przeprowadzone badania wykazały, że trawienie plazmą cienkich warstw w istotny sposób wpływa na zmianę ich refleksyjności (zarówno warstwy półprzewodnika ditlenku cyny jak i tellurku kadmu). Wykazano również ścisły związek użytej mocy i czasu trawienia z redukcją grubości warstwy. Obrazowanie AFM uwidoczniło zmiany w wielkości i ilości ziaren powierzchni trawionych warstw i wzrost ich nieregularności ułożenia, wraz ze zmieniającymi się parametrami procesu. Stwierdzono możliwość całkowitego usunięcia cienkich warstw w procesie trawienia plazmą i w efekcie możliwość uszkodzenia podłoża warstw trawionych co jednak wymaga dalszych badań w tym zakresie.
EN
It is well known that the reaction of photons with matter may lead to reflection, absorption and permeation. In the photovoltaic solutions, the ability to measure and control these phenomena at the level of research and production is crucial in terms of their performance and quality. The ability to control the thickness of the layers at the time of applying magnetron sputtering method or the plasma etching using a reduction allows for selection of the optimum optical and electrical parameters of the formed thin-layer cells. In this study, plasma was digested with thin layers of CdTe and SnO2, deposited by magnetron sputtering in a vacuum. Technological parameters of magnetron sputtering and plasma etching affecting the properties of layers have been specified. The layers were imaged using AFM, and the measurements of the thickness and reflectance measurements were made with the use of ellipsometry. The study showed the plasma etching of thin layers is an important contribution to change their reflectivity (both layers of semiconductors - tin dioxide and cadmium telluride). It was demonstrated the close relationship of the applied power and etching time with the reduction of the layer thickness. AFM imaging revealed changes in the size and number of grains etched surface layers and an increase of their irregular arrangement, together with changing process parameters. The possibility of complete removal of thin layers of plasma etching process, resulting in possible damage to the substrate etched layers has been stated, however, it requires further research in this area.
10
Content available remote Charakterystyka AFM cienkich warstw SnO2 uzyskanych podczas sputteringu magnetronowego przy wybranych warunkach procesu
Grudniewski T., Lubańska Z., Czernik S.
Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury / Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture
|
2015
|
z. 62, nr 2
99--106
PL
Mikroskopia sił atomowych (AFM-Atomic Force Microscopy) znajduje obecnie szerokie zastosowanie w dziedzinie charakteryzacji materiałów elektronicznych [1,2]. Oprócz precyzyjnego pomiaru topografii powierzchni z rozdzielczością umożliwiającą obserwowanie warstw atomowych, współczesne urządzenia tego typu oferują wiele dodatkowych możliwości, obejmujących badanie właściwości elektrycznych, magnetycznych jak i zmian zachodzących przy wahaniach temperatury. Jednym z zastosowań może być charakteryzacja otrzymanych warstw na podstawie obserwowanych obrazów struktur oraz powiązanie obserwowanej struktury z parametrami elektro-optycznymi. Szczególnie interesujące są struktury przewodzące prąd, przeźroczyste oraz takie, które absorbują jak najwięcej energii z padającego promieniowania [3-7]. Autorzy w niniejszej pracy wykonali badania metodą mikroskopii sił atomowych (AFM NT-MDT Ntegra Spectra C – Rys.1.) cienkich warstw SnO2 otrzymanych w procesie napylania w Line 440 Alliance Concept. Postanowiono zbadać zależności pomiędzy topografią warstw a temperaturą procesu napylania, ilością gazów biorących udział w procesie oraz równolegle własnościami elektrycznymi. Starano się odszukać zależności umożliwiające charakteryzowanie parametrów elektro-optycznych warstw SnO2 (uzyskiwanych w różnych temperaturach) w oparciu o obrazy pozyskane techniką AFM. Autorzy uważają, że badania struktur z wykorzystaniem AFM usprawnią dobór procesów napylania celem otrzymania oczekiwanych własności elektrycznych i optycznych. Otrzymane podczas prac rezultaty pozwalają na chwilę obecną skorelować własności elektro-optyczne warstw z ich topografią oraz procesami wytwarzania. Przeprowadzone eksperymenty pozwoliły w fazie finalnej na otrzyanie przezroczystych tlenków SnO2 o zakładanej rezystancji.
EN
Atomic force microscopy is one of the most popular method used in surface imaging. This method allows to measure the surface topography and determine the dimensions of the structures in the subatomic resolution [1]. Due to its properties, it can be applied to the measurement of conductors and semiconductor surfaces prepared in various processes. The experiment is focused on SnO2 and ITO thin layers which can be used as transparent electrodes [2]. The authors are trying to illustrate the correlation between process parameters - creation of semiconductor in magnetron sputtering by different process conditions (temperature and cooling process, gas pressure and composition), surface of the sample and its other electro-optical parameters. The authors of this research performed experiments using atomic force microscope (AFM NT-MDT Ntegra Spectra C - Fig.1.). SnO2 thin films were prepared in a sputtering system Line 440 Alliance Concept. It was decided to examine the relationship between the topography of the layers and the temperature of the sputtering process, the amount of gas involved in the process and parallel electrical properties. Attempts were made to find a relationship permitting the characterization of the electro-optical parameters SnO2 layer (obtained at different temperatures) based on the obtained AFM images. The authors believe that the study of structures using AFM facilitate the selection process in order to obtain the expected sputtering electrical and optical properties. Results obtained during the work permit at the moment correlate the electro-optical properties of the layers of their topography and manufacturing processes.
11
Content available remote Deklaracja środowiskowa III typu dla systemu ociepleń ATLAS ETICS
Danch A., Czernik S.
Materiały Budowlane
|
2014
|
nr 6
94--96
12
Content available remote Próba modyfikacji własności warstw otrzymywanych w procesie sputteringu magnetronowego z wykorzystaniem elementów sterowanych zewnętrznie
Grudniewski T., Czernik S., Lubańska Z., Lichograj R., Lichograj P.
Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury / Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture
|
2014
|
z. 61, nr 3/II
195--202
PL
Sputtering magnetronowy jest techniką napylania warstw zdobywającą coraz większe zainteresowanie w procesach wytwarzania elementów elektronowych i ogniw fotowoltaicznych. Celem prezentowanych w artykule prac badawczych, była analiza możliwości modyfikacji składu i topografii warstw otrzymywanych w procesie sputteringu magnetronowego z wykorzystaniem elementów sterowanych zewnętrznie. Rolą wprowadzonych do układu elementów zewnętrznych było zaburzenie procesu nanoszenia warstw. Zaburzenie nanoszenia warstw może skutkować pozytywnie, powodując większe uporządkowanie struktury warstwy lub bardziej jednolitą powierzchnię, lub negatywnie - całkowicie uniemożliwiając prawidłowe napylenie warstwy. Oba rezultaty są pożądane z punktu widzenia zastosowań produkcyjnych. Z jednej strony poszukuje się cienkich i jednolitych warstw, a z drugiej - warstw o zmodyfikowanej topografii. W czasie eksperymentów autorzy użyli siatek stalowych oraz przewodników miedzianych umieszczonych w wybranych odległościach od siebie jak i podłoża, a następnie napylali miedź na powierzchnię płytek ze szkła laboratoryjnego. Następnie próbki zostały przebadane przy pomocy mikrosondy wykrywającej skład atomowy substancji i mikroskopu sił atomowych celem analizy zmian w topografii. Autorzy spodziewali się otrzymać warstwy o zwiększonej powierzchni aktywnej. Zgodnie z przewidywaniami autorów otrzymane warstwy okazały się znacznie cieńsze. Interesujący jest natomiast fakt, że ich struktura była bardziej uporządkowana niż na próbce referencyjnej, a ich chropowatość znacznie mniejsza. Podczas eksperymentów nie doszło także do wybijania materiału z dodatkowych elementów wprowadzonych do układu.
EN
Magnetron sputtering is a technic to spray sheets that acquire more interests in electronics and photovoltaic fabrication. The aim of the research presented in present paper was to analyze the possibility of modifying of the layers obtained by the magnetron sputtering - using elements controlled externally. Those elements can modify obtained layers in two different ways: positive by greater orderliness of structure or more uniform surface, or negative causing gaps in sputtered coating. Both results are desirable from the applications point of view. On the one hand seeking to thin and uniform layers on the other layers of the modified topography. During the experiments, the authors used a wire mesh and copper conductors located in some distance from each other and the substrate. Then the samples were tested using the SEM microscope witch detection probe that allow to detect the layer composition substances and atomic force microscope for analysis of changes in topography. Authors hoped to achieve layers with greater active surface area. As authors suspected, sputtered layers were a lot thinner. Interesting fact is that their structure was a lot more ordered than the reference sample, and their roughness was smaller. During the experiment there was no material extraction from additional elements.
13
Content available remote System Atlas ROKER G: uniwersalne rozwiązanie do ocieplania stropów
Czernik S.
Materiały Budowlane
|
2013
|
nr 1
49-51
14
Content available remote Technologia wykonywania gładzi gipsowych
Czernik S.
Izolacje
|
2013
|
R. 18, nr 11-12
46--48
PL
W artykule omówiono rodzaje dostępnych na rynku tynków wewnętrznych z uwzględnieniem wyrobów przeznaczonych do uzyskania gładkiej powierzchni – gładzi gipsowych. Opisano sposób przygotowania podłoża oraz zaczynu gipsowego. Przedstawiono szczegóły różnych metod aplikacji oraz sposoby oceny jakości wykonanej gładzi.
EN
The article discusses the available in the market types of plaster for use in interiors taking into account the products designed to achieve a smooth surface – gypsum plaster. The method of surface and gypsum slurry preparation is described. Details of various application methods and ways to assess the quality of plaster were presented.
15
Content available remote Jak uzyskać gładkie ściany
Czernik S.
Izolacje
|
2012
|
R. 17, nr 7-8
44-45
PL
W artykule omówiono kwestie dotyczące wykonywania gładzi w zależności od rodzaju i stanu podłoża: na ścianach, które nie mają jednolitej płaszczyzny, na powierzchniach betonowych w budynkach z wielkiej płyty, na współcześnie wykonanych tynkach cementowo-wapiennych i gipsowych oraz na powierzchniach płyt gipsowo-kartonowych. Przedstawiono uwagi praktyczne dotyczące aplikacji gładzi.
EN
The article discusses issues related to the performance of finishing coats, depending on the type and condition of the substrate: on walls with uneven surface, on concrete surfaces in large-panel buildings, on contemporary cement-lime and gypsum plaster coatings, as well as on the surfaces of gypsum boards. It presents practical notes concerning the application of finishing coats.
16
Content available remote Gładzie - nowoczesne materiały wykończeniowe
Czernik S.
Izolacje
|
2012
|
R. 17, nr 3
58-59
PL
W artykule opisano rodzaje produktów nazywanych potocznie gładziami przeznaczone do uzyskiwania równej i gładkiej powierzchni ścian. Przedstawiono ich właściwości oraz obszary zastosowań. Omówiono kolejne etapy prac podczas nakładania gładzi.
EN
The article describes the types of products commonly referred to as finishing coats intended for obtaining even and smooth wall surfaces. It presents the properties of these materials, as well as the scope of their application. The article also contains a description of subsequent work stages of finishing coat spreading.
17
Content available remote Gładzie gipsowe - teoria i praktyka
Czernik S.
Izolacje
|
2012
|
R. 17, nr 6
46-48
PL
W artykule poruszono podstawowe kwestie związane ze stosowaniem gładzi gipsowych. Przedstawiono ich klasyfikację według normy PN-EN 13279:2009 oraz nazwy stosowane na określenie tych wyrobów. Dokonano przeglądu oferty handlowej producentów chemii budowlanej pod kątem stosowanych klasyfikacji. Opisano właściwości gładzi z uwzględnieniem aspektów wykonawczych.
EN
The article raises basic issues related to the use of gypsum finishing coats. It presents their classification in accordance with the PN-EN 13279:2009 standard, as well as the names used to describe these products. The article also contains an overview of commercial offers of the manufacturers of construction Chemicals with regard to their classifications in use. It describes the properties of finishing coats, taking into consideration contracting aspects.
18
Content available remote Złożone systemy izolacji cieplnej Atlas
Czernik S., Kulesza M., Matysik D., Michalak J.
Materiały Budowlane
|
2011
|
nr 1
70-74
19
Content available remote Jak wykonać gładkie ściany
Czernik S.
Izolacje
|
2011
|
R. 16, nr 7-8
50-50
PL
Do wygładzania powierzchni ścian i sufitów stosowane są zarówno gładzie gipsowe, jak i gipsy szpachlowe. Są to bardzo podobne wyroby, różniące się jednak zakresem stosowania i niektórymi parametrami technicznymi.
20
Content available remote Gładkie ściany i sufity, czyli jak aplikować gładzie
Czernik S.
Izolacje
|
2011
|
R. 16, nr 10
30-32
PL
Gładzie są wyrobami na bazie spoiwa gipsowego, naturalnego lub syntetycznego, bardzo drobno zmielonych wypełniaczy mineralnych oraz dodatków modyfikujących, które poprawiają plastyczność oraz regulują czas wiązania gotowej masy gipsowej. Przeznaczone są do prac wykończeniowych wewnątrz budynku, również w kuchniach i łazienkach, a ostatecznym efektem ich zastosowania jest bardzo gładka powierzchnia stanowiąca podłoże pod malowanie, rzadziej pod tapetowanie.
first rewind previous Strona / 2 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.