PL
 |
EN
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 3

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Morfologia powłok AlSn10 otrzymanych metodą rozpylania magnetronowego.
Drewnowska M., Tasak E., Jankowski H.
Inżynieria Materiałowa
|
1999
|
R. XX, nr 5
582-584
PL
W pracy zaprezentowano badania mające na celu określenie morfologii powłok AlSn10 otrzymanych metodą rozpylania magnetronowego. Ponieważ układ Al-Sn jest układem wzajemnie nie mieszającym się, przeprowadzona rentgenowska analiza fazowa nie wykazała istnienia w powłokach innych faz poza aluminium i cyną. Na podstawie obserwacji mikroskopowych i analiz EDX stwierdzono, że powłoki mają charakter wydzieleń cynowych w ciągłej osnowie aluminiowej. Wydzielenia cynowe występują w postaci cienkich płytek o nieregularnych kształtach, rozmieszczonych równolegle w stosunku do podłoża.
EN
The investigations of the morphology of AlSn10 films prepared by magnetron sputtering were presented in the paper. Whereas Al-Sn is immiscible system, X-ray analysis showed only presence of Al and Sn in investigated coating. SEM observations and EDX analysis showed that coatings were composed of continuous aluminium matrix with separated tin particles. The particles were thin lamellas with irregular shape, disposed nearly parallel to sample surface.
2
Content available remote Badanie korelacji między własnościami taśm i blach oraz wykonanych z nich rur spawanych
Tasak E., Ziewiec A., Adrian H., Drewnowska M.
Przegląd Spawalnictwa
|
1998
|
R. 70, nr 7
1-5
3
The morphology of AlSn20 films prepared by magnetron sputter deposition.
Drewnowska M., Tasak E., Borus E.
Inżynieria Materiałowa
|
1998
|
R. XIX, nr 4
1092-1095
EN
AlSn20 films were prepared by magnetron sputter deposition in an argon gas plasma. The films were obtained at different working pressures and contents of oxygen in vacuum chamber, as well as at different cathode - substrate distance and sputter rates. The observation of film morphology was carried out with the use of SEM. It was proved that distance cathode - substrate, content of oxygen and gas pressure in vacuum chamber exert significant effect on the morphology of AlSn20 films.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.