The new non-destructive, optical method for homogeneity of photovoltaic cells testing is presented. The uniformity of thickness and optical constants of the deposited large area electrodes (15.6*15.6 cm*cm) were measured by spectroscopic ellipsometry. The sputtering deposition equipment for metallic electrodes (Al, Mo) was designed and run. The ALD equipment was used for transparent electrodes deposition (ZnO:Al). Description of vacuum deposition systems as well as tests resultants are presented.
PL
Przedstawiono nową, nieniszczącą, optyczną metodę badania jednorodności ogniw fotowoltaicznych. Jednorodność grubości i stałych optycznych osadzonych elektrod o dużej powierzchni (15,6*15,6 cm*cm) zmierzono metodą elipsometrii spektroskopowej. Zaprojektowano i uruchomiono urządzenie do napylania jonowego elektrod metalicznych (Al, Mo). Do osadzania elektrod przezroczystych (ZnO:Al) zastosowano urządzenie ALD. Przedstawiono opis systemów do napylania próżniowego oraz wyniki badań.
2
Dostęp do pełnego tekstu na zewnętrznej witrynie WWW
This paper presents an integrated bench for Hall effect measurements consisting of a helium cryostat placed between the electromagnet poles with a field of 0.5 T and a control and measurement system, as well as control algorithm for different operating modes. The results of measurements of majority carrier concentration by van der Pauw method in the temperature range 165 K - 300 K for indium tin oxide (ITO).
PL
W artykule przedstawiono zintegrowane stanowisko do pomiaru efektu Hall’a składające się z helowego kriostatu umieszczonego między nabiegunnikami elektromagnesu o polu 0,5 T oraz systemu kontrolno-pomiarowego, a także algorytmu sterowania dla różnych modów pracy. Zaprezentowano wyniki pomiarów koncentracji nośników większościowych metodą van der Pauw’a w zakresie temperatur od 165 K do 300 K dla warstw tlenku indowo-cynowego (ITO).
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.