PL
 |
EN
Ograniczanie wyników
Czasopisma help
  1. 1 Karbo
Autorzy help
  1. 1 Falkowski L.
  2. 1 Rozpłoch F.
  3. 1 Ryczek R.
Lata help
  1. 1 1998
Preferencje help
Polish version English version Język
Widoczny [Schowaj] Abstrakt
Liczba wyników

Znaleziono wyników: 1

Liczba wyników na stronie
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
Wyniki wyszukiwania
help Sortuj według:

help Ogranicz wyniki do:
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
1
Cienkie warstwy polikrystalicznego diamentu otrzymane metodą HF CVD
Falkowski L., Ryczek R., Rozpłoch F.
Karbo
|
1998
|
Nr 1-2
71-73
PL
Przedstawiono parametry procesu HF CVD i jego odmiany. Zbadano wpływ domieszkowania i polaryzacji na jakość otrzymanych warstw za pomocą spektroskopii Ramana.
EN
Parameters of the HF CVD process (Hot Filament Chemical Vapour Deposition) and its modification were presented. The influence of doping and polarisation on the quality of received films by means of Raman spectroscopy was investigated.
first rewind previous Strona / 1 next fast forward last
JavaScript jest wyłączony w Twojej przeglądarce internetowej. Włącz go, a następnie odśwież stronę, aby móc w pełni z niej korzystać.